光学层叠体的制作方法

1.本发明涉及一种光学层叠体。


背景技术：

2.偏振板被用作构成液晶显示装置、有机el显示装置等显示装置的光学部件之一。偏振板通常具有在直线偏振层的一面或两面层叠有保护层的层叠结构，并以该层叠结构组装到显示装置中。另外已知，在以智能手机、平板电脑等便携型信息终端等为中心使用的触控面板方式的显示装置中，在偏振板与图像显示元件之间，设置用于构成触摸传感器的导电层(例如专利文献1～3等)。
3.近年来，为了提高显示装置的设计性，要求减薄整个显示装置。另外，在像柔性显示器那样折叠、卷绕显示装置的情况下，显示装置的厚度越小，越可以减小伴随着折叠、卷绕产生的应力而抑制不佳状况的发生。因此，要求实现显示装置中使用的各种构件的薄膜化，并且通过合并功能来削减所使用的构件件数。
4.现有技术文献
5.专利文献
6.专利文献1：日本特开2015-52765号公报
7.专利文献2：日本特开2015-172740号公报
8.专利文献3：国际公开第2020/111232号


技术实现要素：

9.发明所要解决的问题
10.发现在使用金属层作为用于构成触摸传感器的导电层的情况下，当直线偏振层与金属层的距离随着显示装置的薄型化而接近时，在高温高湿环境下容易在金属层产生腐蚀。
11.本发明的目的在于，提供一种光学层叠体，即使在通过显示装置中使用的各种构件的薄膜化和/或削减而将显示装置薄型化的情况下，也能够抑制高温高湿环境下的金属层的腐蚀。
12.用于解决问题的手段
13.本发明提供以下的光学层叠体。
14.〔1〕一种光学层叠体，是依次包含直线偏振层、相位差层、阻挡层、以及粘合剂层的光学层叠体，
15.所述直线偏振层是吸附有碘并使其进行了取向的聚乙烯醇系树脂膜，
16.所述相位差层包含至少1层的使聚合性液晶化合物聚合固化而得的固化物层，
17.所述阻挡层被设为与所述粘合剂层直接接触，
18.所述阻挡层的温度40℃、相对湿度90％rh的条件下的透湿度为1g/m2/24hr以上且2000g/m2/24hr以下，
19.从所述直线偏振层的所述相位差层侧的表面到所述粘合剂层的与所述阻挡层侧相反的一侧的表面的距离为55μm以下。
20.〔2〕根据〔1〕中记载的光学层叠体，其中，将所述光学层叠体在温度85℃、相对湿度85％rh的条件下保管240小时后的所述粘合剂层中的碘量为250ppm以下。
21.〔3〕根据〔1〕或〔2〕中记载的光学层叠体，其中，所述阻挡层为树脂膜。
22.〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项记载的光学层叠体，其中，所述相位差层包含2层的所述固化物层，
23.还包含用于将所述2层的固化物层相互贴合的贴合层(x)。
24.〔5〕根据〔4〕中记载的光学层叠体，其中，所述贴合层为粘接剂层。
25.〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项记载的光学层叠体，其包括包含所述直线偏振层的偏振板、以及用于将所述偏振板与所述相位差层贴合的贴合层(y)，
26.所述偏振板在所述直线偏振层的一面或两面设有保护层。
27.〔7〕根据〔1〕～〔6〕中任一项记载的光学层叠体，其还包含用于将所述相位差层与所述阻挡层贴合的贴合层(z)。
28.〔8〕根据〔7〕中记载的光学层叠体，其中，所述贴合层(z)为粘接剂层。
29.〔9〕根据〔1〕～〔8〕中任一项记载的光学层叠体，其还在所述粘合剂层的与所述阻挡层侧相反的一侧包含金属层。
30.〔10〕根据〔7〕中记载的光学层叠体，其中，所述金属层被设为与所述粘合剂层直接接触。
31.发明效果
32.本发明的光学层叠体即使在通过显示装置中使用的各种构件的薄膜化和/或削减来将显示装置薄型化的情况下，也能够抑制高温高湿环境下的金属层的腐蚀。
附图说明
33.图1是示意性地表示本发明的光学层叠体的一例的示意剖视图。
34.图2是示意性地表示本发明的光学层叠体的另一例的示意剖视图。
35.图3是示意性地表示本发明的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
36.图4是示意性地表示本发明的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
37.图5是示意性地表示本发明的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
38.图6是示意性地表示本发明的光学层叠体的再另一例的示意剖视图。
39.附图标记说明
40.1、1a、1b、1c、1d、1e、1f光学层叠体，4阻挡层，5粘合剂层，6金属层，10相位差层，11第1固化物层(固化物层)，12第2固化物层(固化物层)，21第1贴合层，22第2贴合层，23贴合层(y)，24贴合层(z)，25贴合层(x)，30偏振板，31直线偏振层，32第1保护层(保护层)，33第2保护层(保护层)。
具体实施方式
41.以下，参照附图，对本发明的光学层叠体及剥离方法的优选的实施方式进行说明。以下的所有附图是为了辅助本发明的理解而给出的，图中所示的各构成要素的尺寸、形状
不一定与实际的构成要素的尺寸、形状一致。
42.(光学层叠体)
43.图1～图6是示意性地表示本实施方式的光学层叠体的一例的示意剖视图。本实施方式的光学层叠体1a～1f(以下有时将它们一并称作“光学层叠体1”。)依次具备直线偏振层31、相位差层10、阻挡层4、以及粘合剂层5。直线偏振层31是吸附有碘并使其进行了取向的聚乙烯醇系树脂膜(以下有时称作“pva系膜”。)。相位差层10包含至少1层的使聚合性液晶化合物聚合固化而得的固化物层(后述的第1固化物层11、第2固化物层12等)。阻挡层4被设为与粘合剂层5直接接触。阻挡层4的温度40℃、相对湿度90％rh的条件下的透湿度为1g/m2/24hr以上且2000g/m2/24hr以下。光学层叠体1的从直线偏振层31的相位差层10侧的表面到粘合剂层5的与阻挡层4侧相反的一侧的表面的距离d为55μm以下。
44.光学层叠体1可以还像图5及图6所示的光学层叠体1e、1f那样，在粘合剂层5的与阻挡层4侧相反的一侧包含金属层6。金属层6优选被设为与粘合剂层5直接接触。
45.在具有上述的层结构的光学层叠体1中，在经由粘合剂层5将光学层叠体1a～1d层叠于金属层6的情况下，在光学层叠体1e、1f中，可以抑制在金属层6产生的腐蚀、特别是在金属层6产生的点腐蚀(日文：孔食)。对于能够利用光学层叠体1抑制金属层6的腐蚀的理由推测如下所示。作为直线偏振层的吸附有碘并使其进行了取向的pva系膜在高温高湿环境下有时从pva系膜渗出微量的碘。可以认为，在包含直线偏振层及金属层的层叠体中，若从直线偏振层渗出的碘到达金属层，则将金属层腐蚀。因而，在光学层叠体1中，以与用于贴合于金属层6的粘合剂层5接触的方式，设置透湿度处于上述范围的阻挡层4。可以认为，由此，即使是距离d为55μm以下的薄型的光学层叠体1，也可以抑制从直线偏振层31渗出的碘到达金属层6，可以抑制金属层6的腐蚀。
46.光学层叠体1可以如图1～图6所示，包含在直线偏振层31的一面或两面具有保护层32、33(以下有时分别称作“第1保护层32”及“第2保护层33”。)的偏振板30。从光学层叠体1的薄型化的观点出发，偏振板30优选仅在直线偏振层31的一面具有第1保护层32或第2保护层33。在仅在直线偏振层31的一面具有保护层的情况下，从保护直线偏振层31的观点出发，优选如图1及图2所示在直线偏振层31的与相位差层10侧相反的一侧具有第1保护层32。由于光学层叠体1具有阻挡层4，因此即使在设置第1保护层32、不设置第2保护层33的情况下，也可以有效地抑制金属层6的腐蚀。第1保护层32和/或第2保护层33例如可以如图1～图6所示，经由第1贴合层21和/或第2贴合层22设于直线偏振层31上。第1贴合层21及第2贴合层22为粘接剂层或粘合剂层。
47.光学层叠体1可以还包含用于将直线偏振层31或偏振板30与相位差层10贴合的贴合层(y)23。该情况下，相位差层10例如如图1～图6所示，经由贴合层(y)23设于直线偏振层31或偏振板30上。贴合层(y)23为粘接剂层或粘合剂层。或者，也可以以与直线偏振层31或偏振板30直接接触的方式设置相位差层10。
48.光学层叠体1可以还包含用于将相位差层10与阻挡层4贴合的贴合层(z)24。该情况下，阻挡层4例如如图1～图6所示，经由贴合层(z)24设于相位差层10上。贴合层(z)24为粘接剂层或粘合剂层。或者，也可以与相位差层10直接接触地设置阻挡层4。在光学层叠体1包含贴合层(z)24的情况下，贴合层(z)24优选为粘接剂层。由此，例如在利用切割刀裁割光学层叠体1的情况下，可以抑制在裁割面中相位差层10发生变形的情况。
49.在光学层叠体1中，上述距离d为55μm以下，也可以为48μm以下，也可以为45μm以下，也可以为40μm以下，也可以为35μm以下，也可以为30μm以下，也可以为25μm以下。距离d通常为10μm以上，也可以为15μm以上，也可以为20μm以上。
50.将光学层叠体1在温度85℃、相对湿度85％rh的条件下保管240小时后的所述粘合剂层中的碘量优选为250ppm以下，更优选为200ppm以下，进一步优选为150ppm以下，更进一步优选为100ppm以下，也可以为50ppm以下，也可以为30ppm以下，也可以为10ppm以下。通过使上述碘量为上述的范围内，容易抑制将光学层叠体1暴露于高温高湿环境下时的金属层6的腐蚀。上述碘量例如可以通过调整阻挡层4的上述透湿度、在直线偏振层31设置第1保护层32和/或第2保护层33、调整第1保护层32和/或第2保护层33的种类、厚度等来进行调整。上述碘量可以利用后述的实施例中记载的方法来进行测定。
51.图1～图4所示的光学层叠体1a～1d可以在粘合剂层5的与相位差层10侧相反的一侧具有剥离膜。剥离膜是覆盖保护粘合剂层5、或支承粘合剂层5的膜，且具有作为能够相对于粘合剂层5剥离的隔膜的功能。作为剥离膜，可以举出对基材膜的粘合剂层侧的表面实施了硅酮处理等脱模处理的膜。作为形成基材膜的树脂材料，可以举出后述的形成保护层的树脂材料。树脂膜可以是1层结构，也可以是2层以上的多层结构的多层树脂膜。
52.图1～图4所示的光学层叠体1a～1d可以构成圆偏振板，可以作为有机el(电致发光)显示装置等的防反射膜使用。在光学层叠体1a～1d为圆偏振板的情况下，相位差层10中含有的固化物层的至少1层优选为具有λ/4波长相位差特性的层。如图2、图4、以及图6所示，在相位差层10包含第1固化物层11及第2固化物层12的情况下，第1固化物层11及第2固化物层12分别可以为[i]1/2波长相位差层及1/4波长相位差层、[ii]1/4波长相位差层及正c板、或[iii]正c板及1/4波长相位差层。λ/4波长相位差层也可以是具有逆波长分散性的层。
[0053]
光学层叠体1可以在智能手机、平板电脑等的显示装置中使用，特别可以在触控面板方式的显示装置中合适地使用。作为显示装置，可以举出有机el显示装置、液晶显示装置等。显示装置也可以是柔性显示器。
[0054]
以下，对光学层叠体1中使用的各构件的详情进行说明。
[0055]
(直线偏振层)
[0056]
直线偏振层具有如下的性质，即，在射入无偏振的光时，使具有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透射。直线偏振层是吸附有碘并使其进行了取向的pva系膜。
[0057]
直线偏振层例如可以举出对聚乙烯醇膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等pva系膜实施了利用碘的染色处理、以及拉伸处理的层等。根据需要，可以将利用染色处理吸附有碘并使其进行了取向的pva系膜用硼酸水溶液进行处理，其后进行冲掉硼酸水溶液的清洗工序。各工序中可以采用公知的方法。
[0058]
聚乙烯醇系树脂(以下有时称作“pva系树脂”。)可以通过对聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化来制造。聚乙酸乙烯酯系树脂除了可以是作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，还可以是乙酸乙烯酯与能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体的共聚物。作为能够与乙酸乙烯酯共聚的其他单体，例如可以举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
[0059]
pva系树脂的皂化度通常为85～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。pva系树脂可以被改性，例如也可以使用由醛类改性了的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。pva系
树脂的平均聚合度通常为1000～10000左右，优选为1500～5000左右。pva系树脂的平均聚合度可以依照jis k6726(1994)求出。若平均聚合度小于1000，则难以获得优选的偏振性能，若大于10000，则有膜加工性变差的情况。
[0060]
包含pva系膜的直线偏振层的制造方法可以包括如下的工序，即，准备基材膜，向基材膜上涂布pva系树脂等树脂的溶液，进行除去溶剂的干燥等而在基材膜上形成树脂层。需要说明的是，可以在基材膜的形成树脂层的面预先形成底漆层。作为基材膜，可以使用pet等树脂膜、使用了后述的保护层中可以使用的热塑性树脂的膜。作为底漆层的材料，可以举出将直线偏振层中使用的亲水性树脂交联而得的树脂等。
[0061]
然后，根据需要调整树脂层的水分等溶剂量，其后，对基材膜及树脂层进行单轴拉伸，接下来，将树脂层用碘染色而使碘吸附于树脂层并使之取向。然后，根据需要将吸附有碘并使其进行了取向的树脂层用硼酸水溶液进行处理，其后进行冲掉硼酸水溶液的清洗工序。由此，可以制造吸附有碘并使其进行了取向的树脂层、即直线偏振层的膜。各工序中可以采用公知的方法。
[0062]
对吸附有碘并使其进行了取向的pva系膜或树脂层进行处理的含有硼酸的水溶液中的硼酸的量通常为每100重量份水中2～15重量份左右，优选为5～12重量份。在使用碘作为二色性色素的情况下，该含有硼酸的水溶液优选含有碘化钾。含有硼酸的水溶液中的碘化钾的量通常为每100重量份水中0.1～15重量份左右，优选为5～12重量份左右。在含有硼酸的水溶液中的浸渍时间通常为60～1200秒左右，优选为150～600秒左右，更优选为200～400秒左右。含有硼酸的水溶液的温度通常为50℃以上，优选为50～85℃，更优选为60～80℃。
[0063]
pva系膜、以及基材膜及树脂层的单轴拉伸可以在染色前进行，也可以在染色中进行，也可以在染色后的硼酸处理中进行，也可以在这些多个阶段中分别进行单轴拉伸。pva系膜、以及基材膜及树脂层可以沿md方向(膜运送方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以在圆周速度不同的辊间以单轴方式进行拉伸，也可以使用热辊以单轴方式进行拉伸。另外，pva系膜、以及基材膜及树脂层也可以沿td方向(与膜运送方向垂直的方向)进行单轴拉伸，该情况下，可以使用所谓的拉幅机法。另外，上述拉伸可以是在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以是在用溶剂使pva系膜或树脂层溶胀了的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了体现出直线偏振层的性能，拉伸倍率为4倍以上，优选为5倍以上，特别优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限没有特别限制，然而从抑制断裂等观点出发，优选为8倍以下。
[0064]
利用使用基材膜的制造方法制作出的直线偏振层可以通过在层叠后述的保护层后剥离基材膜而得到。根据该方法，能够实现直线偏振层的进一步的薄膜化。
[0065]
直线偏振层的厚度优选为1μm以上，也可以为2μm以上，也可以为5μm以上，另外，优选为30μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下，也可以为8μm以下。直线偏振层的厚度越小，在高温高湿环境下越容易渗出碘。因此，在直线偏振层的厚度小的情况下，通过像本实施方式的光学层叠体1那样设置，可以有效地抑制在金属层6产生的腐蚀。
[0066]
将吸附有碘并取向了的pva系膜或树脂层用硼酸水溶液进行处理、其后冲掉硼酸水溶液的清洗工序中，硼酸水溶液中的硼酸浓度越低，在高温高湿环境下越容易渗出碘。因此，在直线偏振层的制造工序中使用的上述的硼酸水溶液中的硼酸浓度低的情况下，通过像本实施方式的光学层叠体1那样设置，可以有效地抑制在金属层6产生的腐蚀。
[0067]
(偏振板)
[0068]
直线偏振层31可以像图1～图6所示那样，在其一面或两面层叠保护层(第1保护层32和/或第2保护层33)而制成偏振板30。该偏振板30是所谓的直线偏振板。作为可以层叠于直线偏振层31的一面或两面的第1保护层32和/或第2保护层33，例如使用透明性、机械强度、热稳定性、阻水性、各向同性、拉伸性等优异的由热塑性树脂形成的膜。作为热塑性树脂的具体例，可以举出三乙酰纤维素等纤维素树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚醚砜树脂；聚砜树脂；聚碳酸酯树脂；尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烃树脂；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称作降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸类树脂；聚芳酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂、以及它们的混合物。第1保护层32及第2保护层33的树脂组成可以相同，也可以不同。需要说明的是，本说明书中所谓“(甲基)丙烯酸类”，是指可以是丙烯酸类或甲基丙烯酸类的任意者。(甲基)丙烯酸酯等的“(甲基)”也是同样的含义。
[0069]
第1保护层32及第2保护层33的温度40℃、相对湿度90％rh的条件下的透湿度没有特别限定。本实施方式的光学层叠体1中，在第1保护层32的上述透湿度为300g/m2/24hr以下的情况下可以有效地抑制金属层的腐蚀，另外，在第1保护层32的上述透湿度为100g/m2/24hr以下的情况下，可以更加有效地抑制金属层的腐蚀。若第1保护层32的上述透湿度变小，则光学层叠体1中直线偏振层31中的碘不易向第1保护层32侧移动，易于向粘合剂层5侧移动。由于在光学层叠体1中具有阻挡层4，因此即使如上所述碘容易向粘合剂层5侧移动，也可以抑制设于粘合剂层5的与阻挡层4侧相反的一侧的金属层6发生腐蚀。第1保护层32及第2保护层33的上述透湿度可以利用透湿度试验法(杯法、jis z 0208)来进行测定。
[0070]
第1保护层32及第2保护层33可以是具有相位差特性的层，也可以是硬涂层、防反射层等具有功能特性的光学功能层。第1保护层32及第2保护层33的厚度优选各自独立地为3μm以上，更优选为5μm以上，另外，优选为50μm以下，更优选为30μm以下。
[0071]
第1保护层32及第2保护层33与直线偏振层优选分别利用第1贴合层21及第2贴合层22贴合(图1～图6)。第1贴合层21及第2贴合层22为粘接剂层或粘合剂层。作为粘接剂层及粘合剂层，可以使用后述的材料。作为第1贴合层21及第2贴合层22，优选为使用后述的水系粘接剂形成的粘接剂层。
[0072]
(相位差层)
[0073]
相位差层10包含具有相位差特性的层。作为具有相位差特性的层，可以举出使聚合性液晶化合物聚合固化而得的固化物层。相位差层10包含至少1层的固化物层，也可以包含2层以上的固化物层。在包含2层以上的固化物层的情况下，相位差层10可以包含用于将固化物层相互贴合的贴合层(例如图2、图4、以及图6所示的贴合层(x)25)。固化物层可以是1/2波长相位差层、1/4波长相位差层、或正c板。1/4波长相位差层也可以是逆波长分散性。在相位差层包含2层以上的固化物层的情况下，固化物层可以彼此相同且具有相位差特性，也可以具有相互不同的相位差特性。
[0074]
作为聚合性液晶化合物，可以举出棒状的聚合性液晶化合物及圆盘状的聚合性液晶化合物，可以使用它们当中的一方，也可以使用包含它们双方的混合物。在棒状的聚合性液晶化合物相对于基材层发生水平取向或垂直取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。在圆盘状的聚合性液晶化合物发生取向的情况
下，该聚合性液晶化合物的光轴沿与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向存在。作为棒状的聚合性液晶化合物，例如可以合适地使用日本特表平11-513019号公报(权利要求1等)中记载的聚合性液晶化合物。作为圆盘状的聚合性液晶化合物，可以合适地使用日本特开2007-108732号公报([0020]段～[0067]段等)、日本特开2010-244038号公报([0013]段～[0108]段等)中记载的聚合性液晶化合物。
[0075]
为了使通过将聚合性液晶化合物聚合而形成的固化物层体现出面内相位差，只要使聚合性液晶化合物沿合适的方向取向即可。在聚合性液晶化合物为棒状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面水平地取向而体现出面内相位差，该情况下，光轴方向与慢轴方向一致。在聚合性液晶化合物为圆盘状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层平面水平地取向而体现出面内相位差，该情况下，光轴与慢轴正交。聚合性液晶化合物的取向状态可以利用取向层与聚合性液晶化合物的组合来进行调整。
[0076]
聚合性液晶化合物是具有至少1个聚合性基团、并且具有液晶性的化合物。在并用2种以上的聚合性液晶化合物的情况下，优选至少1种在分子内具有2个以上的聚合性基团。所谓聚合性基团，是指参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。此处，所谓光聚合性基团，是指能够利用从后述的光聚合引发剂中产生的活性自由基、酸等来参与聚合反应的基团。作为聚合性基团，可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁烷基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙基及氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致液晶，若将热致液晶以有序度进行分类，则可以是向列液晶，也可以是近晶液晶。
[0077]
在相位差层10包含聚合性液晶化合物的固化物层的情况下，相位差层10可以包含取向层。取向层具有使聚合性液晶化合物沿所期望的方向取向的取向限制力。取向层可以是将聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层进行了垂直取向的垂直取向层，也可以是将聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层进行了水平取向的水平取向层，还可以是使聚合性液晶化合物的分子轴相对于基材层倾斜取向的倾斜取向层。在相位差层包含2个以上的取向层的情况下，取向层可以彼此相同，也可以彼此不同。
[0078]
作为取向层，优选具有不会因包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物的涂布等而溶解的溶剂耐性、且具有对用于溶剂的除去、聚合性液晶化合物的取向的加热处理的耐热性的取向层。作为取向层，可以举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案、多个沟槽(groove)的沟槽取向层。
[0079]
固化物层的厚度可以为0.1μm以上，也可以为0.5μm以上，也可以为1μm以上，也可以为2μm以上，另外，优选为10μm以下，也可以为8μm以下，也可以为5μm以下。
[0080]
聚合性液晶化合物的固化物层可以通过向基材层上涂布包含聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物并进行干燥、使聚合性液晶化合物聚合而形成。也可以将液晶层形成用组合物涂布在形成于基材层上的取向层上。
[0081]
作为基材层，可以使用由树脂材料形成的膜，例如可以举出使用了作为用于形成上述的保护层的热塑性树脂说明的树脂材料的膜。基材层的厚度没有特别限定，然而一般
从强度、处置性等操作性的方面出发优选为1～300μm以下，更优选为20～200μm，进一步优选为30～120μm。基材层可以与聚合性液晶化合物的固化物层一起组装到光学层叠体中，也可以剥离基材层，仅将聚合性液晶化合物的固化物层、或将该固化物层及取向层组装到光学层叠体中。在将基材层与聚合性液晶化合物的固化物层一起组装到光学层叠体1中的情况下，基材层的厚度可以小于30μm，例如可以为25μm以下。
[0082]
相位差层10可以像图1、图3、以及图5所示那样为第1固化物层11，也可以像图2、图4、以及图6所示那样为包含第1固化物层11及第2固化物层12的相位差层，也可以是在第1固化物层11及第2固化物层12的基础上还包含用于将它们贴合的贴合层(x)25的相位差层。
[0083]
像贴合层(x)25那样用于将2层以上的固化物层贴合的贴合层为粘合剂层或粘接剂层。贴合层优选为粘接剂层，更优选为将活性能量射线固化型粘接剂固化而得的粘接剂层，进一步优选为将紫外线固化型粘接剂固化而得的粘接剂层。通过将贴合层(x)25设为粘接剂层，可以在进行光学层叠体1的弯曲、折叠、或卷绕等时抑制在固化物层产生褶皱的情况，因此优选。
[0084]
贴合层的厚度没有特别限定。贴合层为粘合剂层时的厚度优选为3μm以上，也可以为10μm以上，也可以为15μm以上，另外，优选为30μm以下，也可以为25μm以下，也可以为20μm以下。贴合层为粘接剂层时的厚度优选为0.1μm以上，也可以为0.5μm以上，另外优选为10μm以下，也可以为5μm以下。
[0085]
相位差层10的厚度虽然也要根据相位差层10中含有的固化物层的总数而定，然而通常为0.5μm以上，也可以为1μm以上，也可以为2μm以上，也可以为5μm以上，另外，优选为50μm以下，也可以为30μm以下，也可以为15μm以下，也可以为10μm以下。
[0086]
(阻挡层)
[0087]
可以为了在光学层叠体1中抑制直线偏振层31中的碘向粘合剂层5移动而设置阻挡层4。阻挡层4的温度40℃、相对湿度90％rh的条件下的透湿度为1g/m2/24hr以上，也可以为30g/m2/24hr以上，也可以为100g/m2/24hr以上，也可以为200g/m2/24hr以上，也可以为500g/m2/24hr以上。阻挡层的上述透湿度为2000g/m2/24hr以下，也可以为1500g/m2/24hr以下，也可以为1200g/m2/24hr以下，也可以为1000g/m2/24hr以下。若阻挡层4的上述透湿度小于1g/m2/24hr，则在高温高湿环境下直线偏振层31的光学劣化有易于变得显著的趋势，若大于2000g/m2/24hr，则有不易抑制金属层6的腐蚀的趋势。上述透湿度可以像后述的实施例中记载的那样利用透湿度试验法(杯法、jis z 0208)来进行测定。
[0088]
阻挡层4只要是具有上述透湿度的层，就没有特别限定。阻挡层4可以是树脂膜，也可以是无机层，也可以是活性能量射线固化性树脂固化而得的树脂固化层。
[0089]
在阻挡层4为树脂膜的情况下，树脂膜可以是单层结构，也可以是多层结构。作为树脂膜，例如可以举出使用了作为用于形成上述的保护层的热塑性树脂说明的树脂材料的膜。树脂膜优选为三乙酰纤维素等纤维素树脂膜；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称作降冰片烯系树脂)膜；(甲基)丙烯酸类树脂膜。
[0090]
树脂膜可以具有λ/4相位差特性等相位差特性，然而优选不具有相位差特性(零相位差特性)。通过使树脂膜不具有相位差特性，可以抑制对光学层叠体1的光学特性造成影响的情况。
[0091]
树脂膜的厚度只要根据构成树脂膜的树脂材料的种类来选择即可。树脂膜的厚度
例如优选为1μm以上，更优选为4μm以上，也可以为8μm以上，另外，优选为25μm以下，更优选为15μm以下。若树脂膜的厚度过大，则在弯曲光学层叠体1时，有可能产生光学特性降低等影响。
[0092]
在阻挡层4为树脂膜的情况下，相位差层10与阻挡层4优选利用贴合层(z)24贴合。如上所述，贴合层(z)24为粘接剂层或粘合剂层。若贴合层(z)24为粘接剂层，则与将贴合层(z)24设为粘合剂层的情况相比，即使厚度小，也能够以充分的粘接力将相位差层10与阻挡层4贴合，可以减小距离d，因此优选。
[0093]
在阻挡层4为无机层的情况下，无机层可以为单层结构，也可以为多层结构。作为构成无机层的无机材料，例如可以举出金属氧化物、金属氮化物、金属氧氮化物、以及包含它们当中的2种以上的混合物。作为无机材料中含有的金属原子，可以举出硅(si)、铝(al)、镁(mg)、钙(ca)、钾(k)、钠(na)、硼(b)、铅(pb)、锆(zr)、钇(y)、以及这些原子当中的2种以上。无机材料可以还包含氢原子(h)、磷原子(p)、硫原子(s)、氟原子(f)、氯原子(cl)、以及这些原子当中的2种以上。
[0094]
无机层可以利用公知的化学气相沉积法(cvd法)或物理气相沉积法(pvd法)等来形成。作为化学气相沉积法，可以举出使用了辉光放电等离子体等的等离子体化学气相沉积法、热化学气相沉积法、光化学气相沉积法等。作为物理气相沉积法，可以举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、或离子团束法等。
[0095]
无机层的厚度没有特别限定，例如可以为1nm以上，也可以为10nm以上，也可以为30nm以上，另外，可以为1000nm以下，也可以为300nm以下，也可以为200nm以下。
[0096]
在光学层叠体1中，可以在相位差层10的表面直接形成无机层，也可以在基材膜上形成无机层、并将其贴合于相位差层10。基材膜可以采用使用了上述的保护层中能够使用的热塑性树脂的膜。
[0097]
在阻挡层4为树脂固化层的情况下，树脂固化层可以通过将活性能量射线固化性树脂固化而形成。树脂固化层可以是向相位差层10的表面涂布活性能量射线固化性树脂并固化而得的外覆层。作为活性能量射线固化性树脂，只要是公知的活性能量射线固化性树脂，就没有特别限定，例如可以举出为了形成后述的粘接剂层而使用的活性能量射线固化型粘接剂。
[0098]
树脂固化层的厚度没有特别限定，例如可以为0.5μm以上，也可以为1μm以上，另外，可以为10μm以下，也可以为5μm以下，也可以为3μm以下。
[0099]
阻挡层4优选为树脂膜。与无机层相比，认为树脂膜在将光学层叠体1裁割为所期望的尺寸、或实施光学层叠体1的端面加工等加工时，可以抑制产生裂纹的情况。另外，就树脂固化层而言，为了实现上述透湿度，有需要厚厚地涂布活性能量射线固化性树脂的情况，在该情况下，担心因活性能量射线固化性树脂的固化所产生的固化热而在光学层叠体1中产生褶皱、或在光学层叠体1中产生翘曲的情况。
[0100]
与此不同，与树脂固化层相比，认为树脂膜可以抑制上述褶皱及翘曲的产生。
[0101]
(粘合剂层)
[0102]
粘合剂层5是使用粘合剂形成的层。粘合剂是通过将其自身粘附于金属层等被粘物而体现出粘接性的物质，是被称作所谓的压敏型粘接剂的物质。另外，后述的活性能量射线固化型粘合剂可以通过照射能量射线来调整交联度、粘接力。
[0103]
对于粘合剂层5的厚度，从贴合于金属层6等被粘物的观点出发，优选为5μm以上且30μm以下，更优选为10μm以上且20μm以下。在配置在靠近金属层6的位置的粘合剂层5的厚度小的情况下，与不具备阻挡层4的层叠体相比，粘合剂层5的碘浓度容易变大。因此，通过像本实施方式的光学层叠体1那样设置，可以有效地抑制在金属层6产生的腐蚀。
[0104]
作为粘合剂，可以没有特别限制地使用以往公知的光学透明性优异的粘合剂，例如可以使用具有丙烯酸系、氨基甲酸酯系、硅酮系、聚乙烯基醚系等基础聚合物的粘合剂。另外，也可以是活性能量射线固化型粘合剂、热固化型粘合剂等。它们当中，适合为透明性、粘合力、再剥离性(以下也称作返工性(日文：
リワーク
性)。)、耐候性、耐热性等优异的以丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂。粘合剂层优选由包含(甲基)丙烯酸系树脂、交联剂、硅烷化合物的粘合剂的反应生成物形成，也可以包含其他成分。
[0105]
粘合剂层5也可以使用活性能量射线固化型粘合剂形成。活性能量射线固化型粘合剂在上述的粘合剂中配合多官能性丙烯酸酯等紫外线固化性化合物，在形成粘合剂层后照射紫外线而使之固化，由此可以形成更硬的粘合剂层。活性能量射线固化型粘合剂具有受到紫外线、电子束等能量射线的照射后发生固化的性质。由于活性能量射线固化型粘合剂在能量射线照射前也具有粘合性，因此是具有与金属层等被粘物密合、并可以通过能量射线的照射而发生固化来调整密合力的性质的粘合剂。
[0106]
活性能量射线固化型粘合剂一般包含丙烯酸系粘合剂、和能量射线聚合性化合物作为主成分。通常还配合有交联剂，另外根据需要也可以配合光聚合引发剂、光敏化剂等。
[0107]
粘合剂层5的储能模量例如可以设为50000pa以下，也可以为49000pa以下，也可以为40000pa以下，优选为10000pa以上。若粘合剂层5的储能模量处于上述范围，则例如可以提高与金属层6的密合力。若粘合剂层5的储能模量为50000pa以下，则可以在高温干燥下、高温高湿下抑制在其与金属层6之间产生翘起的情况。本说明书中的“粘合剂层的储能模量”是依照jis k7244-6在温度25℃测定的值，可以利用市售的粘弹性测定装置来进行测定。作为粘弹性测定装置，例如可以像后述的实施例所示那样使用physica公司制、mcr300。
[0108]
(金属层)
[0109]
金属层6可以作为用于构成触控面板的触摸传感器的导电层使用。金属层6是由1种以上的金属形成的层。金属层6可以在其表面形成有钝化膜(日文：不動態被膜)(氧化被膜)。金属层6可以是单层结构，也可以是多层结构。需要说明的是，不将钝化膜作为1个层来计数。
[0110]
作为构成金属层6的金属，可以举出铝(al)、铜(cu)、金(au)、银(ag)、钛(ti)、钯(pd)、铬(cr)、镍(ni)、钨(w)、铂(pt)、铁(fe)、铟(in)、锡(sn)、铱(ir)、铑(rh)、钕(nd)、钼(mo)、或包含2种以上的这些金属的合金。它们当中，金属层6的主成分优选为铝或铜，也可以包含钛作为添加剂。此处，所谓主成分，是指构成金属层6的金属当中的占50质量％以上的金属。
[0111]
金属层6例如可以形成于透光性基材，可以是在透光性基材的整个表面形成的连续膜，也可以是在透光性基材的表面形成的金属布线层。金属布线层可以是金属网。透光性基材只要是具有透光性的材料即可，例如可以举出使用了作为用于形成上述的保护层的热塑性树脂说明的树脂材料的膜、玻璃膜、玻璃基板等。
[0112]
金属层6的形成方法没有特别限定，只要在透光性基材的表面例如利用上述的化
学气相沉积法、物理气相沉积法、喷墨印刷法、凹版印刷法、电镀、无电解电镀等来形成即可。金属层6优选利用溅射法来形成。
[0113]
金属层6的厚度通常为0.01μm以上，也可以为0.05μm以上，另外，从薄型化的观点出发，优选为3μm以下，更优选为1μm以下，进一步优选为0.8μm以下。
[0114]
在金属层6为金属布线层的情况下，其线宽通常为10μm以下，也可以为5μm以下，也可以为3μm以下，通常为0.5μm以上。
[0115]
(第1贴合层、第2贴合层、贴合层(x)、贴合层(y)、贴合层(z)、贴合层)
[0116]
作为第1及第2贴合层、贴合层(x)～(z)、以及贴合层，可以举出粘合剂层或粘接剂层。
[0117]
在上述的各贴合层为粘合剂层的情况下，可以使用上述的粘合剂层中说明的粘合剂来形成。在各贴合层为粘合剂层的情况下，该粘合剂层的储能模量优选为50000pa以上，更优选为100000pa以上，进一步优选为150000pa以上。从抑制贴合时的气泡的产生的观点出发，上述粘合剂层的储能模量优选为200000pa以下。通过使粘合剂层的储能模量为上述的范围内，可以在进行光学层叠体1的弯曲、折叠、卷绕等时抑制在固化物层中产生褶皱的情况，因此优选。关于储能模量的测定方法如上所述。在各贴合层为粘合剂层的情况下，粘合剂层的厚度优选为2μm以上且20μm以下，更优选为4μm以上且17μm以下。
[0118]
可以认为，在上述的各贴合层为粘接剂层的情况下，与它们为粘合剂层的情况相比，容易抑制金属层6的腐蚀。在上述的各贴合层为粘接剂层的情况下，可以通过使粘接剂中的固化性成分固化来形成粘接剂层。作为用于形成粘接剂层的粘接剂，是压敏型粘接剂(粘合剂)以外的粘接剂，例如可以举出水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂。
[0119]
作为水系粘接剂，例如可以举出使聚乙烯醇系树脂溶解、或分散于水中的粘接剂。对于使用了水系粘接剂时的干燥方法没有特别限定，例如可以采用使用热风干燥机、红外线干燥机进行干燥的方法。
[0120]
作为活性能量射线固化型粘接剂，例如可以举出包含因紫外线、可见光、电子束、x射线之类的活性能量射线的照射而固化的固化性化合物的无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂。通过使用无溶剂型的活性能量射线固化型粘接剂，可以提高层间的密合性。
[0121]
作为活性能量射线固化型粘接剂，从显示出良好的粘接性的方面出发，优选包含阳离子聚合性的固化性化合物、自由基聚合性的固化性化合物的任意一方或双方。活性能量射线固化型粘接剂可以还包含用于引发上述固化性化合物的固化反应的光阳离子聚合引发剂等阳离子聚合引发剂、或自由基聚合引发剂。
[0122]
作为阳离子聚合性的固化性化合物，例如可以举出具有与脂环式环键合了的环氧基的脂环式环氧化合物、具有2个以上的环氧基且不具有芳香环的多官能脂肪族环氧化合物、具有1个环氧基的单官能环氧化合物(其中，不包括脂环式环氧化合物中含有的物质)、具有2个以上的环氧基且具有芳香环的多官能芳香族环氧化合物等环氧系化合物；在分子内具有1个或2个以上的氧杂环丁烷环的氧杂环丁烷化合物；它们的组合。
[0123]
作为自由基聚合性的固化性化合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子内具有1个或2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物)、具有自由基聚合性的双键的其他乙烯基系化合物、或它们的组合。
[0124]
活性能量射线固化型粘接剂根据需要可以含有光敏化助剂等敏化剂。通过使用敏
化剂，反应性提高，可以使粘接剂层的机械强度、粘接强度进一步提高。作为敏化剂，可以适当地使用公知的敏化剂。在配合敏化剂的情况下，其配合量相对于活性能量射线固化型粘接剂的总量100质量份优选设为0.1～20质量份的范围。
[0125]
活性能量射线固化型粘接剂根据需要可以含有离子捕获剂、抗氧化剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调整剂、增塑剂、消泡剂、防静电剂、流平剂、溶剂等添加剂。
[0126]
在使用了活性能量射线固化型粘接剂的情况下，可以照射紫外线、可见光、电子束、x射线之类的活性能量射线，使粘接剂的涂布层固化而形成粘接剂层。作为活性能量射线，优选紫外线，作为该情况下的光源，可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发水银灯、金属卤化物灯等。
[0127]
实施例
[0128]
以下，给出实施例及比较例而对本发明进一步具体说明，然而本发明并不受这些例子限定。以下，表示配合量或含量的份及％只要没有特别指出，就是质量基准。
[0129]
(1)测定方法及评价方法
[0130]
[透湿度的测定]
[0131]
对于实施例及比较例中使用的保护层及阻挡层，使用恒温恒湿槽，在温度40℃、相对湿度90％rh、测定时间24小时的测定条件下，利用透湿度试验方法(杯法、依照jis z 0208)测定水蒸气透过率，将其作为透湿度。
[0132]
[粘合剂层中的碘量的测定]
[0133]
将实施例及比较例中得到的光学层叠体裁割为25mm
×
50mm的大小，制作出在保护层(带有hc的cop膜)上使用粘合剂贴合有无碱玻璃、在粘合剂层(a)上贴合有剥离膜的试验片(1)。将试验片(1)在温度85℃、相对湿度85％rh的烘箱中保管240小时后，剥离剥离膜，刮取粘合剂层(a)的粘合剂。利用在下述的条件下进行的氧化燃烧离子色谱法，测定出刮取的粘合剂中含有的碘量[ppm]。
[0134]
＜试样燃烧＞
[0135]
·
装置：株式会社三菱化学analytech制aqf-2100h
[0136]
·
燃烧条件：将燃烧温度设为1100℃，对于气体流量，将氩气流量设为200ml/分钟，将氧气流量设为400ml/分钟，将加湿空气流量设为100ml/分钟。
[0137]
＜离子色谱＞
[0138]
·
装置：thermo fisher scientific公司制integrion
[0139]
·
色谱柱：thermo fisher scientific公司制ionpac as19
[0140]
·
测定条件：将洗脱液设为koh水溶液梯度，将流速设为1.0ml/分钟，将注入量设为100μl，将测定模式设为抑制器(日文：
サプレッサ
)式，将检测器设为电导率检测器。
[0141]
[粘合剂层的储能模量的测定]
[0142]
利用下面的方法测定出实施例及比较例中使用的粘合剂层的储能模量。以使粘合剂层的厚度为0.2mm的方式层叠多片。将进行了层叠的粘合剂层冲裁为直径8mm的圆柱体，将其作为储能模量的测定用样品。对于测定用样品，依照jis k7244-6，使用粘弹性测定装置(physica公司制、mcr300)利用扭转剪切法在以下的条件下测定出储能模量[pa]。
[0143]
＜测定条件＞
[0144]
·
法向受力fn：1n
[0145]
·
应变γ：1％
[0146]
·
频率：1hz
[0147]
·
温度：25℃
[0148]
[金属层的腐蚀性的评价]
[0149]
准备出在无碱玻璃表面利用溅射形成有厚度约500nm的金属铝层的带有金属层的玻璃基板(geomatec公司制)。然后，将实施例及比较例中得到的光学层叠体裁割为50mm
×
60mm的大小，在粘合剂层(a)上贴合带有金属层玻璃基板的金属铝层侧，制作出在保护层(带有hc的cop膜)上使用粘合剂贴合有无碱玻璃的试验片(2)。将试验片(2)在温度85℃、相对湿度85％rh的烘箱中保管240小时后，从带有金属层的玻璃基板的背面照射光，从保护层侧的无碱玻璃的表面通过放大镜观察试验片(2)的金属层的状态(贴合有光学层叠体的裁割片的部分)。在观察到的金属层中，计数点腐蚀(直径为0.1mm以上、能够透射光的孔)的个数并依照以下的基准进行了评价。
[0150]
a：点腐蚀的个数为4个以下、
[0151]
b：点腐蚀的个数为5个以上且20个以下、
[0152]
c：产生了大于20个的点腐蚀。
[0153]
(2)构成光学层叠体的各层的准备
[0154]
[活性能量射线固化型粘接剂的制备]
[0155]
将下述成分配合并混合后，进行脱泡，制备出活性能量射线固化型粘接剂。
[0156]
＜阳离子聚合性化合物＞
[0157]
·
新戊二醇二缩水甘油醚(商品名：ex-211l、nagase chemtex(株)制) 30份
[0158]
·
3-乙基-3{[(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧杂环丁烷(商品名：oxt-221、东亚合成(株)制) 13份
[0159]
·
双酚a型环氧树脂(商品名：ep-4100e、(株)adeka、粘度13pa
·
s(温度25℃)) 12份
[0160]
·
含有芳香族的氧杂环丁烷化合物(商品名：tcm-104、tronly制) 45份
[0161]
＜光阳离子聚合引发剂＞
[0162]
·
cpi-100p、sun-apro(株)制、50％碳酸亚丙酯溶液 2.25份(固体成分量)
[0163]
＜光敏化助剂＞
[0164]
·
1，4-二乙氧基萘 1份
[0165]
[偏振板的制作]
[0166]
将厚度20μm、聚合度2400、皂化度99.9％以上的聚乙烯醇膜在加热到125℃的辊上以拉伸倍率4.5倍进行单轴拉伸，在保持张紧状态的同时，在28℃的水中浸渍30秒后，在每100份水中含有碘0.05份及碘化钾5份的28℃的染色浴中浸渍30秒。然后，在每100份水中含有硼酸5.5份及碘化钾15份的64℃的硼酸水溶液中浸渍110秒。接下来，在每100份水中含有硼酸2.35份及碘化钾15份的67℃的硼酸水溶液中浸渍30秒。其后，使用10℃的纯水进行水洗，在80℃干燥，得到直线偏振层。所得的直线偏振层的厚度为8μm。继而，在所得的直线偏振层的一面经由水系粘接剂贴合保护层，在90℃干燥，得到在直线偏振层的一面具有保护层的偏振板。作为保护层，使用厚度27μm的带有硬涂层的环烯烃膜(以下有时称作“带有hc
的cop膜”。)，将带有hc的cop膜的环烯烃膜侧贴合于直线偏振层。所得的偏振板是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、以及直线偏振层的偏振板。带有hc的cop膜的透湿度为8g/m2/24hr。
[0167]
[相位差层的制作]
[0168]
(1/2波长相位差层的制作)
[0169]
在由透明树脂形成的基材层上，涂布取向层形成用组合物并进行干燥，由此进行λ/2取向处理。然后，向取向层上涂布包含盘状聚合性液晶化合物的液晶层形成用组合物，进行加热及uv照射而将聚合性液晶化合物的取向固定化，由此在基材层的取向层上形成厚度2μm的作为固化物层的1/2波长相位差层。
[0170]
(λ/4波长相位差层的制作)
[0171]
向由透明树脂形成的基材层上的进行了摩擦处理的取向层涂布包含棒状的向列聚合性液晶化合物(液晶单体)的液晶层形成用组合物，在保持折射率各向异性的状态下进行固化，由此在基材层的取向层上形成厚度1μm的作为固化物层的1/4波长相位差层。
[0172]
(带有基材层的相位差层的制作)
[0173]
对基材层上的1/2波长相位差层的表面、以及基材层上的1/4波长相位差层的表面分别实施了电晕处理。以使这2个相位差层的慢轴所成的角度为60
°
的方式，将各自的电晕处理面之间使用上文中制备的活性能量射线固化型粘接剂贴合。其后，从1/4波长相位差层侧，使用紫外线照射装置〔fusion uv systems(株)制〕以累积光量400mj/cm2(uv-b)进行紫外线照射而使活性能量射线固化型粘接剂固化，形成作为贴合层(贴合层(x))的粘接剂层。使用层压机进行贴合，以使固化后的粘接剂层的厚度为3μm的方式涂布活性能量射线固化型粘接剂。由此，得到依次层叠有基材层、取向层、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、取向层、以及基材层的带有基材层的相位差层。需要说明的是，带有基材层的相位差层当中的1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、以及1/4波长相位差层(第2固化物层)构成实施例及比较例的光学层叠体中的相位差层，该相位差层的厚度为6μm。
[0174]
(3)光学层叠体的制作
[0175]
〔实施例1〕
[0176]
将上文中制作的带有基材层的相位差层的剥离1/2波长相位差层侧的基材层及取向层而露出的1/2波长相位差层、与上文中制作的偏振板的直线偏振层侧使用厚度5μm的丙烯酸系粘合剂层(储能模量：125000pa)贴合。以使1/2波长相位差层的慢轴与直线偏振层的透射轴所成的角度为15
°
的方式进行1/2波长相位差层与偏振板的贴合。然后，在剥离1/4波长相位差层侧的取向层及基材层而露出的1/4波长相位差层，经由厚度5μm的丙烯酸系粘合剂层(储能模量：125000pa)，贴合对与丙烯酸系粘合剂层接触的面实施了电晕处理的作为阻挡层的厚度13μm的环烯烃膜(1)(以下有时称作“cop膜(1)”。)，在cop膜的表面形成厚度15μm的粘合剂层(储能模量：25500pa)(以下有时称作“粘合剂层(a)”。)而得到光学层叠体(1)。
[0177]
光学层叠体(1)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘合剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘合剂层(贴合层(z))、cop膜(1)
(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘合剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为44μm。
[0178]
进行光学层叠体(1)中使用的cop膜(1)的透湿度的测定、光学层叠体(1)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0179]
〔实施例2〕
[0180]
作为阻挡层，取代cop膜(1)而使用厚度23μm的环烯烃膜(2)(以下有时称作“cop膜(2)”。)，除此以外，与实施例1同样地得到光学层叠体(2)。
[0181]
光学层叠体(2)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘合剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘合剂层(贴合层(z))、cop膜(2)(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘合剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为54μm。
[0182]
进行光学层叠体(2)中使用的cop膜(2)的透湿度的测定、光学层叠体(2)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0183]
〔实施例3〕
[0184]
作为阻挡层，取代cop膜(1)而使用厚度20μm的丙烯酸类膜(以下有时称作“pmma膜”。)，除此以外，与实施例1同样地得到光学层叠体(3)。
[0185]
光学层叠体(3)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘合剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘合剂层(贴合层(z))、pmma膜(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘合剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为51μm。
[0186]
进行光学层叠体(3)中使用的pmma膜的透湿度的测定、光学层叠体(3)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0187]
〔实施例4〕
[0188]
在剥离1/4波长相位差层侧的取向层及基材层而露出的1/4波长相位差层，使用上文中制备的活性能量射线固化型粘接剂，贴合作为阻挡层的cop膜(1)，使活性能量射线固化型粘接剂固化而形成厚度2μm的粘接剂层，除此以外，与实施例1同样地得到光学层叠体(4)。
[0189]
光学层叠体(4)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘合剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘接剂层(贴合层(z))、cop膜(1)(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘合剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为41μm。
[0190]
进行光学层叠体(4)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评
价。将结果表示于表1中。
[0191]
〔比较例1〕
[0192]
在剥离1/4波长相位差层侧的取向层及基材层而露出的1/4波长相位差层，未设置丙烯酸系粘合剂层及阻挡层，而是直接形成粘合剂层(a)，除此以外，与实施例1同样地得到光学层叠体(5)。
[0193]
光学层叠体(5)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘合剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘合剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为26μm。
[0194]
进行光学层叠体(5)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0195]
〔实施例5〕
[0196]
将剥离1/2波长相位差层侧的基材层及取向层而露出的1/2波长相位差层、与偏振板的直线偏振层侧使用上文中制备的活性能量射线固化型粘接剂贴合，使活性能量射线固化型粘接剂固化而形成厚度2μm的粘接剂层，除此以外，与实施例1同样地得到光学层叠体(6)。
[0197]
光学层叠体(6)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘接剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘合剂层(贴合层(z))、cop膜(1)(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘接剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为41μm。
[0198]
进行光学层叠体(6)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0199]
〔实施例6〕
[0200]
在剥离1/4波长相位差层侧的取向层及基材层而露出的1/4波长相位差层，使用上文中制备的活性能量射线固化型粘接剂，贴合作为阻挡层的cop膜(1)，使活性能量射线固化型粘接剂固化而形成厚度2μm的粘接剂层，除此以外，与实施例5同样地得到光学层叠体(7)。
[0201]
光学层叠体(7)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘接剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘接剂层(贴合层(z))、cop膜(1)(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘接剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为38μm。
[0202]
进行光学层叠体(7)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0203]
〔实施例7〕
[0204]
作为阻挡层，使用厚度20μm的三乙酰纤维素膜(以下有时称作“tac膜”。)，除此以外，与实施例6同样地得到光学层叠体(8)。
[0205]
光学层叠体(8)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘接剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、粘接剂层(贴合层(z))、tac膜(阻挡层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘接剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为45μm。
[0206]
进行光学层叠体(8)中使用的tac膜的透湿度的测定、光学层叠体(8)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0207]
〔比较例2〕
[0208]
在剥离1/4波长相位差层侧的取向层及基材层而露出的1/4波长相位差层，未设置丙烯酸系粘合剂层及阻挡层，而是直接形成粘合剂层(a)，除此以外，与实施例5同样地得到光学层叠体(9)。
[0209]
光学层叠体(9)是依次层叠有带有hc的cop膜(保护层、第1保护层)、粘接剂层(第1贴合层)、直线偏振层、粘接剂层(贴合层(y))、1/2波长相位差层(第1固化物层)、粘接剂层(贴合层、贴合层(x))、1/4波长相位差层(第2固化物层)、以及粘合剂层(a)的层叠体。从直线偏振层的1/2波长相位差层侧的表面到粘合剂层(a)的与cop膜侧相反的一侧的表面的距离d(粘接剂层(贴合层(y)～粘合剂层(a)的厚度)为23μm。
[0210]
进行光学层叠体(9)中的粘合剂层(a)的碘量的测定、以及金属层的腐蚀性的评价。将结果表示于表1中。
[0211]
【表1】
[0212]