氧化铟靶材和氧化铟靶材制备方法与流程

技术特征：
1.一种氧化铟靶材，其特征在于，所述氧化铟靶材的原料组分包括：氧化铈；氧化铟；其中，所述氧化铈的质量百分比为2至5。2.根据权利要求1所述的氧化铟靶材，其特征在于，所述氧化铈为中值粒径小于或等于0.4μm的氧化铈粉末；所述氧化铟为中值粒径小于或等于0.62μm的氧化铟粉末。3.根据权利要求2所述的氧化铟靶材，其特征在于，所述氧化铈粉末中氧化铈的纯度大于99.99％，比表面积为8m2/g至13m2/g；所述氧化铟粉末中氧化铟的纯度大于99.99％，比表面积为8m2/g至13m2/g。4.一种氧化铟靶材制备方法，其特征在于，包括：按照权利要求1至3中任一项所述的氧化铟靶材的原料组分配比获取靶材原料；将所述靶材原料通过球磨研磨，获取一段研磨浆料；对所述一段研磨浆料进行砂磨研磨，获取二段研磨浆料；对所述二段研磨浆料进行造粒，获取粒料；对所述粒料进行冷等静压，获取素坯；对所述素坯进行烧结，冷却后获取所述靶材。5.根据权利要求4所述的氧化铟靶材制备方法，其特征在于，所述二段研磨浆料中固体颗粒物的中值粒径为0.1μm至0.38μm。6.根据权利要求4所述氧化铟靶材制备方法，其特征在于，所述球磨研磨的时长为10h至16h；所述球磨研磨的浆料浓度为50％至60％。7.根据权利要求4所述的氧化铟靶材制备方法，其特征在于，所述砂磨研磨为多次，每次砂磨研磨的时长为1h至2h。8.根据权利要求4所述的氧化铟靶材制备方法，其特征在于，所述砂磨研磨的磨料为粒径为0.2mm至0.4mm的氧化锆陶瓷。9.根据权利要求4至8中任一项所述的氧化铟靶材制备方法，其特征在于，所述对所述粒料进行冷等静压，获取素坯的步骤，具体包括：将所述粒料放置在等静压模具内；对等静压模具施加160mpa至200mpa的压力，获取所述素坯。10.根据权利要求4至8中任一项所述的氧化铟靶材制备方法，其特征在于，对所述素坯进行烧结的烧结温度为1520℃至1600℃。

技术总结
本发明提供了一种氧化铟靶材和氧化铟靶材制备方法，其中，氧化铟靶材的原料组分包括：氧化铈；氧化铟；其中，氧化铈的质量百分比为2至5。氧化铟靶材制备方法包括：按照氧化铟靶材的原料组分配比获取靶材原料；将靶材原料通过球磨研磨，获取一段研磨浆料；对一段研磨浆料进行砂磨研磨，获取二段研磨浆料；对二段研磨浆料进行造粒，获取粒料；对粒料进行冷等静压，获取素坯；对素坯进行烧结，获取靶材。本发明提供了的氧化铟靶材制备氧化铟靶材的原料组分包括氧化铈和氧化铟，氧化铈的质量百分比为2至5。通过该材料组分的选取及配比，使得制备获取的氧化铟靶材密度高、成分分布均匀性好，使得使用该靶材制备的导电氧化物薄膜性能得到提高。提高。提高。


技术研发人员：雷雨 许积文 周志宏 肖世洪 周昭宇 杨永添
受保护的技术使用者：广州市尤特新材料有限公司
技术研发日：2020.07.31
技术公布日：2022/2/18