一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法与流程

技术特征：
1.一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。2.根据权利要求1所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述屏蔽墙为实心混凝土墙。3.根据权利要求2所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述屏蔽墙厚度大于50cm。4.根据权利要求3所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述屏蔽墙厚度为70cm。5.根据权利要求4所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述真空段连通上设有双舱间真空闸板阀。6.根据权利要求1-5任一所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述晶圆辐照真空舱底部设有冷泵，所述换片真空舱设有换片舱真空泵。7.根据权利要求6所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述冷泵为一台；所述换片舱真空泵为分子泵，所述换片舱真空泵为四台。8.根据权利要求7所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述分子泵的抽速大于3500 l/s。9.根据权利要求8所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述分子泵的抽速为4200 l/s。10.根据权利要求6所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述晶圆辐照真空舱内部设有移动平台，所述移动平台包括上下相邻的x向移动平台和y向移动平台；所述移动平台位于束流路径上。11.根据权利要求10所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述换片真空舱内部设有储片阵列格架，所述储片阵列格架中设有储片阵列。12.根据权利要求11所述的一种双真空舱室晶圆质子辐照装置，其特征在于，所述真空段连通中设有芯片托盘传送滚轮组，用于在所述储片阵列和移动平台间传送晶圆托盘。13.一种双真空舱室晶圆质子辐照方法，其特征在于，采用权利要求1-12任一所述的双真空舱室晶圆质子辐照装置辐照晶圆。

技术总结
本发明提供一种双真空舱室晶圆质子辐照装置及辐照方法，所述双真空舱室晶圆质子辐照装置包括：晶圆辐照真空舱和换片真空舱，所述晶圆辐照真空舱和换片真空舱通过连接真空段连通；所述连接真空段外设有屏蔽墙；所述晶圆辐照真空舱设置于辐照厅，所述换片真空舱设置于辐照前厅，所述屏蔽墙把所述辐照厅和辐照前厅密封隔离开。所述辐照装置非常适合于高能质子辐照，有利于大幅减轻工作人员所受到的射线伤害，可以实现晶圆的均匀化辐照，提高辐照质量，容量大，提高生产效率，保证了晶圆托盘平稳传输，有效到位，不会对大气造成活化，有助于从两个方面提高辐照精度能够实现高性能IGBT芯片的生产和软度因子大于2的快软恢复快软恢复二极管的制造。二极管的制造。二极管的制造。


技术研发人员：吕银龙 葛涛 王婉琳 张俊新 冯雨 石玉博 郭如勇 孙玺
受保护的技术使用者：北京核力同创科技有限公司 无锡市核力创芯科技有限公司
技术研发日：2021.12.10
技术公布日：2022/1/6