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旋风分离器的制作方法

2022-03-31 11:12:32 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种旋风分离器,其包括:分离室,进料入口,其通向所述分离室,下溢排出口,其从所述分离室引出,以及涡流探测器,所述涡流探测器包括:轴向布置的上游部分,其定位在所述分离室中,轴向布置的下游部分,其限定上溢排出口,以及排放开口,其限定在所述上游部分与所述下游部分之间,并且上溢流的一部分能通过所述排放开口从所述涡流探测器排放以从所述上溢流中去除过大颗粒,其中所述涡流探测器的所述上游部分和所述下游部分是共轴的,并且所述部分中的至少一个能相对于另一个轴向地移位,以允许所述涡流探测器的所述上游部分和所述下游部分的邻近端之间的间隔以及因此所述排放开口的尺寸能调节。2.根据权利要求1所述的分离器,其包含主体,所述主体具有一起限定所述分离室的顶部和侧壁,所述侧壁具有大体上圆柱形的上部部分和远离所述上部部分逐渐变细的截头圆锥形的下部部分,所述下溢排出口由附接到所述侧壁的所述下部部分的所述下端的沉砂口限定。3.根据权利要求1或权利要求2所述的分离器,其中所述进料入口被配置成大体上沿切线方向将流体馈送到所述分离室的所述顶部处或所述顶部附近,以在所述分离室中产生所述流体的旋流。4.根据权利要求3所述的分离器,其中所述涡流探测器的所述上游部分包含上游端和下游端,所述上游端定位在所述分离室中并且形成所述涡流探测器的入口端,所述涡流探测器的所述下游部分具有上游端和形成所述上溢排出口的下游端,所述排放开口限定在所述涡流探测器的所述上游部分的所述下游端与所述涡流探测器的所述下游部分的所述上游端之间。5.根据权利要求3或权利要求4所述的分离器,其中所述涡流探测器的所述上游部分和所述下游部分具有相同直径。6.根据权利要求5所述的分离器,其中所述涡流探测器的所述上游部分和所述下游部分能在其中所述排放开口闭合的闭合位置与其中所述排放开口处于其最大尺寸的完全打开位置之间移位。7.根据权利要求4至6中任一项所述的分离器,其中所述排放开口通向中间室,次级上溢口从所述中间室引出。8.根据权利要求7所述的分离器,其中所述中间室是环形的并且围绕所述涡流探测器。9.根据权利要求7或8所述的分离器,其中所述中间室由圆形顶部和从所述顶部下垂的侧壁限定。10.根据权利要求9所述的分离器,其中所述侧壁包含:圆柱形的上部部分,其从所述顶部下垂;以及截头圆锥形的下部部分,其从所述侧壁的所述上部部分的所述下端突出,使得其远离所述顶部逐渐变细。11.根据权利要求10所述的分离器,其中所述截头圆锥形的部分的自由端或下端连接
到所述涡流探测器的所述上游部分的所述下游端。12.一种操作旋风分离器的方法,所述旋风分离器包含分离室、通向所述分离室的进料入口、从所述分离室引出的下溢排出口以及涡流探测器,所述涡流探测器具有定位在所述分离室中的入口端和限定上溢排出口的出口端,所述入口端和所述出口端在其间限定排放开口,所述方法包含在所述涡流探测器的所述入口端与所述出口端之间的位置处从所述涡流探测器排出流经所述涡流探测器的上溢流的一部分,以从所述上溢流中去除过大颗粒,以及调节所述排放开口的尺寸。13.根据权利要求12所述的方法,其包含将从所述涡流探测器排放的所述上溢流的所述部分馈送到中间室中,中间排出开口从所述中间室引出。14.一种涡流探测器,其包括(i)入口端,其用于定位在旋风器的分离室中,(ii)出口端,其限定上溢排出口,以及(iii)排放开口,其在所述涡流探测器的所述入口端与所述出口端之间的位置处从所述涡流探测器引出,上溢流的一部分能通过所述排放开口从所述涡流探测器排放以从所述上溢流中去除过大颗粒,其中所述涡流探测器的所述入口端和所述出口端中的至少一个能相对于另一个轴向地移位,以允许所述涡流探测器的所述入口端和所述出口端的邻近端之间的间隔以及因此所述排放开口的尺寸能调节。15.一种自动旋风控制系统,其包括根据权利要求1至11中任一项所述的分离器;至少一个传感器,其用于测量所述分离器的下溢或上溢排出口的特性;致动器,其用于控制所述分离器的涡流探测器中的排放开口的打开和闭合;以及控制器,其用于响应于由所述至少一个传感器记录的测量值而控制所述致动器。16.根据权利要求15所述的自动旋风控制系统,其中所述致动器包括电螺线管或液压螺线管。

技术总结
一种旋风分离器(10)包括分离室(14)、通向所述分离室的进料入口(16)以及从所述分离室引出的下溢排出口(18)。所述旋风分离器进一步包括涡流探测器(20),所述涡流探测器具有定位在所述分离室中的入口端、限定上溢排出口的出口端以及由所述涡流探测器的所述入口端和所述出口端限定的排放开口(48),并且上溢流的一部分可通过所述排放开口从所述涡流探测器排出以从所述上溢流中去除过大颗粒。出以从所述上溢流中去除过大颗粒。出以从所述上溢流中去除过大颗粒。


技术研发人员:钱德拉纳特
受保护的技术使用者:韦尔矿物非洲(私人)有限公司
技术研发日:2020.08.18
技术公布日:2022/3/29
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