一种显示面板和显示装置的制作方法

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：第一基底；tft阵列，位于所述第一基底一侧；oled阵列，位于所述tft阵列远离所述第一基底的一侧，由阵列排布的红光oled、绿光oled和蓝光oled构成；薄膜封装层，包覆所述tft阵列和oled阵列；以及图案化黑色盖板，位于所述薄膜封装层远离所述第一基底的一侧；所述图案化黑色盖板包括：第二基底，包括与所述oled阵列相对的像素区，和除所述像素区之外的非像素区；黑色网格膜，位于所述第二基底靠近所述第一基底一侧的非像素区；以及保护层，包覆所述黑色网格膜。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色网格膜的材料为黑色亚克力树脂。3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述黑色网格膜和保护层整体的厚度为1-50μm。4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括光透膜阵列，位于所述第二基底靠近所述第一基底一侧的像素区；所述光透膜阵列由分别与所述红光oled、绿光oled和蓝光oled相对的红色光通膜、绿色光通膜和蓝色光通膜构成。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述黑色网格膜、光透膜阵列和保护层整体的厚度为1-50μm。6.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述oled阵列远离所述第一基底一侧表面的光提取层。7.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述薄膜封装层和所述图案化黑色盖板之间的缓冲层；优选地，所述缓冲层的厚度为1-100μm。8.根据权利要求1-7任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板的侧面还设置有封边结构。9.根据权利要求1-8任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：第一基底；tft阵列，位于所述第一基底一侧；oled阵列，位于所述tft阵列远离所述第一基底的一侧，由阵列排布的红光oled、绿光oled和蓝光oled构成；光提取层，位于所述oled阵列远离所述第一基底的一侧；薄膜封装层，包覆所述tft阵列、oled阵列和光提取层；缓冲层，位于所述薄膜封装层远离所述第一基底的一侧；图案化黑色盖板，位于所述缓冲层远离所述第一基底的一侧；以及封边结构，位于所述显示面板的侧面；所述图案化黑色盖板包括：
第二基底，包括与所述oled阵列相对的像素区，和除所述像素区之外的非像素区；黑色网格膜和光透膜阵列，位于所述第二基底靠近所述第一基底的一侧，所述黑色网格膜位于所述非像素区，所述光透膜阵列位于所述像素区，所述光透膜阵列由分别与所述红光oled、绿光oled和蓝光oled相对的红色光通膜、绿色光通膜和蓝色光通膜构成；以及保护层，包覆所述黑色网格膜和光透膜阵列。10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1-9任一项所述的显示面板。

技术总结
本发明提供了一种显示面板和显示装置。所述显示面板包括：第一基底；TFT阵列，位于第一基底一侧；OLED阵列，位于TFT阵列远离第一基底的一侧，由阵列排布的红光OLED、绿光OLED和蓝光OLED构成；薄膜封装层，包覆TFT阵列和OLED阵列；以及图案化黑色盖板，位于薄膜封装层远离第一基底的一侧；图案化黑色盖板包括：第二基底，包括与OLED阵列相对的像素区，和除像素区之外的非像素区；黑色网格膜，位于第二基底靠近第一基底一侧的非像素区；以及保护层，包覆黑色网格膜。本发明提供的显示面板具有较低的反射率，且与现有采用POL的显示面板相比，在相同显示亮度下，本发明提供的显示面板功耗更低，寿命更长。寿命更长。寿命更长。


技术研发人员：李艳虎 何志江 林信志 徐亮
受保护的技术使用者：上海和辉光电股份有限公司
技术研发日：2020.07.15
技术公布日：2022/1/17