光刻胶清洗装置及其清洗方法与流程

技术特征：
1.一种光刻胶清洗装置，其特征在于，包括溶解箱体、升降固定台、冲洗机构以及控制单元；所述溶解箱体包括用于盛装溶解液的溶解腔室；所述升降固定台置于所述溶解腔室内，用于承托硅片；所述冲洗机构包括冲洗喷头，该冲洗喷头置于高于所述升降固定台的上方空间处；所述控制单元用于控制所述升降固定台在溶解液液面上下之间切换，且用于控制所述冲洗机构移动到使其冲洗喷头对准所述升降固定台的位置。2.如权利要求1所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述控制单元被配置为先将所述升降固定台下沉至溶解液内以溶解或软化升降固定台所承托的硅片上的光刻胶，在光刻胶溶解或软化完毕后控制升降固定台浮出液面，驱动所述冲洗机构通过其冲洗喷头对准所述硅片喷射液体。3.如权利要求2所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述冲洗机构还包括喷头移动组件，所述喷头移动组件用于驱动所述冲洗喷头平移，以远离或对准所述升降固定平台。4.如权利要求3所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述喷头移动组件包括用于支撑所述冲洗喷头的支撑座、丝杆以及第一电机，所述支撑座上设有与所述丝杆相配合的螺孔，所述丝杆的其中一端与所述第一电机相连接，所述控制单元驱动第一电机转动，以通过丝杆带动支撑座及设置于支撑座上的冲洗喷头直线运动。5.如权利要求2所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述冲洗喷头设有多个喷液口，所述多个喷液口构成的喷液辐射面积大于或等于或小于所述升降固定台上所承托的硅片的表面积。6.如权利要求2所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述升降固定台包括固定板、用于支撑所述固定板的升降柱及升降电机，所述升降柱与所述升降电机连接，所述升降电机受所述控制单元驱动而控制升降柱带动固定板直线运动。7.如权利要求6所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述升降固定台还包括用于将硅片压固于所述固定板上的压条，所述压条呈v形状，所述压条的其中一端活动设置于所述固定板的一端，另一端呈网格状以将放置于固定板上的硅片压固于所述固定板上。8.如权利要求6所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述固定板的形状与所述硅片的形状相适配。9.如权利要求2所述的光刻胶清洗装置，其特征在于，所述冲洗机构还包括用于盛装冲洗液的溶液桶、用于连通溶液桶与冲洗喷头的软管及设置于软管上的液压泵，控制单元控制液压泵工作，以通过软管将溶液桶中的冲洗液输出至冲洗喷头。10.一种应用如权利要求1所述的光刻胶清洗装置的光刻胶清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：驱动升降固定台下降至溶解液液面之下，以溶解或软化承托于所述升降固定台上的硅片上的光刻胶；在预定时长后，驱动升降固定台上升，以带动承托于所述升降固定台上的溶解或软化完毕光刻胶的硅片上升至溶解液液面之上；驱动所述冲洗喷头移动至所述硅片上方，驱动冲洗喷头对准所述硅片喷射液体以将硅片上残留的光刻胶冲洗清除。

技术总结
本发明提供了一种光刻胶清洗装置及其清洗方法，所述光刻胶清洗装置，包括溶解箱体、升降固定台、冲洗机构以及控制单元；所述溶解箱体包括用于盛装溶解液的溶解腔室；所述升降固定台置于所述溶解腔室内，用于承托硅片；所述冲洗机构包括冲洗喷头，该冲洗喷头置于高于所述升降固定台的上方空间处；所述控制单元用于控制所述升降固定台在溶解液液面上下之间切换，且用于控制所述冲洗机构移动到使其冲洗喷头对准所述升降固定台的位置。本发明的光刻胶清洗装置可通过控制单元控制溶解箱体、升降固定台及冲洗机构之间相互配合工作，以自动完成对未清洗的硅片清除残留的光刻胶，提高了生产效率与良品率，便于大规模应用。便于大规模应用。便于大规模应用。


技术研发人员：张宾 李若朋 朱瑞 陈善任
受保护的技术使用者：广州奥松电子股份有限公司
技术研发日：2021.10.15
技术公布日：2022/1/11