一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置的制作方法

1.本实用新型涉及蚀刻槽技术领域，特别是涉及一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置。


背景技术：

2.蚀刻槽进行蚀刻生产时，蚀刻槽内的蚀刻液其浓度会逐渐降低，常规情况下，通常一个蚀刻槽进行六组左右产品生产后，需要调整蚀刻液浓度，蚀刻槽暂停生产，上述的操作会大大影响生产效率，为了解决上述问题，设计一种能够补充蚀刻液浓度的装置是非常有必要的。


技术实现要素：

3.本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，通过补充氯离子量保证三氯化铁蚀刻液浓度，确保蚀刻反应速度，确保生产效率。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，包括蚀刻槽盖、纵向输送管和竖直输出管，所述的蚀刻槽盖上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖的竖直输出管，竖直输出管的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管，两个纵向输送管后端之间设置有横向输送管，横向输送管中部后侧设置有对接管，所述的竖直输出管下端安装有扩散罩。
5.作为对本技术方案的一种补充，所述的扩散罩上设置有若干个孔位。
6.作为对本技术方案的一种补充，所述的蚀刻槽盖中部设置有下端穿过蚀刻槽盖的电机，所述的电机的主轴竖直朝下，所述的主轴下端安装有搅拌块。
7.作为对本技术方案的一种补充，所述的搅拌块下部设置有呈半圆形且竖直布置的搅拌叶轮。
8.作为对本技术方案的一种补充，所述的电机上端设置有控制面板，所述的控制面板上设置有按压式按钮。
9.作为对本技术方案的一种补充，所述的蚀刻槽盖下部设置有定位台阶，所述的定位台阶外侧设置有一圈密封圈。
10.作为对本技术方案的一种补充，所述的过滤孔外圈上设置有一圈环形锥面。
11.有益效果：本实用新型涉及一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，具体有益效果如下：
12.(1)、本技术方案通过设置横向输送管、纵向输送管和竖直输出管，将氯气罐内的氯气送入到蚀刻液内，将蚀刻液内的二氯化铁再次氧化成三氯化铁，使得蚀刻液能够进行正常反应，延长蚀刻液的使用时间，提高蚀刻液利用率，确保生产效率；
13.(2)、本技术方案中通过设置电机和搅拌块，确保蚀刻液与氯气充分融合，同时通过设置密封圈，避免氯气泄漏，通过设置扩散罩，提高蚀刻液与氯气的接触面积。
附图说明
14.图1是本实用新型的主视图；
15.图2是本实用新型的俯视图；
16.图3是本实用新型所述的搅拌块的结构视图。
17.图示：1、蚀刻槽盖，2、控制面板，3、纵向输送管，4、横向输送管，5、对接管，6、电机，7、竖直输出管，8、定位台阶，9、密封圈，10、扩散罩，11、搅拌块，12、主轴，13、搅拌叶轮，14、按压式按钮。
具体实施方式
18.下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解，在阅读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
19.本实用新型的实施方式涉及一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，如图1—3所示，包括蚀刻槽盖1、纵向输送管3和竖直输出管7，所述的蚀刻槽盖1上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖1的竖直输出管7，竖直输出管7的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管3，两个纵向输送管3后端之间设置有横向输送管4，横向输送管4中部后侧设置有对接管5，所述的竖直输出管7下端安装有扩散罩10。
20.本技术方案进行工作的时候，蚀刻槽已经完成六组左右的产品的加工，此时蚀刻液需要氯离子补充，将产品取出，之后将蚀刻槽盖1安装在蚀刻槽上开口内，之后打开与对接管5对接的氯气罐，根据氯气罐上的指示器，输入一定氯气，之后关闭氯气罐阀门，按下控制面板2上的按压式按钮14，启动电机6，电机6的主轴12带动搅拌块11转动，搅拌块11通过搅拌蚀刻液，加速蚀刻液与氯气反应，完成后打开蚀刻槽盖1，完成氯离子补充。
21.本技术方案大大减少了蚀刻液的更换频率，提高产品生产效率。
22.作为对本技术方案的一种补充，所述的扩散罩10上设置有若干个孔位。
23.作为对本技术方案的一种补充，所述的蚀刻槽盖1中部设置有下端穿过蚀刻槽盖1的电机6，所述的电机6的主轴12竖直朝下，所述的主轴12下端安装有搅拌块11。
24.作为对本技术方案的一种补充，所述的搅拌块11下部设置有呈半圆形且竖直布置的搅拌叶轮13。
25.作为对本技术方案的一种补充，所述的电机6上端设置有控制面板2，所述的控制面板2上设置有按压式按钮14。
26.按压式按钮14始终处于弹出状态，当工人按下按压式按钮14时，电机6启动，松开按压式按钮14时，按压式按钮14自动弹出，电机6停止，氯气搅拌只需要闭合开关两秒左右即可，如果填充氯气较多，可适当多次进行按压式按钮14的闭合。
27.作为对本技术方案的一种补充，所述的蚀刻槽盖1下部设置有定位台阶8，所述的定位台阶8外侧设置有一圈密封圈9。


技术特征：
1.一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：包括蚀刻槽盖(1)、纵向输送管(3)和竖直输出管(7)，所述的蚀刻槽盖(1)上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖(1)的竖直输出管(7)，竖直输出管(7)的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管(3)，两个纵向输送管(3)后端之间设置有横向输送管(4)，横向输送管(4)中部后侧设置有对接管(5)，所述的竖直输出管(7)下端安装有扩散罩(10)。2.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的扩散罩(10)上设置有若干个孔位。3.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的蚀刻槽盖(1)中部设置有下端穿过蚀刻槽盖(1)的电机(6)，所述的电机(6)的主轴(12)竖直朝下，所述的主轴(12)下端安装有搅拌块(11)。4.根据权利要求3所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的搅拌块(11)下部设置有呈半圆形且竖直布置的搅拌叶轮(13)。5.根据权利要求3所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的电机(6)上端设置有控制面板(2)，所述的控制面板(2)上设置有按压式按钮(14)。6.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的蚀刻槽盖(1)下部设置有定位台阶(8)，所述的定位台阶(8)外侧设置有一圈密封圈(9)。

技术总结
本实用新型涉及一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，包括蚀刻槽盖、纵向输送管和竖直输出管，所述的蚀刻槽盖上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖的竖直输出管，竖直输出管的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管，两个纵向输送管后端之间设置有横向输送管，横向输送管中部后侧设置有对接管，所述的竖直输出管下端安装有扩散罩。本实用新型通过补充氯离子量保证蚀刻液内的三氯化铁的含量能够保证蚀刻液浓度，确保蚀刻反应速度，确保生产效率。确保生产效率。确保生产效率。


技术研发人员：任忠平 尹国钦 陈绍文 卞海刚 蒋晶晶
受保护的技术使用者：宁波福至新材料有限公司
技术研发日：2021.06.29
技术公布日：2022/3/22