一种高纯锰的表面清理方法与流程

技术特征：
1.一种高纯锰的表面清理方法，其特征在于，所述表面清理方法包括以下步骤：(1)将高纯锰采用不同粒径的砂料进行喷砂处理；(2)将步骤(1)喷砂处理后的高纯锰采用有机溶剂进行超声波清洗；(3)将步骤(2)超声波清洗后的高纯锰依次进行干燥、包装，得到表面清理后的高纯锰材料。2.根据权利要求1所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(1)所述高纯锰由电解方式制得，称为高纯电解锰；优选地，步骤(1)所述高纯锰的纯度为3n8以下；优选地，步骤(1)所述高纯锰呈块状，其表面为非平整结构，粗糙度为1.3～1.8μm。3.根据权利要求1或2所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(1)所述砂料包括至少两种粒径的砂料组成的混合物，优选为三种粒径的砂料；优选地，步骤(1)所述砂料包括刚玉砂。4.根据权利要求3所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(1)所述砂料的粒径在15～75目之间选择，优选为20～60目；优选地，所述砂料的粒径包括三种时，按砂粒粒径由大到小的顺序质量比依次为1:(1～1.5):(1～1.5)。5.根据权利要求1-4任一项所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(1)所述喷砂处理的压力为0.2～0.6mpa；优选地，步骤(1)所述喷砂处理的时间为5～15min；优选地，步骤(1)所述喷砂处理的喷砂距离为1～3cm。6.根据权利要求1-5任一项所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(2)所述有机溶剂包括异丙醇、正丙醇或乙醇中任意一种或至少两种的组合；优选地，步骤(2)所述超声波清洗的时间为20～30min；优选地，步骤(2)所述超声波清洗时超声波的频率为20～50khz。7.根据权利要求1-6任一项所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(3)所述干燥包括真空干燥；优选地，所述真空干燥的温度为60～80℃；优选地，所述真空干燥的压力为10-2
pa以下；优选地，所述真空干燥的时间为60～90min。8.根据权利要求1-7任一项所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(3)所述包装为真空包装；优选地，所述真空包装时先采用保护性气体置换空气，然后抽真空；优选地，所述置换的次数至少为两次；优选地，所述保护性气体包括氮气和/或惰性气体；优选地，所述抽真空后的压力为10-2
pa以下。9.根据权利要求1-8任一项所述的表面清理方法，其特征在于，步骤(3)所述表面清理后的高纯锰材料的表面粗糙度为0.3～0.8μm；优选地，所述表面清理后的高纯锰材料的纯度为4n5以上。10.根据权利要求1-9任一项所述的表面清理方法，其特征在于，所述表面清理方法包
括以下步骤：(1)将高纯锰采用不同粒径的砂料进行喷砂处理，所述高纯锰由电解方式制得，称为高纯电解锰，其纯度为3n8以下，表面为非平整结构，粗糙度为1.3～1.8μm；所述砂料包括至少两种粒径的砂料组成的混合物，砂料的粒径在15～75目之间选择，所述砂料的粒径包括三种时，按砂粒粒径由大到小的顺序质量比依次为1:(1～1.5):(1～1.5)，所述砂料包括刚玉砂；所述喷砂处理的压力为0.2～0.6mpa，时间为5～15min，喷砂距离为1～3cm；(2)将步骤(1)喷砂处理后的高纯锰采用有机溶剂进行超声波清洗，所述有机溶剂包括异丙醇、正丙醇或乙醇中任意一种或至少两种的组合，所述超声波清洗的时间为20～30min，所用超声波的频率为20～50khz；(3)将步骤(2)超声波清洗后的高纯锰依次进行真空干燥、真空包装，所述真空干燥的温度为60～80℃，压力为10-2
pa以下，时间为60～90min；所述真空包装时先采用保护性气体置换空气，然后抽真空，所述置换的次数至少为两次，抽真空后的压力为10-2
pa以下，得到表面清理后的高纯锰材料，所述高纯锰材料的表面粗糙度为0.3～0.8μm，纯度为4n5以上。

技术总结
本发明提供了一种高纯锰的表面清理方法，所述表面清理方法包括以下步骤：将高纯锰采用不同粒径的砂料进行喷砂处理；将喷砂处理后的高纯锰采用有机溶剂进行超声波清洗；将超声波清洗后的高纯锰依次进行干燥、包装，得到表面清理后的高纯锰材料。本发明所述方法对电解得到的高纯锰进行表面清理，尤其是采用不同粒径的砂料对高纯锰进行喷射，使之能够对高纯锰的粗糙表面进行打磨，表面不同区域均能受到砂粒的作用力，使表面的杂质、脏污及氧化层疏松或脱落，再经超声波清洗充分去除，经干燥包装，避免清洗液残留及表面的再氧化，使之满足后续用于含锰靶材制备的要求；所述方法操作简便，效果显著，成本较低，适用范围较广。适用范围较广。


技术研发人员：姚力军 潘杰 边逸军 王学泽 慕二龙 汪焱斌
受保护的技术使用者：宁波江丰电子材料股份有限公司
技术研发日：2021.11.16
技术公布日：2022/2/24