一种显示面板及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种显示面板，包括屏下摄像头（3）的透明显示区（1）、有效发光区（2）和玻璃基板（4），其特征在于：所述玻璃基板（4）的上端表面设有tft薄膜晶体管阵列层（5），所述tft薄膜晶体管阵列层（5）的上端表面设有像素定义层（6），所述像素定义层（6）上设有oled器件层（9），所述像素定义层（6）的上端表面设有阴极层（7），所述阴极层（7）的上端表面设有薄膜封装层（8）；所述透明显示区（1）处的阴极层（7）为透明显示区阴极层（72），所述有效发光区（2）处的阴极层为有效发光区阴极层（71）。2.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于：所述薄膜封装层（8）包括由下至上的第一无机层（81）、有机层（82）、第二无机层（83）组成的薄膜封装层。3.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于：所述透明显示区阴极层（7）与有效发光区阴极层（71）的材料一致，均为退火的pan纳米纤维增强石墨烯薄膜、氧化钛结晶膜、丝素蛋白膜或者为在柔性石墨烯表面涂覆的有机质子酸htb的纳米涂层。4.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于：所述透明显示区阴极层（7）与有效发光区阴极层（71）的材料不一致，且透明显示区阴极层（7）的材料为退火的pan纳米纤维增强石墨烯薄膜、氧化钛结晶膜、丝素蛋白膜或者为在柔性石墨烯表面涂覆有机质子酸htb的纳米涂层，有效发光区阴极层（71）的材料为金属。5.一种权利要求1-4任意一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于：具体包括以下步骤：s1、在柔性衬底或者玻璃基板（4）上制备tft阵列层，即tft薄膜晶体管阵列层（5）；s2、在tft薄膜晶体管阵列层（5）上制备像素定义层（6），像素定义层（6）定义出oled器件制备区域；s3、制备oled器件层（9），主要有：空穴注入层、空穴传输层、rgb发光层、电子注入层、电子传输层等；s4、在像素定义层（6）上制备阴极层（7），s5、在阴极层上制备第一无机层（81）、有机层（82）、第二无机层（83）组成的薄膜封装层。

技术总结
本发明公开了一种显示面板及其制备方法，包括屏下摄像头的透明显示区、有效发光区和玻璃基板，玻璃基板的上端表面设有TFT薄膜晶体管阵列层，TFT薄膜晶体管阵列层的上端表面设有像素定义层，像素定义层上设有OLED器件层，像素定义层的上端表面设有阴极层，阴极层的上端表面设有薄膜封装层；透明显示区处的阴极层为透明显示区阴极层，有效发光区处的阴极层为有效发光区阴极层。薄膜封装层包括由下至上的第一无机层、有机层、第二无机层组成的薄膜封装层。本发明的显示面板通过改变现有金属阴极层的机构，通过采用新型、穿透率更高、可柔性的、可提高其导电效果的材料，大大改善了现有屏下摄像头技术中透过率较低，显示不良或摄影成像不佳的问题。成像不佳的问题。成像不佳的问题。


技术研发人员：林志斌 刘剑
受保护的技术使用者：福建华佳彩有限公司
技术研发日：2021.09.27
技术公布日：2022/2/28