一种清洁机系统的制作方法

技术特征：
1.一种清洁机系统，包括清洁机和基站，基站用于放置清洁机来进行维护，其特征在于：清洁机包括第一主体和第二主体，第二主体设置为可相对第一主体旋转的结构；清洁机还包括地刷组件，地刷组件安装于第一主体上，且地刷组件上设置有可运动的拖擦件来接触地面进行清洁；清洁机还包括集污区和供液区，集污区与地刷组件之间设置集污通道来形成相连通的结构，供液区与地刷组件相连来用于向拖擦件供给清洗液；集污区上设置有第一排污部，供液区上设置有第一供液部；基站上设置有与第一排污部对应的第二排污部，且设置有与第一供液部对应的第二供液部。2.根据权利要求1所述的一种清洁机系统，其特征在于：基站上设置有第三主体和第四主体，第三主体上设置有朝向第一主体的第一开口部且至少第三主体的一部分形成对第一主体的相互接触结构，第四主体上设置有朝向第二主体的第二开口部且至少第四主体的一部分形成对第二主体的相互接触结构。3.根据权利要求2所述的一种清洁机系统，其特征在于：基站上设置有与供液区对应的蓄液区且第二供液部位于蓄液区上；或，基站上设置有与供液区对应的蓄液区且第二供液部位于蓄液区上并在蓄液区上设置有用于清洗液流通进入到蓄液区内的进液部。4.根据权利要求3所述的一种清洁机系统，其特征在于：基站上设置有与集污区对应的蓄污区且第二排污部位于蓄污区上；或，基站上设置有与集污区对应的蓄污区且第二排污部位于蓄污区上并在蓄污区上设置有用于将蓄污区内的污水进行向外流通排出的排液部。5.根据权利要求4所述的一种清洁机系统，其特征在于：第三主体上设置有清洗区且清洗区位于拖擦件的下侧，清洗区的外侧设置有支撑区且支撑区与第一主体的底部设置为相接触的支撑结构。6.根据权利要求1-5任一项所述的一种清洁机系统，其特征在于：蓄液区与集污区设置为通过第一通道相连来用于供给清洗液到集污区内进行清洗的结构；和/或，蓄液区与蓄污区设置为通过第二通道相连来用于供给清洗液到蓄污区内进行清洗的结构。7.根据权利要求6所述的一种清洁机系统，其特征在于：集污区设置位于第二主体上，集污区的一侧设置安装动力机构，动力机构与集污区设置相连通使得当动力机构工作时污水通过集污通道进入到集污区内收集。8.根据权利要求6所述的一种清洁机系统，其特征在于：集污区设置位于第一主体上且位于拖擦件的一侧，至少集污通道的一部分设置为位于拖擦件的顶部的下侧来使得污水在重力下流动进入到集污通道内并进入到集污区内收集。9.根据权利要求1、7或8所述的一种清洁机系统，其特征在于：第一主体上设置有集污组件，拖擦件设置为可沿第一方向旋转滚动的结构，至少集污区的一部分和集污组件的一部分位于沿第一方向由拖擦件的顶部至拖擦件的底部的外侧区域位置上，且集污组件与集污通道设置为相连结构。10.根据权利要求9所述的一种清洁机系统，其特征在于：集污组件包括刮部，刮部设置
为与拖擦件的外表面相互接触的结构，且刮部上还设置有引导部，引导部设置为朝向拖擦件的外侧的下侧方向延伸伸出的结构并设置引导部与集污通道相连。11.根据权利要求10所述的一种清洁机系统，其特征在于：拖擦件设置为圆柱形结构，且刮部上设置有凸部，凸部设置为朝向拖擦件的截面的中部区域或截面的中心区域来构成与拖擦件的外表面相互接触的结构。12.根据权利要求11所述的一种清洁机系统，其特征在于：凸部设置为位于沿第一方向由拖擦件的顶部至拖擦件在水平方向上的靠近集污区的侧部的区域位置上来形成与拖擦件的外表面相互接触的结构。13.根据权利要求12所述的一种清洁机系统，其特征在于：第一主体上设置有入液部，入液部与供液区相连来用于向拖擦件供给清洗液，入液部设置为位于凸部的上侧且位于拖擦件的外侧并设置为位于沿第一方向由拖擦件在水平方向上的远离集污区的侧部位置至凸部的区域位置上来对拖擦件供给清洗液。14.根据权利要求13所述的一种清洁机系统，其特征在于：集污组件还包括压部，压部设置为与拖擦件的外表面相互接触的结构，且压部位于沿第一方向由拖擦件在水平方向上的远离集污区的侧部位置至入液部的区域位置上。15.根据权利要求1、7、8或14所述的一种清洁机系统，其特征在于：供液区位于第二主体上和/或位于第一主体上，且至少供液区的一部分设置为位于集污区的上侧。16.根据权利要求1所述的一种清洁机系统，其特征在于：清洁机上设置有第一电极组件，基站上对应的设置有第二电极组件，第一电极组件包括第一电极片和第二电极片，第二电极组件包括第三电极片和第四电极片，当第一电极片与第三电极片形成相接触的结构且第二电极片与第四电极片形成相互接触的结构时使得第一排污部和第二排污部对应相通且第一供液部和第二供液部对应相通。17.根据权利要求1所述的一种清洁机系统，其特征在于：基站上设置有用于对拖擦件进行烘干的烘干模块和/或设置有用于对拖擦件进行杀菌的杀菌模块，至少烘干模块的一部分设置为朝向拖擦件方向。

技术总结
一种清洁机系统，包括清洁机和基站，基站用于放置清洁机来进行维护，清洁机包括第一主体和第二主体，第二主体设置为可相对第一主体旋转的结构；清洁机还包括安装于第一主体上的地刷组件，地刷组件上设置有可运动的拖擦件来接触地面进行清洁；清洁机还包括集污区和供液区，集污区与地刷组件之间设置集污通道来形成相连通的结构，供液区与地刷组件相连来用于向拖擦件供给清洗液；集污区上设置有第一排污部，供液区上设置有第一供液部；基站上设置有对应的第二排污部，且设置有对应的第二供液部。本方案主要解决了现有清洁机需要频繁维护导致用户使用不方便、体验效果差的问题，且解决了现有清洁机对拖布的清洗效果差、无法有效收集污水的问题。收集污水的问题。收集污水的问题。


技术研发人员：高新忠 高令宇 方恩光 韦宜军 邓杰
受保护的技术使用者：杭州英乐特智能科技有限公司
技术研发日：2021.08.14
技术公布日：2022/2/18