离型膜的制作方法

技术特征：
1.离型膜，包括：第一离型膜，在其中限定有第一孔的支承件上；以及第二离型膜，在所述支承件下方，其中，当在平面图中观察时，第一切割区由所述第二离型膜的第一部限定，所述第一部与所述第一孔重叠。2.根据权利要求1所述的离型膜，其中，所述第一切割区包括：第一子切割区，在第一方向上延伸；以及第二子切割区，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸。3.根据权利要求2所述的离型膜，其中，所述第二子切割区与所述第一子切割区交叉。4.根据权利要求1所述的离型膜，其中，第二孔由所述支承件限定，以及其中，第二切割区由所述第二离型膜的第二部限定，所述第二部与所述第二孔重叠。5.根据权利要求4所述的离型膜，其中，所述第二切割区包括：第三子切割区，在第一方向上延伸；以及第四子切割区，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸。6.根据权利要求5所述的离型膜，其中，所述第四子切割区与所述第三子切割区交叉。7.根据权利要求4所述的离型膜，其中，所述第二离型膜包括：第一子离型膜，在所述支承件下方；以及第二子离型膜，在所述第一子离型膜下方。8.根据权利要求7所述的离型膜，其中，所述第一切割区由所述第一子离型膜和所述第二子离型膜限定。9.根据权利要求7所述的离型膜，还包括遮光层，所述遮光层在所述第二子离型膜的一个表面上。10.根据权利要求9所述的离型膜，其中，所述第二切割区由所述遮光层和所述第二子离型膜限定。11.根据权利要求9所述的离型膜，其中，所述遮光层在所述第二子离型膜的顶表面上。12.根据权利要求11所述的离型膜，其中，所述遮光层在由所述第一子离型膜的与所述第二孔重叠的部分限定的子孔中。13.根据权利要求9所述的离型膜，其中，所述遮光层在所述第二子离型膜的底表面上。14.根据权利要求9所述的离型膜，其中，所述遮光层直接在所述第二子离型膜的底表面上。15.根据权利要求7所述的离型膜，其中，所述第一切割区具有宽度，并且从所述第一子离型膜的所述第一部开口至所述第一子离型膜的边缘，并且所述第一子离型膜的所述边缘与所述第一部相邻。16.根据权利要求7所述的离型膜，其中，所述第二切割区具有宽度，并且从所述第一子离型膜的所述第二部开口至所述第一子离型膜的边缘，并且所述第一子离型膜的所述边缘与所述第二部相邻。17.根据权利要求4所述的离型膜，还包括在所述支承件下方的第三离型膜，所述第三离型膜与所述第二离型膜相邻，并且在所述平面图中与所述第二离型膜不重叠。18.根据权利要求17所述的离型膜，其中，所述支承件包括：
第一板；覆盖层，在所述第一板下方；第二板，在所述覆盖层下方；缓冲层，在所述第二板下方；绝缘层，在所述缓冲层下方；台阶补偿层，在所述第一板下方；以及边界粘合层，在所述台阶补偿层下方，其中，所述第二离型膜在所述绝缘层和所述边界粘合层下方。19.根据权利要求18所述的离型膜，其中，所述第一孔和所述第二孔由所述边界粘合层、所述台阶补偿层和所述第一板限定。20.根据权利要求18所述的离型膜，其中，所述第三离型膜在所述第一板下方，并且与所述覆盖层、所述第二板、所述缓冲层和所述绝缘层中的每个的第一边缘相邻，以及其中，所述台阶补偿层和所述边界粘合层与所述覆盖层、所述第二板、所述缓冲层和所述绝缘层中的每个的第二边缘相邻。

技术总结
公开了一种离型膜，该离型膜包括第一离型膜和第二离型膜，第一离型膜在其中限定有第一孔的支承件上，第二离型膜在支承件下方，其中，当在平面图中观察时，第一切割区由第二离型膜的第一部限定，该第一部与第一孔重叠。该第一部与第一孔重叠。该第一部与第一孔重叠。


技术研发人员：姜镐升 金敏燮 南皓盛 咸文植
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.07.28
技术公布日：2022/2/23