试样支撑体、接合器、电离法及质量分析方法与流程

1.本发明涉及一种试样支撑体、接合器、电离法及质量分析方法。


背景技术：

2.目前，作为为了进行质量分析等而将生物试样等试样电离的方法，已知有一种激光解吸电离法。作为用于激光解吸电离法的试样支撑体，在专利文献1中记载有一种具备形成有多个贯通孔的基板和设置于基板的至少一表面的导电层的试样支撑体。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本专利6093492号公报


技术实现要素：

6.发明所要解决的问题
7.在将上述的试样支撑体安装于质量分析装置时，有时使用具有在质量分析装置中位于与激光等能量线的焦点同一平面上的基准面的接合器。在这种情况下，当能量线的焦点高精度地对准设置于基板的一表面的导电层时，在经电离的试样的成分的检测中灵敏度及分辨率提高。
8.因此，本发明的目的在于，提供一种试样支撑体、接合器、电离法及质量分析方法，其可在质量分析装置中实现能量线的焦点的高精度的位置对准。
9.解决问题的技术手段
10.本发明的一方面的试样支撑体，是为了将试样电离而使用的试样支撑体，具备：膜部，其具有第一表面及第一背面，且形成有在第一表面及第一背面开口的多个贯通孔；支撑部，其针对膜部划定用于将试样电离的测定区域，且支撑膜部，支撑部包含：内侧部分，其具有第二表面及第二背面，固定有膜部；外侧部分，其具有第三表面及第三背面，沿着内侧部分的外缘延伸，在膜部的厚度方向上在第一表面的位置和第三表面的位置之间产生的差小于膜部的厚度。
11.在该试样支撑体中，在膜部的厚度方向上在膜部的第一表面的位置和外侧部分的第三表面的位置之间产生的差小于膜部的厚度。由此，在使用具有在质量分析装置中位于与激光等能量线的焦点同一平面上的基准面的接合器，将试样支撑体安装于质量分析装置的情况下，通过以接合器的基准面及外侧部分的第三表面位于同一平面上的方式使外侧部分保持于接合器，能够将能量线的焦点以低于膜部的厚度的水平对准膜部的第一表面。因此，该试样支撑体可在质量分析装置中实现能量线的焦点的高精度的位置对准。
12.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，第一表面及第三表面位于同一平面上。由此，在质量分析装置中能够将能量线的焦点以更高的精度对准膜部的第一表面。
13.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，第二背面位于相较于第三背面在厚度方向上更靠近第一表面朝向的一侧，膜部固定于第二背面。由此，能够以简单的结构实
现可以将能量线的焦点高精度地对准膜部的第一表面的结构。
14.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，第二表面位于相较于第三表面在厚度方向上更靠近第一背面朝向的一侧，膜部固定于第二表面。由此，能够以简单的结构实现可以将能量线的焦点高精度地对准膜部的第一表面的结构。
15.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，膜部包含：基板，其由绝缘性材料形成；导电层，其至少在测定区域上相对于基板至少设置于第一表面侧。由此，在质量分析装置中能够将试样的成分高效地电离。
16.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，多个贯通孔各自的宽度为1～700nm。由此，能够将试样的成分适当地保持于膜部的第一表面。
17.在本发明的一方面的试样支撑体中，也可以是，支撑部划定多个测定区域。由此，在质量分析装置中能够针对每一测定区域分析试样。
18.本发明的一方面的接合器，是为了将上述试样支撑体安装于质量分析装置而使用的接合器，具备：保持部，其具有在质量分析装置中位于与能量线的焦点同一平面上的基准面，以基准面及第三表面位于同一平面上的方式保持外侧部分。
19.根据该接合器，在质量分析装置中能够将能量线的焦点高精度地对准膜部的第一表面。
20.本发明的一方面的接合器也可以还具备：载置部，其以与第一背面接触的状态与外侧部分一同由保持部保持。由此，能够稳定地支撑膜部，因此，在质量分析装置中能够将能量线的焦点以更高的精度对准膜部的第一表面。
21.本发明的一方面的电离法，具备：准备上述试样支撑体的工序；在测定区域配置试样的工序；使用接合器将试样支撑体安装于质量分析装置的工序，所述接合器具备保持部，所述保持部具有在质量分析装置中位于与能量线的焦点同一平面上的基准面，以基准面及第三表面位于同一平面上的方式保持外侧部分；通过对测定区域照射能量线，将试样的成分电离的工序。
22.根据该电离法，能够在能量线的焦点高精度地对准膜部的第一表面的状态下，将试样的成分电离。
23.本发明的一方面的质量分析方法，具备：上述电离法具备的多个工序；对经电离的成分进行检测的工序。
24.发明的效果
25.在该质量分析方法中，在能量线的焦点高精度地对准膜部的第一表面的状态下，试样的成分被电离，因此，在经电离的成分的检测中能够提高灵敏度及分辨率。
26.根据本发明，能够提供一种试样支撑体、接合器、电离法及质量分析方法，其可在质量分析装置中实现能量线的焦点的高精度的位置对准。
附图说明
27.图1是第一实施方式的试样支撑体的俯视图。
28.图2是沿着图1所示的ii－ii线的截面图。
29.图3是表示图1所示的基板的表面的sem图像的图。
30.图4是第一实施方式的试样支撑体及接合器的俯视图。
31.图5是沿着图4所示的v－v线的截面图。
32.图6是表示第一实施方式的质量分析方法的图。
33.图7是第二实施方式的试样支撑体的局部截面图。
34.图8是变形例的试样支撑体的局部截面图。
35.图9是变形例的试样支撑体的俯视图。
36.图10是沿着图9所示的x－x线的截面图。
具体实施方式
37.下面，参照附图，对本发明的实施方式进行详细的说明。此外，在各图中对相同或相当部分标注相同符号，省略重复的说明。
38.[第一实施方式]
[0039]
[试样支撑体的结构]
[0040]
图1及图2所示的试样支撑体1a为了将试样电离而使用。试样支撑体1a具备基板2、框架3以及导电层4。基板2具有表面2a及背面2b(与表面2a相反侧的面)。在基板2形成有在表面2a及背面2b开口的多个贯通孔2c。各贯通孔2c沿着基板2的厚度方向d(以下简称为“方向d”)延伸。方向d为表面2a及背面2b相对的方向。
[0041]
基板2例如由绝缘性材料形成为长方形板状。从方向d观察时的基板2的一边的长度例如为几cm左右，基板2的厚度例如为1～50μm。从方向d观察时的各贯通孔2c的形状例如为大致圆形，各贯通孔2c的宽度例如为1～700nm。在基板2分别均匀地(以均匀的分布)形成有具有大致一定宽度的多个贯通孔2c。测定区域r上的贯通孔2c的开口率(从方向d观察时全部贯通孔2c相对于测定区域r所占的比例)在实用上为10～80％，特别优选为60～80％。此外，在多个贯通孔2c中，各贯通孔2c的宽度也可以不一致，贯通孔2c彼此也可以部分地相连。
[0042]
贯通孔2c的宽度为如下获取的值。首先，获取基板2的表面2a及背面2b各自的图像。图3是表示基板2的表面2a的sem图像的图。在该sem图像中，黑色的部分为贯通孔2c，白色的部分为贯通孔2c间的间隔壁部。接着，通过对所获取的表面2a的图像实施例如二进制处理，提取与测定区域r(下述)内的多个第一开口(贯通孔2c的表面2a侧的开口)对应的多个像素组，基于每一像素的大小获取具有第一开口的平均面积的圆的直径。同样，通过对所获取的背面2b的图像实施例如二进制处理，提取与测定区域r内的多个第二开口(贯通孔2c的背面2b侧的开口)对应的多个像素组，基于每一像素的大小获取具有第二开口的平均面积的圆的直径。于是，获取关于表面2a获取的圆的直径和关于背面2b获取的圆的直径的平均值来作为贯通孔2c的宽度。
[0043]
图3所示的基板2是通过对al(铝)进行阳极氧化而形成的氧化铝多孔膜。具体而言，通过对al基板实施阳极氧化处理，将经氧化的表面部分从al基板剥离，而可得到基板2。此外，基板2可以通过对ta(钽)、nb(铌)、ti(钛)、hf(铪)、zr(锆)、zn(锌)、w(钨)、bi(铋)、sb(锑)等的al以外的阀金属进行阳极氧化而形成，也可以通过对si(硅)进行阳极氧化而形成。
[0044]
如图1及图2所示，框架3通过粘接层(未图示)固定于基板2的表面2a。作为粘接层的材料，优选使用释放气体少的粘接材料(例如低熔点玻璃、真空用粘接剂等)。框架3例如
由热膨胀系数与基板2的材料同等的材料、或热膨胀系数比基板2的材料低的材料(在基板2的材料为氧化铝的情况下，例如为铁镍合金(42合金)、钼、科瓦铁镍钴合金、钛等)形成为长方形板状。从方向d观察时的框架3的一边的长度例如为几cm左右，框架3的厚度例如为1mm以下。从方向d观察时，框架3的外缘位于基板2的外缘的外侧。在框架3形成有呈二维状(例如3行5列等矩阵状)排列的多个开口。基板2中与框架3的各开口对应的部分作为用于将试样电离的测定区域r发挥作用。从方向d观察时的各开口的形状例如为圆形，此时的各开口的直径例如为几mm～几十mm左右。此外，通过将热膨胀系数与基板2的材料同等的材料或热膨胀系数比基板2的材料低的材料用于框架3，能够抑制基板2在粘接
·
烧成后发生挠曲，在质量分析中能够实现基板2和试样s的充分的紧贴及灵敏度的提高。在制造试样支撑体1a时，通过烧成形成了导电层4的基板2及框架3，能够提高导电层4的结晶性，可得到更适于质量分析的试样支撑体。
[0045]
导电层4连续(一体)地形成于基板2的表面2a中与框架3的各开口对应的区域(即基板2的表面2a中与各测定区域r对应的区域)、该各开口的内表面、及在方向d上表面2a朝向的一侧的框架3的表面。导电层4在各测定区域r上覆盖基板2的表面2a中未形成有多个贯通孔2c的区域。导电层4由导电性材料形成。但是，作为导电层4的材料，由于下述理由，优选使用与试样的亲和性(反应性)低且导电性高的金属。
[0046]
例如，当由与蛋白质等试样亲和性高的cu(铜)等金属形成导电层4时，在试样的电离过程中，试样以cu原子附着于试样分子的状态被电离，在质量分析方法中检测结果可能偏差cu原子附着的量。因此，作为导电层4的材料，优选使用与试样的亲和性低的金属。
[0047]
另一方面，越是导电性高的金属，越能够容易且稳定地施加一定的电压。因此，当由导电性高的金属形成导电层4时，在测定区域r中能够对基板2的表面2a均匀地施加电压。另外，具有越是导电性高的金属，则热传导性越高的倾向。因此，当由导电性高的金属形成导电层4时，能够将照射于基板2的激光的能量经由导电层4高效地传递至试样。因此，作为导电层4的材料，优选使用导电性高的金属。
[0048]
根据以上的观点，作为导电层4的材料，例如优选使用au(金)、pt(铂)等。导电层4能够例如通过镀敷法、原子层沉积法(ald：atomic layer deposition)、蒸镀法、溅射法等形成为1nm～350nm左右的厚度。此外，作为导电层4的材料，可以使用例如cr(铬)、ni(镍)、ti(钛)等。
[0049]
在以上试样支撑体1a中，构成了膜部20及支撑部30。膜部20由基板2及形成于基板2的表面2a中与各测定区域r对应的区域的导电层4构成。支撑部30由框架3及形成于在方向d上表面2a朝向的一侧的框架3的表面的导电层4构成。
[0050]
膜部20具有第一表面20a及第一背面20b(与第一表面20a相反侧的面)。在本实施方式中，第一表面20a为导电层4中的与基板2相反侧的面，第一背面20b为基板2的背面2b。在膜部20形成有在第一表面20a及第一背面20b开口的多个贯通孔20c。各贯通孔20c与形成于基板2的贯通孔2c对应。因此，各贯通孔20c的宽度例如为1～700nm，贯通孔20c的宽度为通过与贯通孔2c同样的方法获取的值。此外，在图1中，省略了多个贯通孔20c的图示。
[0051]
支撑部30针对膜部20划定多个测定区域r，且支撑膜部20。支撑部30包含内侧部分31和外侧部分32。内侧部分31为固定有膜部20的部分。从方向d观察时，内侧部分31的外缘31c与例如基板2的外缘一致。外侧部分32沿着内侧部分31的外缘31c延伸。在本实施方式
中，在内侧部分31和外侧部分32之间设置有中间部分33，但也可以不在内侧部分31和外侧部分32之间设置中间部分33(即内侧部分31和外侧部分32也可以直接连接)。
[0052]
内侧部分31具有第二表面31a及第二背面31b(与第二表面31a相反侧的面)。在本实施方式中，第二背面31b为在方向d上与导电层4相反侧的框架3的表面，第二表面31a为在方向d上与第二背面31b相反侧的导电层4的表面。即，第二表面31a为导电层4中的与框架3相反侧的面，第二背面31b为框架3中的与导电层4相反侧的面。外侧部分32具有第三表面32a及第三背面32b(与第三表面32a相反侧的面)。在本实施方式中，第三背面32b为在方向d上与导电层4相反侧的框架3的表面，第三表面32a为在方向d上与第三背面32b相反侧的导电层4的表面。即，第三表面32a为导电层4中的与框架3相反侧的面，第三背面32b为框架3中的与导电层4相反侧的面。
[0053]
膜部20的第一表面20a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面(垂直于方向d的同一平面)上。即，在本实施方式中，在方向d(与膜部20的厚度方向(第一表面20a及第一背面20b相对的方向)一致的方向)上在膜部20的第一表面20a的位置和外侧部分32的第三表面32a的位置之间产生的差为0，小于膜部20的厚度。
[0054]
内侧部分31的第二背面31b位于相较于外侧部分32的第三背面32b在方向d上更靠近膜部20的第一表面20a朝向的一侧(在图2中为上侧)。膜部20(具体为基板2的表面2a)通过上述的粘接层(未图示)固定于内侧部分31的第二背面31b。在本实施方式中，基板2配置于以内侧部分31的第二背面31b为底面且由中间部分33包围的凹部内。
[0055]
[接合器的结构]
[0056]
图4及图5所示的接合器10用于将上述的试样支撑体1a安装于质量分析装置。接合器10具备保持部11。保持部11具有主体部件12、多个止动件13、多组垫片14及螺栓15。主体部件12例如由金属材料形成为矩形框状。多个止动件13以向主体部件12的内侧突出的方式设置于主体部件12。多组垫片14及螺栓15可以相对于主体部件12的一表面12a进行装卸。在多组垫片14及螺栓15固定于主体部件12的表面12a的状态下，各垫片14的一部分在方向d上经由规定距离与各止动件13相对。保持部11具有在质量分析装置中位于与激光的焦点同一平面(平行于激光的光轴的同一平面)上的基准面11a。在本实施方式中，基准面11a为主体部件12的表面12a。
[0057]
接合器10还具备载置部16。载置部16例如由金属材料形成为矩形板状。载置部16以与试样支撑体1a的膜部20的第一背面20b接触的状态与试样支撑体1a的外侧部分32一同由保持部11保持。具体而言，载置部16包含接触部分17和被保持部分18。被保持部分18沿着接触部分17的外缘延伸。接触部分17在以内侧部分31的第二背面31b为底面且由中间部分33包围的凹部内与膜部20的第一背面20b接触。被保持部分18与外侧部分32的第三背面32b接触，与外侧部分32一同由保持部11保持。在本实施方式中，方向d上的外侧部分32及被保持部分18的厚度与各垫片14的一部分和各止动件13之间的规定距离大致相等。
[0058]
试样支撑体1a经由载置部16配置于多个止动件13上，在该状态下，多组垫片14及螺栓15固定于主体部件12的表面12a，从而与载置部16一同由保持部11保持。在试样支撑体1a由保持部11保持的状态下，保持部11的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面(平行于方向d及激光的光轴的同一平面)上。即，保持部11以保持部11的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式保持外侧部分32。
[0059]
[电离法及质量分析方法]
[0060]
参照图6对使用上述的试样支撑体1a及接合器10的电离法及质量分析方法进行说明。首先，准备试样支撑体1a(准备工序)。接着，在试样支撑体1a的各测定区域r配置试样s(配置工序)。在本实施方式中，例如，将包含试样s的溶液滴下至各测定区域r。由此，在各测定区域r上，多余的溶液渗入多个贯通孔20c，试样s的成分s1被适当地保持于导电层4上(即膜部20的第一表面20a上)。接着，使用接合器10，将在各测定区域r配置了试样s的试样支撑体1a安装于质量分析装置100(安装工序)。
[0061]
接着，使质量分析装置100的电压施加部101动作，经由接合器10对试样支撑体1a的导电层4施加电压，并使质量分析装置100的激光照射部102动作，对各测定区域r照射激光(能量线)l。由此，将试样s的成分s1电离(电离工序)。此时，激光l的焦点p及保持部11的基准面11a位于同一平面上，且保持部11的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上，且外侧部分32的第三表面32a及膜部20的第一表面20a位于同一平面上，因此，激光l的焦点p位于保持有试样s的成分s1的膜部20的第一表面20a。以上工序相当于使用试样支撑体1a及接合器10的电离法(在本实施方式中为激光解吸电离法)。
[0062]
接着，在质量分析装置100的离子检测部103中对通过将试样s的成分s1电离而释放的试样离子s2(经电离的成分s1)进行检测(检测工序)，具体而言，释放的试样离子s2通过施加了电压的导电层4和接地电极(未图示)之间产生的电位差，朝向设置于试样支撑体1a和离子检测部103之间的该接地电极加速并移动，通过离子检测部103进行检测。在本实施方式中，质量分析装置100是利用飞行时间型质量分析方法(tof－ms：time-of-flight mass spectrometry)的扫描型质量分析装置。以上工序相当于使用试样支撑体1a及接合器10的质量分析方法。
[0063]
[作用及效果]
[0064]
如以上所说明的那样，在试样支撑体1a中，膜部20的第一表面20a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上。即，在方向d上在膜部20的第一表面20a的位置和外侧部分32的第三表面32a的位置之间产生的差为0，小于膜部20的厚度。由此，在使用具有在质量分析装置100中位于与激光l的焦点p同一平面上的基准面11a的接合器10，将试样支撑体1a安装于质量分析装置100的情况下，通过以接合器10的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式使外侧部分32保持于接合器10，能够将激光l的焦点p以更高的精度对准膜部20的第一表面20a。因此，试样支撑体1a可在质量分析装置100中实现激光l的焦点p的高精度的位置对准。
[0065]
另外，根据试样支撑体1a，能够不使用带等而安装于接合器10，因此，进一步提高了用户的便利性。而且，例如，在通过带等将同样的试样支撑体固定于载玻片上的情况下，每次都需要位置对准，但根据试样支撑体1a，无需这种位置对准。
[0066]
另外，在试样支撑体1a中，内侧部分31的第二背面31b位于相较于外侧部分32的第三背面32b在方向d上更靠近膜部20的第一表面20a朝向的一侧，膜部20固定于内侧部分31的第二背面31b。由此，能够以简单的结构实现可以将激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的结构。
[0067]
另外，在试样支撑体1a中，膜部20包含由绝缘性材料形成的基板2、和在各测定区域r上相对于基板2设置于第一表面20a侧的导电层4。由此，在质量分析装置100中能够将试
样s的成分s1高效地电离。
[0068]
另外，在试样支撑体1a中，多个贯通孔20c各自的宽度为1～700nm。由此，能够将试样s的成分s1适当地保持于膜部20的第一表面20a。
[0069]
另外，在试样支撑体1a中，支撑部30划定多个测定区域r。由此，在质量分析装置100中能够针对每一测定区域r分析试样s。
[0070]
另外，在接合器10中，保持部11具有在质量分析装置100中位于与激光l的焦点p同一平面上的基准面11a，以基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式保持试样支撑体1a的外侧部分32。由此，在质量分析装置100中能够将激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a。
[0071]
另外，在接合器10中，载置部16以与膜部20的第一背面20b接触的状态与外侧部分32一同由保持部11保持。由此，能够稳定地支撑膜部20，因此，在质量分析装置100中能够将激光l的焦点p以更高的精度对准膜部20的第一表面20a。
[0072]
另外，根据使用试样支撑体1a及接合器10的电离法，在激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的状态下，能够将试样s的成分s1电离。
[0073]
另外，在使用试样支撑体1a及接合器10的质量分析方法中，在激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的状态下，试样s的成分s1被电离，因此，在试样离子s2的检测中能够提高灵敏度及分辨率。
[0074]
[第二实施方式]
[0075]
如图7所示，试样支撑体1b与上述的试样支撑体1a的不同点主要在于支撑部30的结构。即，在试样支撑体1b中，内侧部分31的第二表面31a位于相较于外侧部分32的第三表面32a在方向d上更靠近膜部20的第一背面20b朝向的一侧(在图7中为下侧)。膜部20(具体为基板2的背面2b)通过上述的粘接层(未图示)固定于内侧部分31的第二表面31a。在本实施方式中，基板2配置于以内侧部分31的第二表面31a为底面且由中间部分33包围的凹部内。此外，与上述的试样支撑体1a同样，试样支撑体1b也能够使用接合器10安装于质量分析装置100。于是，与第一实施方式同样，可以实施使用试样支撑体1b及接合器10的电离法及质量分析方法。
[0076]
在如上构成的试样支撑体1b中，膜部20的第一表面20a及外侧部分32的第三表面32a也位于同一平面上。即，在方向d上在膜部20的第一表面20a的位置和外侧部分32的第三表面32a的位置之间产生的差为0，小于膜部20的厚度。由此，在使用具有在质量分析装置100中位于与激光l的焦点p同一平面上的基准面11a的接合器10，将试样支撑体1b安装于质量分析装置100的情况下，通过以接合器10的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式使外侧部分32保持于接合器10，能够将激光l的焦点p以更高的精度对准膜部20的第一表面20a。因此，试样支撑体1b可在质量分析装置100中实现激光l的焦点p的高精度的位置对准。
[0077]
另外，根据试样支撑体1b，可以不使用带等地安装于接合器10，因此，用户的便利性进一步提高。而且，例如，在通过带等将同样的试样支撑体固定于载玻片上的情况下，每次都需要位置对准，但根据试样支撑体1b，无需这种位置对准。
[0078]
另外，在试样支撑体1b中，内侧部分31的第二表面31a位于相较于外侧部分32的第三表面32a在方向d上更靠近膜部20的第一背面20b朝向的一侧，膜部20固定于内侧部分31
的第二表面31a。由此，能够以简单的结构实现可以将激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的结构。
[0079]
另外，在试样支撑体1b中，膜部20包含由绝缘性材料形成的基板2、和在各测定区域r上相对于基板2设置于第一表面20a侧的导电层4。由此，在质量分析装置100中能够将试样s的成分s1高效地电离。
[0080]
另外，在试样支撑体1b中，多个贯通孔20c各自的宽度为1～700nm。由此，能够将试样s的成分s1适当地保持于膜部20的第一表面20a。
[0081]
另外，在试样支撑体1b中，支撑部30划定多个测定区域r。由此，在质量分析装置100中能够针对每一测定区域r分析试样s。
[0082]
另外，在接合器10中，保持部11具有在质量分析装置100中位于与激光l的焦点p同一平面上的基准面11a，以基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式保持试样支撑体1b的外侧部分32。由此，在质量分析装置100中能够将激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a。
[0083]
另外，在接合器10中，载置部16以与膜部20的第一背面20b接触的状态与外侧部分32一同由保持部11保持。由此，能够稳定地支撑膜部20，因此，在质量分析装置100中能够将激光l的焦点p以更高的精度对准膜部20的第一表面20a。
[0084]
另外，根据使用试样支撑体1b及接合器10的电离法，在激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的状态下，能够将试样s的成分s1电离。
[0085]
另外，在使用试样支撑体1b及接合器10的质量分析方法中，在激光l的焦点p高精度地对准膜部20的第一表面20a的状态下，试样s的成分s1被电离，因此，在试样离子s2的检测中能够提高灵敏度及分辨率。
[0086]
[变形例]
[0087]
如图8的(a)及(b)所示，在试样支撑体1a及试样支撑体1b的各个中，方向d上的外侧部分32的厚度也可以与各垫片14的一部分和各止动件13之间的规定距离大致相等。在这些情况下，能够不使用载置部16地将试样支撑体1a及试样支撑体1b分别安装于接合器10。
[0088]
另外，在试样支撑体1a及试样支撑体1b的各个中，如果在方向d上在膜部20的第一表面20a的位置和外侧部分32的第三表面32a的位置之间产生的差小于膜部20的厚度，则膜部20的第一表面20a及外侧部分32的第三表面32a也可以不位于垂直于方向d的同一平面上。在该情况下，通过以接合器10的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式使支撑部30的外侧部分32保持于接合器10，也能够将激光l的焦点p以低于膜部20的厚度的水平对准膜部20的第一表面20a。
[0089]
另外，接合器10的保持部11如果能够以接合器10的基准面11a及外侧部分32的第三表面32a位于同一平面上的方式保持外侧部分32，则不限于上述的结构(即具有主体部件12、多个止动件13、多组垫片14及螺栓15的结构)。
[0090]
另外，在试样支撑体1a及试样支撑体1b的各个中，导电层4至少设置于基板2的表面2a上即可。即，导电层4只要设置于基板2的表面2a上即可，可以设置于基板2的背面2b上及各贯通孔2c的内表面上，也可以不设置于基板2的背面2b上及各贯通孔2c的内表面上。
[0091]
另外，在试样支撑体1a及试样支撑体1b的各个中，基板2也可以具有导电性。根据这种结构，在实施电离法及质量分析方法时能够对基板2施加电压，因此，在试样支撑体1a
及试样支撑体1b的各个中，可以省略导电层4。
[0092]
另外，在试样支撑体1a及试样支撑体1b的各个中，支撑部30也可以划定一个测定区域r。另外，如图9及图10所示，试样支撑体1a在测定区域r上也可以还具备加强层5，该加强层5以具有大于贯通孔2c的开口率的开口率的方式形成有多个开口5c。加强层5例如形成为网状，设置于基板2的背面2b侧。在这种结构中，通过使加强层5与例如生物试样等试样接触，能够经由加强层5的开口5c及基板2的贯通孔2c(即膜部20的贯通孔20c)使试样的成分向膜部20的第一表面20a移动。因此，根据这种结构，能够一边维持试样的成分的二维分布，一边将试样的成分复制到膜部20的第一表面20a，可以获取试样的成分的二维分布图像。同样，试样支撑体1b在测定区域r上也可以还具备加强层，该加强层以具有大于贯通孔2c的开口率的开口率的方式形成有多个开口。
[0093]
另外，试样支撑体1a及试样支撑体1b各自的用途不限于通过照射激光l而实现的试样s的电离。试样支撑体1a及试样支撑体1b分别可以用于通过照射激光、离子束、电子线等能量线而实现的试样s的电离。在上述的电离法及质量分析方法中，能够通过照射能量线而将试样s电离。
[0094]
符号的说明
[0095]
1a、1b
…
试样支撑体、2
…
基板、4
…
导电层、10
…
接合器、11
…
保持部、11a
…
基准面、16
…
载置部、20
…
膜部、20a
…
第一表面、20b
…
第一背面、20c
…
贯通孔、30
…
支撑部、31
…
内侧部分、31a
…
第二表面、31b
…
第二背面、31c
…
外缘、32
…
外侧部分、32a
…
第三表面、32b
…
第三背面、100
…
质量分析装置、d
…
方向(厚度方向)、l
…
激光(能量线)、p
…
焦点、r
…
测定区域、s
…
试样、s1
…
成分、s2
…
试样离子(经电离的成分)。