一种电子元器件生产加工用清洗设备的制作方法

技术特征：
1.一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，包括有支撑脚（1）、清洗仓（2）、干燥仓（4）、滑盖（5）、爬梯（6）、清洗机构（7）和承载机构（8），清洗仓（2）一侧设有干燥仓（4），干燥仓（4）上对称设有支撑脚（1），干燥仓（4）上滑动式设有滑盖（5），干燥仓（4）一侧设有爬梯（6），清洗仓（2）上设有清洗机构（7），清洗机构（7）部件上设有承载机构（8）。2.如权利要求1所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，清洗机构（7）包括有水箱（71）、进水口（72）、水泵（73）、出水管（74）、高压喷头（75）和触发开关（76），清洗仓（2）上设有水箱（71），水箱（71）与清洗仓（2）一侧之间设有进水口（72），水箱（71）上设有水泵（73），水泵（73）上对称设有出水管（74），出水管（74）均与清洗仓（2）一侧连接，出水管（74）上均设有高压喷头（75），清洗仓（2）上设有触发开关（76）。3.如权利要求2所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，承载机构（8）包括有第一电动推杆（81）、衔接连板（82）、第一限位板（83）、湿度传感器（84）、存放箱（85）和第一距离传感器（86），清洗仓（2）上对称设有第一电动推杆（81），第一电动推杆（81）伸缩杆上均设有衔接连板（82），衔接连板（82）上均滑动式设有第一限位板（83），第一限位板（83）均与同侧的衔接连板（82）之间连接有两个弹性件，清洗仓（2）上设有湿度传感器（84），第一限位板（83）一侧之间滑动式放置有存放箱（85），一侧的衔接连板（82）上设有第一距离传感器（86）。4.如权利要求3所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有筛动机构（9），筛动机构（9）包括有安装板（91）和齿条板（92），清洗仓（2）一侧设有安装板（91），安装板（91）两侧均与同侧的第一电动推杆（81）滑动式连接，安装板（91）一侧设有齿条板（92）。5.如权利要求4所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有污水处理机构（10），污水处理机构（10）包括有第二限位板（101）、漏斗（102）和过滤板（103），安装板（91）三侧均设有第二限位板（101），安装板（91）上设有漏斗（102），第二限位板（101）之间放置有过滤板（103）。6.如权利要求5所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有拉动机构（11），拉动机构（11）包括有磁石（1101）、支板（1102）、第二电动推杆（1103）、连杆（1104）、电磁铁（1105）和第二距离传感器（1106），存放箱（85）上对称设有磁石（1101），干燥仓（4）上设有支板（1102），支板（1102）上设有第二电动推杆（1103），第二电动推杆（1103）伸缩杆一侧设有连杆（1104），连杆（1104）上对称设有电磁铁（1105），连杆（1104）上设有第二距离传感器（1106）。7.如权利要求6所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有烘干机构（12），烘干机构（12）包括有导轨（1201）、挡块（1202）和发热环（1203），干燥仓（4）上对称设有导轨（1201），干燥仓（4）上设有挡块（1202），干燥仓（4）一侧设有发热环（1203），发热环（1203）位于导轨（1201）之间。8.如权利要求7所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有控制箱（3），清洗仓（2）一侧设有控制箱（3），控制箱（3）包括有开关电源、电源模块和控制模块，开关电源为整个设备供电，开关电源输出端与电源模块通过电性连接，电源模块上通过线路连接有电源总开关，电源模块与控制模块通过电性连接；控制模块上连接有ds1302时钟电路和24c02电路；湿度传感器（84）、触发开关（76）、第一距离传感器（86）和第二距离传感
器（1106）都与控制模块通过电性连接，水泵（73）、第一电动推杆（81）、第二电动推杆（1103）、电磁铁（1105）和发热环（1203）都与控制模块通过继电器控制模块连接。

技术总结
本发明涉及一种清洗设备，尤其涉及一种电子元器件生产加工用清洗设备。本发明的目的是提供一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。技术方案：一种电子元器件生产加工用清洗设备，包括有支撑脚、清洗仓、干燥仓、滑盖、爬梯、清洗机构和承载机构，清洗仓一侧设有干燥仓，干燥仓上对称设有支撑脚，干燥仓上滑动式设有滑盖，干燥仓一侧设有爬梯，清洗仓上设有清洗机构，清洗机构部件上设有承载机构。本发明通过清洗机构、承载机构与筛动机构之间的配合，使得本设备的清洗效率得以提高，且电子元器件清洗的更加彻底。且电子元器件清洗的更加彻底。且电子元器件清洗的更加彻底。


技术研发人员：涂梅花
受保护的技术使用者：涂梅花
技术研发日：2021.11.13
技术公布日：2022/3/21