光学层叠体的制作方法

技术特征：
1.一种光学层叠体，是依次包含直线偏振层、相位差层、阻挡层以及粘合剂层的光学层叠体，所述直线偏振层是吸附有碘并使其进行了取向的聚乙烯醇系树脂膜，所述相位差层包含至少1层的使聚合性液晶化合物聚合固化而得的固化物层，所述阻挡层被设为与所述粘合剂层直接接触，所述阻挡层的温度40℃、相对湿度90％rh的条件下的透湿度为1g/m2/24hr以上且2000g/m2/24hr以下，从所述直线偏振层的所述相位差层侧的表面到所述粘合剂层的与所述阻挡层侧相反的一侧的表面的距离为55μm以下。2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，将所述光学层叠体在温度85℃、相对湿度85％rh的条件下保管240小时后的所述粘合剂层中的碘量为250ppm以下。3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述阻挡层为树脂膜。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体，其中，所述相位差层包含2层的所述固化物层，还包含用于将所述2层的固化物层相互贴合的贴合层x。5.根据权利要求4所述的光学层叠体，其中，所述贴合层x为粘接剂层。6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体，其包括包含所述直线偏振层的偏振板、以及用于将所述偏振板与所述相位差层贴合的贴合层y，所述偏振板在所述直线偏振层的一面或两面设有保护层。7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体，其还包含用于将所述相位差层与所述阻挡层贴合的贴合层z。8.根据权利要求7所述的光学层叠体，其中，所述贴合层z为粘接剂层。9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体，其还在所述粘合剂层的与所述阻挡层侧相反的一侧包含金属层。10.根据权利要求9所述的光学层叠体，其中，所述金属层被设为与所述粘合剂层直接接触。

技术总结
本发明提供一种可以抑制高温高湿环境下的金属层的腐蚀的光学层叠体。光学层叠体依次包含直线偏振层、相位差层、阻挡层、以及粘合剂层。直线偏振层是吸附有碘并使其进行了取向的聚乙烯醇系树脂膜。相位差层包含至少1层的使聚合性液晶化合物聚合固化而得的固化物层。阻挡层被设为与粘合剂层直接接触。阻挡层的温度40℃、相对湿度90％RH的条件下的透湿度为1g/m2/24hr以上且2000g/m2/24hr以下。从直线偏振层的相位差层侧的表面到粘合剂层的与阻挡层侧相反的一侧的表面的距离为55μm以下。侧相反的一侧的表面的距离为55μm以下。侧相反的一侧的表面的距离为55μm以下。


技术研发人员：白石贵志 朴松熙
受保护的技术使用者：住友化学株式会社
技术研发日：2021.09.08
技术公布日：2022/3/11