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PL设备下碎片清理装置的制作方法

2022-03-16 12:47:35 来源:中国专利 TAG:

pl设备下碎片清理装置
技术领域
1.本实用新型涉及电池片碎片清理设备技术领域,尤其是涉及一种pl设备下碎片清理装置。


背景技术:

2.pl设备为光致发光成像太阳能电池生产检测设备,是瞬渺光电研发提供的一种灵活的研发和特征分析系统。该系统具有灵活的手动负载样品平台,可以用于原切割晶圆,部分或整块地加工电池和有选择地检测块状物或部分组件单元。在检测完成后,由生产人员暂停设备,进入到设备内部,进行人工手动清理,若碎片较多往往耽误时间长,清理不及时,手工清理效果较差,且生产人员进入设备具有一定危险性。


技术实现要素:

3.本实用新型要解决的技术问题是:为了克服现有技术中pl设备为人工手动清理,若碎片较多往往耽误时间长,清理不及时,手工清理效果较差,且生产人员进入设备具有一定危险性的问题,提供一种pl设备下碎片清理装置。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种pl设备下碎片清理装置,包括手柄以及安装在手柄一端的耙爪,所述手柄上固定有气管,所述气管的输入端上安装有气囊,通过耙爪和手柄的设计,使得生产人员无需进入pl设备,能够将打碎片扒出,且在手柄上安装连接有气囊的气管,能够在清理完大碎片后,将小碎片吹扫,从而大大提高清扫效率。
5.为了解决从气管吹出的气流随距离减弱的问题,进一步包括所述气囊的输出端延伸至耙爪和手柄的相连处,使得气管的输出端易对准所需吹扫部位,提高准确率。
6.为了解决气管和手柄之间固定的问题,进一步包括所述气管和手柄之间通过绑带固定连接,固定和拆卸方便,利于组件损坏后拆卸更换。
7.为了解决气管和手柄布置的问题,进一步包括气管安装在手柄内,在清扫时,防止气管被磕碰损坏。
8.本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的一种pl设备下碎片清理装置,通过耙爪和手柄的设计,使得生产人员无需进入pl设备,能够将打碎片扒出,且在手柄上安装连接有气囊的气管,能够在清理完大碎片后,将小碎片吹扫,从而大大提高清扫效率。
附图说明
9.下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
10.图1是本实用新型的结构示意图。
11.图中:1、手柄,2、耙爪,3、气管,4、气囊,5、绑带。
具体实施方式
12.现在结合附图对本实用新型做进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
13.如图1是本实用新型的结构示意图,一种pl设备下碎片清理装置,包括手柄1以及安装在手柄1一端的耙爪2,所述手柄1上固定有气管3,所述气管3的输入端上安装有气囊4,通过耙爪2和手柄1的设计,使得生产人员无需进入pl设备,能够将打碎片扒出,且在手柄1上安装连接有气囊4的气管3,能够在清理完大碎片后,将小碎片吹扫,从而大大提高清扫效率。
14.所述气囊4的输出端延伸至耙爪2和手柄1的相连处,使得气管3的输出端易对准所需吹扫部位,提高准确率。
15.所述气管3和手柄1之间通过绑带5固定连接,固定和拆卸方便,利于组件损坏后拆卸更换。
16.实施例1:使用绑带5将气管3固定在手柄1上,且气管3的输出端位于手柄1和耙爪2的连接处,气管3的输入端上安装气囊4,气囊4位于手柄1的握持处,耙爪2呈梨形,清理碎片时,生产人员握持手柄1后使用耙爪2清理大碎片,再将气管3的输出端对准小碎片并捏动气囊4产生气流吹扫小碎片。
17.实施例2:气管3固定在手柄1内,节省了占用空间,且能够防止气管3损坏。
18.以上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。


技术特征:
1.一种pl设备下碎片清理装置,其特征是,包括手柄(1)以及安装在手柄(1)一端的耙爪(2),所述手柄(1)上固定有气管(3),所述气管(3)的输入端上安装有气囊(4),所述气管(3)和手柄(1)之间通过绑带(5)固定连接。2.如权利要求1所述的pl设备下碎片清理装置,其特征在于:所述气囊(4)的输出端延伸至耙爪(2)和手柄(1)的相连处。3.如权利要求1所述的pl设备下碎片清理装置,其特征在于:所述气管(3)安装在手柄(1)内。

技术总结
本实用新型涉及清理设备技术领域,尤其是涉及一种PL设备下碎片清理装置,包括手柄以及安装在手柄一端的耙爪,所述手柄上固定有气管,所述气管的输入端上安装有气囊,通过耙爪和手柄的设计,使得生产人员无需进入PL设备,能够将打碎片扒出,且在手柄上安装连接有气囊的气管,能够在清理完大碎片后,将小碎片吹扫,从而大大提高清扫效率。从而大大提高清扫效率。从而大大提高清扫效率。


技术研发人员:郁东旺 张飞 张凯胜 孙铁囤
受保护的技术使用者:常州亿晶光电科技有限公司
技术研发日:2021.06.23
技术公布日:2022/3/15
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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