一种显示基板及其制备方法、显示装置与流程

技术特征：
1.一种显示基板，其特征在于，包括：基板；叠设于所述基板一侧的阳极层，所述阳极层包括多个阳极图案，其中，所述阳极层与所述基板的叠设方向为第一方向；叠设于所述阳极层一侧的像素界定层，其中，所述像素界定层具有多个像素凹槽，每个像素凹槽暴露一个所述阳极图案的一部分，所述像素凹槽内侧设置有至少一个台阶，每个所述台阶包括远离所述基板一侧的第一表面和与所述第一表面连接的第一侧面；所述像素界定层包括亲水层，所述至少一个台阶设置于所述亲水层；公共层，所述公共层包括多个公共图案，每个公共图案设置于一个所述像素凹槽内，所述公共图案包括至少一个有机功能层，一个所述有机功能层覆盖一个台阶的第一表面；在第一方向上，所述有机功能层靠近其边缘处的表面距离所述台阶的第一表面的尺寸，与所述有机功能层中心处的厚度相等或者大致相等。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个有机功能层为一个，所述至少一个台阶为一个，所述有机功能层覆盖所述台阶的第一表面，且所述有机功能层的边缘与所述亲水层远离所述基板的一侧表面相接。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个有机功能层为多个，多个所述有机功能层沿第一方向层叠设置；所述至少一个台阶为多个，所述多个台阶沿逐渐远离所述基板的方向依次设置；最远离所述基板的有机功能层的边缘与所述亲水层远离所述基板的一侧表面相接。4.根据权利要求2或3所述的显示基板，其特征在于，每个所述台阶在所述阳极层所在平面上的正投影沿第二方向的尺寸，与其所在的所述像素凹槽的底面沿所述第二方向的尺寸的比值为1/3～1/7；其中，所述第二方向垂直所述第一方向，且所述第二方向穿过所述像素凹槽的底面的中心。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层还包括疏水层，所述疏水层叠设于所述亲水层远离所述基板的一侧。6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述至少一个有机功能层包括发光层；或者，所述至少一个有机功能层包括发光层，和空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层中的一个或者多个。7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：形成基板；在所述基板一侧形成阳极层，所述阳极层包括多个阳极图案，其中，所述阳极层与所述基板的叠设方向定义为第一方向；在所述阳极层的一侧形成像素界定层，所述像素界定层包括多个像素凹槽，每个像素凹槽暴露一个所述阳极图案的部分，所述像素凹槽内侧设置有至少一个台阶，每个所述台阶包括远离所述基板一侧的第一表面和与所述第一表面连接的第一侧面；所述像素界定层包括亲水层，所述至少一个台阶形成于所述亲水层；形成公共层，所述公共层包括多个公共图案，一个公共图案位于一个所述像素凹槽内，所述公共图案包括至少一个有机功能层，一个所述有机功能层覆盖有一个台阶的第一表
面；在第一方向上，所述有机功能层靠近边缘处的表面距离所述台阶的第一表面的尺寸，与所述有机功能层中心处的厚度相等或者大致相等。8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素凹槽内侧设置有一个台阶，在所述阳极层的一侧形成像素界定层的步骤包括：在所述基板和所述阳极层上形成亲水材料层；在所述亲水材料层上形成光刻胶层；采用半色调掩膜板曝光所述光刻胶层，将所述光刻胶层形成全曝光区光刻胶、半曝光区光刻胶和非曝光区光刻胶；显影所述光刻胶层，去除所述全曝光区光刻胶，且去除所述半曝光区光刻胶的远离所述基板的一部分；蚀刻所述亲水材料层，去除所述亲水材料层中被所述光刻胶层暴露的部分，形成第一凹槽；采用灰化工艺，去除所述半曝光区光刻胶；蚀刻所述亲水材料层中被所述非曝光区光刻胶暴露的部分的远离所述基板的一部分，形成所述台阶；剥离所述光刻胶层的剩余部分，得到所述像素界定层的亲水层。9.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素凹槽内侧设置有n个台阶，在所述阳极层的一侧形成像素界定层的步骤还包括：在所述基板和所述阳极层上形成亲水材料层；在所述亲水材料层上形成光刻胶层；采用第一半色调掩膜板曝光所述光刻胶层，将所述光刻胶层形成全曝光区光刻胶、第一半曝光区光刻胶和第一非曝光区光刻胶；显影所述光刻胶层，去除所述全曝光区光刻胶，且去除所述第一半曝光区光刻胶的远离所述基板的一部分；蚀刻所述亲水材料层，去除所述亲水材料层中被所述光刻胶层暴露的部分；采用灰化工艺，去除所述第一半曝光区光刻胶；蚀刻所述亲水材料层中被所述第一半曝光区光刻胶覆盖的部分的远离所述基板的一部分，并形成第一个台阶；采用第二半色调掩膜板曝光所述第一非曝光区光刻胶，将所述第一非曝光区光刻胶形成第二半曝光区光刻胶和第二非曝光区光刻胶；显影所述光刻胶层，去除所述第二半曝光区光刻胶的远离所述基板的一部分；采用灰化工艺，去除所述第二半曝光区光刻胶；蚀刻所述亲水材料层中被所述第二非曝光区光刻胶暴露的部分的远离所述基板的一部分，使所述第一个台阶下降预设高度，且形成第二个台阶；采用第三半色调掩膜板至第n半色调掩膜板重复上述曝光、灰化和刻蚀步骤，直至形成所述n个台阶；剥离所述光刻胶层的剩余部分，得到所述像素界定层的亲水层。10.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素界定层还包括疏水层，在所述阳极层的一侧形成像素界定层的步骤包括：
在所述基板和所述阳极层上形成层叠设置的亲水材料层和疏水材料层，其中，所述疏水材料层相对所述亲水材料层远离所述基板；在所述疏水材料层上形成光刻胶层；采用半色调掩膜板曝光所述光刻胶层，将所述光刻胶层形成全曝光区光刻胶、半曝光区光刻胶和非曝光区光刻胶；显影所述光刻胶层，去除所述全曝光区光刻胶，且去除所述半曝光区光刻胶的远离所述基板的一部分；蚀刻所述疏水材料层和所述亲水材料层，去除疏水材料层中被所述光刻胶层暴露的部分以及相对应的亲水材料层；采用灰化工艺，去除所述半曝光区光刻胶；蚀刻所述疏水材料层中被所述半曝光区光刻胶覆盖的部分，以及所述亲水材料层中被所述半曝光区光刻胶覆盖的部分远离所述基板的一部分，形成所述台阶；剥离所述光刻胶层的剩余部分，得到所述像素界定层。11.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，其特征在于，采用喷墨打印的工艺形成至少一个有机功能层，在所述喷墨打印工艺中，形成所述至少一个有机功能层的墨水为亲水性墨水。12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至6中任一项所述的显示基板。

技术总结
本发明提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，所要解决的问题是提高发光器件膜层的厚度均匀性，采用的方案为：显示基板包括基板、阳极层、像素界定层和公共层，像素界定层具有多个像素凹槽，像素凹槽内侧设置有至少一个台阶，每个台阶包括第一表面和第一侧面，至少一个台阶设置于像素界定层的亲水层，公共层的一个公共图案设置于一个像素凹槽内，公共图案的一个有机功能层覆盖一个台阶的第一表面，有机功能层靠近边缘处的表面距离第一表面的尺寸，与有机功能层中心处的厚度相等或者大致相等；本发明可以提高产品的良率。率。率。


技术研发人员：卢彦春
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2021.12.13
技术公布日：2022/3/21