描画系统的制作方法

技术特征：
1.一种描画系统，对基板进行描画，其中，具备：图案描画部，对在下方水平移动的基板的上侧主面照射光来描画图案；第一搬运机构，具备第一基板保持部以及在所述图案描画部的下方水平移动所述第一基板保持部的第一移动机构；第一标记描画部，对由所述第一基板保持部保持的基板的下侧主面照射光，来描画与所述第一搬运机构相关联的第一定位标记；第二搬运机构，具备第二基板保持部以及在所述图案描画部的下方水平移动所述第二基板保持部的第二移动机构；以及第二标记描画部，对由所述第二基板保持部保持的基板的下侧主面照射光，来描画外观与所述第一定位标记不同的与所述第二搬运机构相关联的第二定位标记。2.根据权利要求1所述的描画系统，其中，还具备：存储部，预先存储第一位置关系信息和第二位置关系信息，所述第一位置关系信息表示对由所述第一搬运机构搬运的基板由所述图案描画部在上侧主面描画的图案和由所述第一标记描画部在下侧主面描画的所述第一定位标记之间的相对的位置关系，所述第二位置关系信息表示对由所述第二搬运机构搬运的基板由所述图案描画部在上侧主面描画的图案和由所述第二标记描画部在下侧主面描画的所述第二定位标记之间的相对的位置关系；以及描画控制部，控制所述图案描画部，所述描画控制部在由所述图案描画部在描画有所述第一定位标记的主面描画图案时，基于所述第一位置关系信息调整描画位置，在由所述图案描画部在描画有所述第二定位标记的主面描画图案时，基于所述第二位置关系信息调整描画位置。3.根据权利要求1所述的描画系统，其中，所述第一标记描画部具备第一掩模部，所述第一掩模部使来自光源的一部分光通过，所述第二标记描画部具备第二掩模部，所述第二掩模部具有与所述第一掩模部不同的开口，使来自光源的一部分光通过。4.根据权利要求1所述的描画系统，其中，所述第一定位标记和所述第二定位标记是非相似形状。5.根据权利要求1所述的描画系统，其中，所述第一定位标记是表示与所述第一搬运机构相关的信息的条形码，所述第二定位标记是表示与所述第二搬运机构相关的信息的条形码。6.根据权利要求1至5中任一项所述的描画系统，其中，所述图案描画部具备：描画头，朝向下方照射光；以及描画头移动机构，将所述描画头在所述第一搬运机构的上方的第一描画位置和所述第二搬运机构的上方的第二描画位置之间移动。

技术总结
本发明提供一种描画系统，第一标记描画部在由第一载物台(21a)保持的基板(9)的下侧主面上描画第一定位标记。第二标记描画部在由第二载物台(21b)保持的基板(9)的下侧主面上描画第二定位标记。第二定位标记的外观与第一定位标记不同。因此，通过观察在基板(9)的另一个主面描画的定位标记，可以容易判别对基板(9)的一个主面描画图案时利用的搬运机构。由此，可以在考虑描画图案时利用的搬运机构所特有的正面和背面位置关系来调整描画位置的基础上，在基板(9)的另一个主面上描画图案。结果，可以提高在基板(9)的两侧主面上描画的图案的相对的位置精度。相对的位置精度。相对的位置精度。


技术研发人员：早川直人 原望
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2021.08.26
技术公布日：2022/3/29