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遮罩以及遮罩的制造方法与流程

2022-03-02 04:23:03 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种遮罩的制造方法,其特征在于,包括步骤:提供一基板,该基板具有一表面;于该基板上形成一光阻图案,并使该光阻图案覆盖于该表面的一第一部分;提供一金属框,该金属框具有一内壁且围构出一框内区域,其中该框内区域的面积小于该基板的该表面的面积;组合该金属框及该基板,使该内壁与该表面连接且该光阻图案露出于该框内区域;以及于该框内区域进行金属沉积,并在该表面上形成一沉积金属层。2.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该于该基板上形成该光阻图案的步骤更包括步骤:涂布一光阻于该基板的该表面;通过一光罩对该光阻进行曝光;以及进行显影。3.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该于该基板上形成该光阻图案的步骤更包括于该表面上形成裸露的一第二部分。4.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该金属框还具有一底部,且该组合该金属框及该基板的步骤更包括将该金属框的该底部抵靠于该基板的该表面。5.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该组合该金属框及该基板的步骤更包括使用一治具将该金属框固定于该基板上。6.如权利要求3所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该于该框内区域进行金属沉积的步骤更包括将至少一金属沉积于该表面的该第二部分以及该金属框的该内壁。7.如权利要求6所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该金属框更具有一顶部,且该于该框内区域进行金属沉积的步骤更包括将该至少一金属沉积于该顶部。8.如权利要求6所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该于该框内区域进行金属沉积的步骤更包括沿该表面的该第二部分以及该金属框的该内壁一体成型该沉积金属层,且该沉积金属层与该金属框相连接。9.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,更包括步骤:移除该基板;移除该光阻图案并显露在该沉积金属层之中的一镂空图案,其中该镂空图案与该光阻图案对应。10.如权利要求9所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该镂空图案具有一孔径,且该孔径小于200μm。11.如权利要求10所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该孔径为3~7μm,且该孔径对应该光阻图案的一部分,而该光阻图案的该部分具有5μm的宽度。12.如权利要求1所述的遮罩的制造方法,其特征在于,该光阻图案在该表面上具有一第一高度,该沉积金属层在该表面上具有一第二高度,且该第二高度小于该第一高度。13.一种遮罩,其特征在于,由权利要求1~12任一项所述的制造方法所形成。14.如权利要求13所述的遮罩,其特征在于,该沉积金属层具有1~50μm的厚度。

技术总结
一种遮罩的制造方法,包括步骤:提供基板,其具有表面;于基板上形成光阻图案,并使光阻图案覆盖于表面的第一部分;提供金属框,其具有内壁且围构出框内区域,其中框内区域的面积小于基板的表面的面积;组合金属框及基板,使内壁与表面连接且光阻图案露出于框内区域;以及于框内区域进行金属沉积,并在表面上形成沉积金属层。本发明还提供一种遮罩。本发明还提供一种遮罩。本发明还提供一种遮罩。


技术研发人员:林仁顺
受保护的技术使用者:达运精密工业股份有限公司
技术研发日:2021.11.05
技术公布日:2022/3/1
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