异形多层石墨模切组件的包边结构的制作方法

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1.本实用新型涉及模切产品组装技术领域，特指一种异形多层石墨模切组件的包边结构。


背景技术：

2.手机、平板电脑等电子产品中的电子元件中大量使用模切复合组件，且对它们的参数和组装要求越来越精细、精密，为适应市场需要，部分产品上使用的多层石墨胶带膜材，若按简单直接模切的方式生产，石墨层的边缘处于裸露状态，膜材无法对石墨层起到包边保护，使产品质量受到影响。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是克服现有技术的上述不足之处，提供一种异形多层石墨模切组件的包边结构。
4.本实用新型采用的技术方案是：一种异形多层石墨模切组件的包边结构，其特征在于：该多层石墨模切组件由下而上依次包括第一保护膜层、单面胶层、第一石墨层、双面胶层、第二石墨层、第一离型膜层；其中：第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的外边缘设有突出部和内凹部，第一保护膜层、单面胶层、第一离型膜层的边缘均突出于第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的边缘，且第一保护膜层、单面胶层、第一离型膜层边缘突出于第一石墨层、双面胶层、第二石墨层边缘的距离为0.5mm
±
0.3mm。
5.所述第一保护膜层的一端处、位于第一石墨层其中一个内凹部的位置处还成型有通孔，第一保护膜层的另一端还成型有突出的第一手柄部，第一保护膜层在第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的另两个内凹部处设有突出的第二手柄部。
6.本实用新型采用上述结构，多层石墨层以及双面胶层边缘分别通过上下的保护膜和单面胶层突出的边缘处实现包边封闭，从而能避免石墨层边缘裸露，对石墨层起到更好地包边保护效果，能使产品质量得到进一步提升。
附图说明：
7.图1是本实用新型中一个异形多层石墨组件的平面结构示意图；
8.图2是本实用新型中一个异形多层石墨组件的立体分解示意图。
具体实施方式：
9.本实用新型所述的是一种异形多层石墨模切组件的包边结构，如图1、图2所示，该多层石墨包边组件由下而上依次包括第一保护膜层1(本实施例中采用型号为rs700b2(h)的蓝色pet硅胶保护膜)、单面胶层2(本实施例中采用型号为lw-ab155015的黑色pet单面胶带，胶面朝上与第一石墨层复合)、第一石墨层3(本实施例中采用型号为tme-1500的石墨膜材)、双面胶层4(本实施例中采用型号为lw-b257010的双面胶材料)、第二石墨层5、第一离
型膜层6(本实施例中采用型号为lw-ab212030的网格离型膜，网格膜朝上；)其中：第一石墨层3、双面胶层4、第二石墨层5的外边缘设有突出部301和内凹部302，第一保护膜层1、单面胶层2、第一离型膜层6的边缘均突出于第一石墨层3、双面胶层4、第二石墨层5的边缘，且突出的距离为0.5mm
±
0.3mm，即位于外层的第一保护膜层1、单面胶层2、第一离型膜层6将内层的第一石墨层3、双面胶层4、第二石墨层5包边式的包夹在内部；
10.所述第一保护膜层1的一端处、位于第一石墨层3其中一个内凹部302的位置处还成型有通孔101，第一保护膜层1的另一端还成型有突出的第一手柄部102，第一保护膜层1在第一石墨层3、双面胶层4、第二石墨层5的另两个内凹部处设有突出的第二手柄部103。通过两种手柄部便于将第一保护膜层1与单面胶层2和石墨模切组件分离。
11.本实用新型采用上述结构，多层石墨层以及双面胶层边缘分别通过上下的保护膜和单面胶层突出的边缘处实现包边封闭，从而能避免石墨层边缘裸露，对石墨层起到更好地包边保护效果，能使产品质量得到进一步提升。
12.可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种异形多层石墨模切组件的包边结构，其特征在于：该多层石墨模切组件由下而上依次包括第一保护膜层、单面胶层、第一石墨层、双面胶层、第二石墨层、第一离型膜层；其中：第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的外边缘设有突出部和内凹部，第一保护膜层、单面胶层、第一离型膜层的边缘均突出于第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的边缘，且第一保护膜层、单面胶层、第一离型膜层边缘突出于第一石墨层、双面胶层、第二石墨层边缘的距离为0.5mm
±
0.3mm。2.根据权利要求1所述的异形多层石墨模切组件的包边结构，其特征在于：所述第一保护膜层的一端处、位于第一石墨层其中一个内凹部的位置处还成型有通孔，第一保护膜层的另一端还成型有突出的第一手柄部，第一保护膜层在第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的另两个内凹部处设有突出的第二手柄部。

技术总结
本实用新型涉及一种异形多层石墨模切组件的包边结构，该多层石墨模切组件由下而上依次包括第一保护膜层、单面胶层、第一石墨层、双面胶层、第二石墨层、第一离型膜层；其中：第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的外边缘设有突出部和内凹部，第一保护膜层、单面胶层、第一离型膜层的边缘均突出于第一石墨层、双面胶层、第二石墨层的边缘，且突出的距离为0.5mm


技术研发人员：何荣 贾军虎 罗青 殷冠明
受保护的技术使用者：捷邦精密科技股份有限公司
技术研发日：2021.06.04
技术公布日：2022/1/11