一种外延炉温场均匀性调节装置的制作方法

1.本实用新型涉及外延炉技术领域，特别涉及一种外延炉温场均匀性调节装置。


背景技术：

2.外延晶片通常是采用化学气相沉积的方法来生长，具体是将衬底置于外延炉反应室中，将含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入反应室，借助空间气相化学反应在衬底表面上沉积固体薄膜，目前国际上的商业外延炉，其大盘中部与源气注入器对应，大盘上围绕中心设置若干用于放置晶片衬底的小盘，大盘带动小盘旋转，同时小盘自旋转，从而实现行星式结构，以得到较好的均匀性分布。
3.但现在的外延炉温场均匀性调节装置，在使用时会有粉末吸附在外延炉的内壁上，从而影响外延炉温场的控制，并且也不方便工作人员对外延炉进行清理，而且外延炉内部的温度流失使用也不方便，所以现在急需要一种外延炉温场均匀性调节装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的主要目的在于提供一种外延炉温场均匀性调节装置，可以有效解决背景技术中的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
6.一种外延炉温场均匀性调节装置，包括安装箱，所述安装箱的上端固定安装有处理箱，所述处理箱的后端通过合页转动安装有门板，所述安装箱和处理箱的右端共同固定安装有控制箱，所述处理箱的内腔底壁固定安装有外延炉，所述处理箱的内腔左右侧壁均固定安装有固定组件，所述处理箱的内腔顶壁固定安装有隔温组件。
7.优选的，所述固定组件包括两个安装块，两个所述安装块之间滑动安装有安装板，所述安装板的内部固定安装有波折板。
8.优选的，所述隔温组件包括固定板，所述固定板的内部滑动安装有安装盒，所述安装盒的内部固定安装有隔热板，所述隔热板的下端固定安装有隔温板，所述固定板的后端左右对称固定安装有两个固定块。
9.优选的，两个所述固定块的内部均滑动安装有挡块，两个所述挡块的下端固定安装有支撑杆，两个所述支撑杆的外表面且位于固定块的内部套设有弹簧，两个所述支撑杆的下端均贯穿固定块并延伸至外部。
10.优选的，所述波折板为波浪形状，且波折板靠近外延炉一侧，两个所述安装块均与处理箱的内壁固定连接。
11.优选的，所述固定板与处理箱的内腔顶壁固定连接，所述隔温板位于外延炉的正上方。
12.与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
13.本实用新型通过设置的隔温组件和固定组件，因为加工需要在真空环境中处理，所以加工时将会有气体从外延炉内排出，波折板能够起到个保温的效果，而且能够吸附气
体中的粉末，防止吸附在处理箱的内部，这样也能够保证处理箱内部的温场平衡不会导致温度流失过快，而隔温板和隔热板能够保证处理箱内的温度平衡，不会导致大量的热量流失,从而使得整个装置更加的实用。
附图说明
14.图1为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置的整体结构示意图；
15.图2为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置的整体结构示意图；
16.图3为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置的整剖视图；
17.图4为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置中固定组件的连接结构示意图；
18.图5为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置中隔温组件的连接结构示意图；
19.图6为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置中隔温组件的内部结构示意图；
20.图7为本实用新型一种外延炉温场均匀性调节装置中隔温组件的内部结构示意图。
21.图中：1、控制箱；2、安装箱；3、门板；4、处理箱；5、外延炉；6、隔温组件；61、固定板；62、固定块；63、安装盒；64、隔温板；65、隔热板；66、弹簧；67、支撑杆；68、挡块；7、固定组件；71、安装块；72、安装板；73、波折板。
具体实施方式
22.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
23.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
24.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体的情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
25.如图1-7所示，一种外延炉温场均匀性调节装置，包括安装箱2，安装箱2的上端固定安装有处理箱4，处理箱4的后端通过合页转动安装有门板3，安装箱2和处理箱4的右端共同固定安装有控制箱1，处理箱4的内腔底壁固定安装有外延炉5，处理箱4的内腔左右侧壁均固定安装有固定组件7，处理箱4的内腔顶壁固定安装有隔温组件6。
26.固定组件7包括两个安装块71，两个安装块71之间滑动安装有安装板72，安装板72的内部固定安装有波折板73。
27.波折板73为波浪形状，且波折板73靠近外延炉5一侧，两个安装块71均与处理箱4的内壁固定连接，波折板73为波浪形状可以大幅度的折射温度，而且面积与空气的接触面积较大，能够吸附大量的颗粒粉末。
28.隔温组件6包括固定板61，固定板61的内部滑动安装有安装盒63，安装盒63的内部固定安装有隔热板65，隔热板65的下端固定安装有隔温板64，固定板61的后端左右对称固定安装有两个固定块62，隔热板65属于现有技术中常见的隔热材料制成。
29.两个固定块62的内部均滑动安装有挡块68，两个挡块68的下端固定安装有支撑杆67，两个支撑杆67的外表面且位于固定块62的内部套设有弹簧66，两个支撑杆67的下端均贯穿固定块62并延伸至外部，挡块68的一端为圆弧形状，所以推送安装盒63进入到固定板61内部时，将挤压挡块68进入到固定块62内部，安装盒63进入到固定板61内部后弹簧66带动挡块68返回原位，从而对安装盒63进行固定，当需要取出安装盒63时拉动支撑杆67，支撑杆67就挡块68拉回固定块62的内部，然后取出安装盒63进行更换或者清理。
30.固定板61与处理箱4的内腔顶壁固定连接，隔温板64位于外延炉5的正上方，能够减少热量的快速流失，而且还能够增加保温的效果。
31.需要说明的是，本实用新型为一种外延炉温场均匀性调节装置，使用时将需要加工的硅晶片放置到外延炉5内，然后使用者将安装板72滑动到两个安装块71的内部，然后使用者将安装盒63滑动到固定板61的内部，外延炉5在对硅晶片加工时会产生大量的温度，因为加工需要在真空环境中处理，所以加工时将会有气体从外延炉5内排出，波折板73能够起到个保温的效果，而且能够吸附气体中的粉末，防止吸附在处理箱4的内部，这样也能够保证处理箱4内部的温场平衡不会导致温度流失过快，而隔温板64和隔热板65能够保证处理箱4内的温度平衡，不会导致大量的热量流失，并且挡块68的一端为圆弧形状，所以推送安装盒63进入到固定板61内部时，将挤压挡块68进入到固定块62内部，安装盒63进入到固定板61内部后弹簧66带动挡块68返回原位，从而对安装盒63进行固定，当需要取出安装盒63时拉动支撑杆67，支撑杆67就挡块68拉回固定块62的内部，然后取出安装盒63进行更换或者清理。
32.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。