掩模修复装置的制作方法

技术特征：
1.一种掩模修复装置，包括：激光器，朝向设置在掩模框架上的开口片与设置在所述开口片上的单元格掩模之间的焊接部分发射激光束；固定部件，设置在所述开口片下方以固定所述开口片；以及抽吸部件，邻近于所述激光器，其中所述单元格掩模通过所述激光束与所述开口片分离。2.根据权利要求1所述的掩模修复装置，其中所述焊接部分邻近于所述单元格掩模的边缘。3.根据权利要求1所述的掩模修复装置，其中所述激光器设置在所述单元格掩模上方，并将激光束发射到所述焊接部分和所述单元格掩模的在平面图中与所述焊接部分重叠的移除部分。4.根据权利要求3所述的掩模修复装置，其中所述移除部分和所述焊接部分通过所述激光束移除。5.根据权利要求4所述的掩模修复装置，其中所述抽吸部件抽吸当所述移除部分和所述焊接部分被移除时产生的颗粒。6.根据权利要求3所述的掩模修复装置，其中所述单元格掩模在厚度方向上具有厚度，并且每向所述移除部分的整个区域发射一次激光束，所述移除部分被反复地移除一次移除深度，所述一次移除深度小于在所述厚度方向上的所述厚度。7.根据权利要求6所述的掩模修复装置，其中所述厚度为10微米至25微米，并且所述一次移除深度为0.1微米至5微米。8.根据权利要求3所述的掩模修复装置，其中所述激光器通过使所述激光束在第一方向上往复运动而将所述激光束发射到所述移除部分。9.根据权利要求8所述的掩模修复装置，其中所述激光器通过使所述激光束进一步在与所述第一方向交叉的第二方向上往复运动而将所述激光束发射到所述移除部分。10.根据权利要求3所述的掩模修复装置，其中所述开口片包括因瓦合金，并且在形成在所述开口片的与所述焊接部分重叠的顶表面上的氧化物层中，因瓦合金与氧化物的比率为1：1至1：0.9。11.根据权利要求1所述的掩模修复装置，进一步包括设置在所述单元格掩模上方的传送单元，其中所述传送单元传送与所述开口片分离的所述单元格掩模。12.根据权利要求11所述的掩模修复装置，其中所述传送单元包括：第一部件；以及第二部件，设置在所述第一部件下方，具有弹性，并且附着到所述单元格掩模。13.根据权利要求1所述的掩模修复装置，其中第一开口部分被限定在所述掩模框架中，在平面图中与所述第一开口部分重叠的第二开口部分被限定在所述开口片中，并且在所述平面图中与所述第二开口部分重叠的多个第三开口部分被限定在所述单元格掩模中，
其中所述固定部件设置在所述第一开口部分中。14.根据权利要求1所述的掩模修复装置，其中所述固定部件包括：静电卡盘；以及绝缘层，设置在所述静电卡盘上。15.根据权利要求1所述的掩模修复装置，其中所述固定部件包括：磁体；以及绝缘层，设置在所述磁体上。

技术总结
一种掩模修复装置包括：激光器，朝向设置在掩模框架上的开口片与设置在所述开口片上的单元格掩模之间的焊接部分发射激光束；固定部件，设置在所述开口片下方以固定所述开口片；以及抽吸部件，邻近于所述激光器。所述单元格掩模通过所述激光束与所述开口片分离。格掩模通过所述激光束与所述开口片分离。格掩模通过所述激光束与所述开口片分离。


技术研发人员：文英慜 文敏浩 宋昇勇 任星淳
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.09.16
技术公布日：2022/3/18