盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置与流程

1.本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置。


背景技术：

2.目前柔性手机盖板材料主要采用cpi(colorless polyimide)材料，但折叠屏幕的耐磨性易刮擦，表面塑胶触摸感及折痕现象方面有待提升。普通玻璃是脆性材料，但当玻璃厚度≤100μm时，玻璃具有了柔软性，可以弯曲卷绕，即同时具有柔韧性和一定刚性。目前超薄玻璃utg(ultra thin glass)有望成为新型折叠手机盖板的优选。但在屏幕弯折时，受到材料物理性质的限制，utg盖板仍具有玻璃易碎破裂的本质缺陷，会导致碎片飞溅的风险。
3.因此，亟需一种新的盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置。


技术实现要素：

4.本发明实施例提供了一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置，通过开槽能够为盖板本体弯折变形留出形变空间，避免应力集中。然而若只设置开槽，则形成开槽的那部分盖板本体在弯折时会受到更大的弯折应力，为了避免这种情况，本发明进一步在开槽内设置有填充介质，填充介质通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本发明实施例在填充介质包括多个磁性相同的磁性单元，磁性相同的磁性单元之间具有排斥力，磁性单元之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。
5.本发明实施例一方面提供了一种盖板组件，具有弯折区，所述盖板组件包括：盖板本体，位于所述弯折区的所述盖板本体的表面设有开槽；填充介质，填充于所述开槽内，所述填充介质包括多个磁性相同的磁性单元。
6.根据本发明的一个方面，所述盖板组件具有与所述弯折区相邻设置的平面区，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，所述开槽的深度小于或者等于位于所述平面区的所述盖板本体厚度的五分之三。
7.根据本发明的一个方面，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，位于所述平面区的所述盖板本体厚度为90μm～110μm；和/或，所述开槽的深度为50μm～70μm。
8.根据本发明的一个方面，所述磁性单元包括磁性颗粒以及多个围绕所述磁性颗粒均匀分布的金属分子配体，所述盖板本体处于弯折状态下，相邻的所述磁性单元受压交换所述金属分子配体；相邻的所述磁性单元之间的距离为20nm～600nm；所述填充介质中的所述磁性单元的体积占比大于或者等于25％。
9.根据本发明的一个方面，所述磁性单元的粒径为50nm～150nm。
10.根据本发明的一个方面，所述磁性颗粒包括磁性氧化铁，所述金属分子配体包括铁离子。
11.根据本发明的一个方面，在沿所述盖板本体的厚度的方向上，所述开槽的开口横
截面面积逐渐增大。
12.本发明实施例另一方面提供了一种盖板组件制备方法，包括以下步骤：提供待加工盖板本体；在所述待加工盖板本体的弯折区形成开槽；在所述开槽内填充填充介质，所述填充介质包括多个磁性相同的磁性单元。
13.根据本发明的另一个方面，所述填充介质包括胶体，所述磁性单元均匀分散于所述胶体中，在所述开槽内填充所述填充介质之后还包括：对所述填充介质进行固化。
14.本发明实施例又一方面提供了一种显示装置，包括：盖板组件，所述盖板组件为上述任一实施例所述的盖板组件；显示面板，所述盖板组件设于所述显示面板的出光侧。
15.与现有技术相比，本发明实施例所提供的盖板组件包括盖板本体和填充介质，填充介质填充于盖板本体位于弯折区的开槽内，当盖板本体向开槽所在一侧发生弯折时，由于在弯折区设置有开槽，通过开槽能够为盖板本体弯折变形留出形变空间，避免应力集中。然而若只设置开槽，则形成开槽的那部分盖板本体在弯折时会受到更大的弯折应力，为了避免这种情况，本发明进一步在开槽内设置有填充介质，填充介质通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本发明实施例在填充介质包括多个磁性相同的磁性单元，磁性相同的磁性单元之间具有排斥力，磁性单元之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体破碎的风险。
附图说明
16.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1是本发明实施例提供的一种盖板组件的结构示意图；
18.图2是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折前的磁性单元状态的结构示意图；
19.图3是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折过程中的磁性单元状态的结构示意图；
20.图4是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折后的磁性单元状态的结构示意图；
21.图5是本发明实施例提供的一种盖板组件制备方法的流程图。
22.附图中：
23.1-盖板本体；2-填充介质；3-磁性单元；31-磁性颗粒；32-金属分子配体；k-开槽；pa-平面区；wa-弯折区。
具体实施方式
24.下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理
解。
25.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
26.应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
27.在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在本发明中能进行各种修改和变化，这对于本领域技术人员来说是显而易见的。因而，本发明意在覆盖落入所对应权利要求(要求保护的技术方案)及其等同物范围内的本发明的修改和变化。需要说明的是，本发明实施例所提供的实施方式，在不矛盾的情况下可以相互组合。
28.本发明实施例提供了一种盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置，以下将结合附图图1至图5对盖板组件、盖板组件制备方法及显示装置的各实施例进行说明。
29.请参阅图1，图1是本发明实施例提供的一种盖板组件的结构示意图。盖板组件具有弯折区wa，盖板组件包括：盖板本体1，位于弯折区wa的盖板本体1的表面设有开槽k；填充介质2，填充于开槽k内，填充介质2包括多个磁性相同的磁性单元3。
30.本发明实施例所提供的盖板组件包括盖板本体1和填充介质2，填充介质2填充于盖板本体1位于弯折区wa的开槽k内，当盖板本体1向开槽k所在一侧发生弯折时(如图1中箭头所示弯折方向)，由于在弯折区wa设置有开槽k，通过开槽k能够为盖板本体1弯折变形留出形变空间，避免应力集中。然而若只设置开槽k，则形成开槽k的那部分盖板本体1在弯折时会受到更大的弯折应力，为了避免这种情况，本发明进一步在开槽k内设置有填充介质2，填充介质2通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力。但填充介质2通过自身的形变所吸收一部分的弯折应力有限，为了进一步降低因弯折产生的应力，本发明实施例的填充介质2包括多个磁性相同的磁性单元3，磁性相同的磁性单元3之间具有排斥力，磁性单元3之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体1破碎的风险。
31.需要说明的是，盖板本体1即采用透光率高的玻璃等材料制成的膜层，起到保护显示屏的作用，具体的，盖板本体1可以采用柔性材料制作，使盖板可以折叠，从而可应用于柔性、可折叠的显示模组，即具体的，盖板本体1可以采用utg(ultra thin glass，超薄柔性玻璃)、cpi(colorless polyimide，透明聚酰亚胺薄膜)、pet(polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)等透明、柔软、可折叠的材料制作，以实现盖板的可弯曲折叠，便于应用于可折叠的显示装置中。本发明实施例所提供的盖板组件均以盖板本体1采用utg(ultra thin glass，超薄柔性玻璃)为例进行说明。
32.填充介质2具体可以采用聚酰亚胺或者oca(optically clear adhesive，光学胶)等有机胶，其质地相对较软，且具有一定的弹性，能够有效吸收一部分的弯折应力，同时，由
于聚酰亚胺等胶体具有一定的粘性，能够更好的容纳固定磁性单元3，当然，填充介质2也还可以采用其他材料制成，并无特殊限定。
33.为了避免开槽k对盖板本体1的整体结构强度造成较大影响，在一些可选的实施例中，盖板组件具有与弯折区wa相邻设置的平面区pa，在沿盖板本体1的厚度的方向上，开槽k的深度小于或者等于位于平面区pa的盖板本体1厚度的五分之三。
34.可以理解的是，在开设有开槽k的这部分盖板本体1的厚度会变薄，其厚度小于未设置有开槽k的部分盖板本体1的厚度，开设有开槽k的这部分盖板本体1的厚度过薄而可能会影响盖板组件的使用寿命，且容易弯折受力破碎，因而在本实施例中，将开槽k的深度限制为小于或者等于平面区pa的盖板本体1厚度的五分之三，以保证开设有开槽k的这部分盖板本体1具有足够的厚度。可选的，在沿盖板本体1的厚度的方向上，位于平面区pa的盖板本体1厚度为90μm～110μm；和/或，开槽k的深度为50μm～70μm。具体的，当平面区pa的盖板本体1厚度为100μm时，开槽k的深度为60μm，即开设有开槽k的这部分盖板本体1的厚度为40μm，而未设置有开槽k的部分盖板本体1的厚度为100μm。可选的，开槽k的宽度小于或者等于8mm。
35.为了进一步提高盖板组件在弯折时的稳定性，在一些可选的实施例中，磁性单元3包括磁性颗粒31以及多个围绕磁性颗粒31均匀分布的金属分子配体32，盖板本体1处于弯折状态下，相邻的磁性单元3受压交换金属分子配体32。
36.需要说明的是，磁性颗粒31和金属分子配体32之间具有磁性吸引力，各个磁性颗粒31的磁性相同，使得各个金属分子配体32的磁性相同，各个金属分子配体32之间具有相互排斥力，进而使磁性吸引力和相互排斥力相互平衡，使得各个金属分子配体32围绕磁性颗粒31均匀分布。具体的，如图2所示，图2是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折前的磁性单元3状态的结构示意图，各个金属分子配体32位于第一轨道上均匀围绕磁性颗粒31均匀分布。当盖板本体1处于弯折状态下，磁性单元3受到外界压力，而使得磁性颗粒31和某些金属分子配体32之间的平衡被破坏，而导致金属分子配体32脱离对应磁性颗粒31的第一轨道，而向相邻的另一磁性颗粒31移动，如图3所示，图3是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折过程中的磁性单元3状态的结构示意图，即脱离原磁性颗粒31的金属分子配体32距离相邻的另一磁性颗粒31更近，因而相邻的另一磁性颗粒31对脱离原磁性颗粒31的金属分子配体32的磁性吸引力更大，以使脱离原磁性颗粒31的金属分子配体32重新围绕相邻的另一磁性颗粒31，呈现动态平衡，即盖板组件在不同的弯折程度下，因弯折应力的大小不同，发生位置交换的金属分子配体32的数量也会随之变化，即弯折程度越大，发生位置交换的金属分子配体32的数量越大，实现各磁性颗粒31和金属分子配体32之间的动态平衡，以提高弯折寿命。如图4所示，图4是本发明实施例提供的一种盖板组件弯折后的磁性单元3状态的结构示意图，极大程度上有利于弯折，避免弯折产生的应力快速集中。
37.可选的，相邻的磁性单元3之间的距离为20nm～600nm，相邻的磁性单元3之间的距离不宜过大，过大则可能会导致受力脱离原磁性颗粒31的金属分子配体32无法被相邻的另一磁性颗粒31所吸引，重新平衡。具体的，相邻的磁性单元3之间的距离可以为100nm。
38.在一些可选的实施例中，填充介质2中的磁性单元3的体积占比为25％～50％，可以理解的是，填充介质2中的磁性单元3的体积占比不宜过小，距离过小则磁性单元3的数量过少，导致磁性单元3所产生的斥力过小，不利于降低弯折应力。填充介质2中的磁性单元3
的体积占比也不宜过大，过大则可能会导致磁性单元3所产生的斥力过大，不利于盖板组件弯折。可选的，填充介质2中的磁性单元3的体积占比为30％。
39.在一些可选的实施例中，磁性单元3的粒径为50nm～150nm，磁性单元3的粒径不宜过大，以能够在填充介质2内设置足够多的磁性单元3，保证磁性单元3提供足够的斥力降低因弯折产生的应力。需要说明的是，磁性单元3的粒径可以理解为磁性颗粒31的中心到金属分子配体32中心之间的距离。可选的，磁性单元3的粒径为100nm。
40.为了实现磁性单元3的磁性以及金属分子配体32受压交换，在一些可选的实施例中，磁性颗粒31包括磁性氧化铁，金属分子配体32包括铁离子。可以理解的是，磁性氧化铁即磁性fe2o3，而铁离子具体可以是正3价铁离子，磁性fe2o3能够对正3价铁离子产生吸引力，以及正3价铁离子之间的相互排斥力，能够使正3价铁离子保持在磁性fe2o3周围固定轨道上。
41.为了更好的释放弯折应力，在一些可选的实施例中，在沿盖板本体1的厚度的方向上，开槽k的开口横截面面积逐渐增大。
42.可以理解的是，开槽k的底部横截面面积小于开槽k的顶部开口的横截面面积，盖板本体1是向开槽k的顶部开口所在一侧弯折，即盖板本体1在开槽k的顶部开口所在一侧的形变量以及弯折应力相对更大，将开槽k设置为在由盖板本体1设有开槽k的一侧表面指向相对的盖板本体1的另一侧表面的方向上，开口横截面面积逐渐增大的结构形式，能够更好的释放盖板本体1弯折时所产生的弯折应力。
43.可选的，开槽k呈梯形开槽，且开槽k的底部底角大于或等于120
°
，为盖板本体1弯折时的形变留出空间，便于盖板本体1进行弯折。
44.请参阅图5，图5是本发明实施例提供的一种盖板组件制备方法的流程图。本发明实施例还提供了一种盖板组件制备方法，包括以下步骤：
45.s110：提供待加工盖板本体1；
46.s120：在待加工盖板本体1的弯折区wa形成开槽k；
47.s130：在开槽k内填充填充介质2，填充介质2包括多个磁性相同的磁性单元3。
48.本发明实施例所提供的盖板组件制备方法，通过在开槽k内填充并固化填充介质2，填充介质2内形成有多个磁性相同的磁性单元3当盖板本体1向开槽k所在一侧发生弯折时，由于在弯折区wa设置有开槽k，通过开槽k能够为盖板本体1弯折变形留出形变空间，避免应力集中。同时，在开槽k内设置有填充介质2，填充介质2通过自身的形变也能够吸收一部分的弯折应力，而且，填充介质2包括多个磁性相同的磁性单元3，磁性相同的磁性单元3之间具有排斥力，磁性单元3之间的斥力可降低因弯折产生应力快速集中而导致盖板本体1破碎的风险。
49.在步骤s110中，待加工盖板本体1可以采用utg(ultra thin glass，超薄柔性玻璃)材料，具体可以为整面厚度为100μm、未经过强化的utg材料。
50.在步骤s120中，对待加工盖板本体1进行刻蚀以形成开槽k，具体可以采用干法刻蚀或湿法刻蚀，干法刻蚀和湿法刻蚀的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。优点是选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低。而干法刻蚀种类很多，包括光挥发、气相腐蚀、等离子体腐蚀等。干法刻蚀优点
是：各向异性好，选择比高，可控性、灵活性、重复性好，细线条操作安全，易实现自动化，无化学废液，处理过程未引入污染，洁净度高。在本实施例中可以根据实际情况选择干法刻蚀或湿法刻蚀。
51.在形成开槽k后，还可以对待加工盖板本体1进行化学强化，高温退火工艺，消除自身内部应力，使得经过强化的待加工盖板本体1具有高硬度特性。
52.在一些可选的实施例中，填充介质2包括胶体，磁性单元3均匀分散于胶体中，在开槽内填充填充介质之后还包括：对填充介质进行固化。胶体具体可以采用聚酰亚胺，其质地相对较软，且具有一定的弹性，能够有效吸收一部分的弯折应力，同时，由于聚酰亚胺等胶体具有一定的粘性，能够更好的容纳固定磁性单元3，当然，填充介质2也还可以采用其他材料制成，并无特殊限定。在填充介质2包括胶体时，需要对填充介质2进行固化，以避免填充介质2流动。需要说明的是，固化为本技术领域的通用技术，具体的固化温度和条件根据实际情况进行调整。
53.本发明实施例还提供了一种显示装置，包括：盖板组件和显示面板，盖板组件为上述任一实施例提供的盖板组件；盖板组件设于显示面板的出光侧。
54.本发明实施例提供的显示装置具有上述任一实施例中盖板组件的技术方案所具有的技术效果，与上述实施例相同或相应的结构以及术语的解释在此不再赘述。本发明实施例提供的显示装置可以为手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。
55.以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。
56.还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。