1.本申请涉及镭射膜的技术领域，尤其是涉及一种双压双镀定位转移镭射膜。
背景技术：
2.镭射膜一般采用计算机点阵光刻技术、3d真彩色全息技术、多重与动态成像技术等，从产品成分构成上划分，镭射薄膜产品可以大致分为opp镭射膜、pet镭射膜和pvc镭射膜三种；镭射转移镀铝膜，将局部镀铝镭射定位转移到表面印膜需要的部位，转移的图形可以是文字也可以是图形、线条。这种方法制作的镭射塑料包装袋已在调料品市场得到较多的应用。开展以镀铝膜替代铝箔减少铝材消耗、以转移镭射替代镭射塑料膜减少白色污染的研发工作，取得了较好成效。既是环保形势发展的需要，又是具有广阔地发展空间的材料，将在众多行业得到极大地推广，发展前景十分广阔。镭射材料与彩色印刷技术有机结合在一起，已成为世界印刷包装业最前沿的技术产品。
3.但是，现有的部分镭射膜的表面容易附着灰尘，容易阻挡镭射膜的图案，且镭射膜反射的光较强，容易对眼睛造成伤害。因此，本领域技术人员提供了一种双压双镀定位转移镭射膜，以解决上述背景技术中提出的问题。
技术实现要素：
4.为了解决上述背景技术中提出的问题，本申请提供一种双压双镀定位转移镭射膜。
5.本申请提供的一种双压双镀定位转移镭射膜采用如下的技术方案：
6.一种双压双镀定位转移镭射膜，包括第一镭射层和第二镭射层，所述第一镭射层的下端设有第一基质层，且第一基质层的下端设有弯折层，且弯折层的下端设有第一保护层，所述第一镭射层的上端设有第二基质层，且第二基质层的上端设有第二镭射层，所述第二镭射层的上端设有增透膜，且增透膜的上端设有第二保护层，所述第二保护层的上端设有抗静电层。
7.通过采用上述技术方案，材质为pvc冷裱膜的第一保护层和第二保护层可对第一镭射层和第二镭射层进行保护，对该镭射膜起到防水、防刮花的作用，第一基质层和第二基质层能便于第一镭射层和第二镭射层的图案定位转移，水平网状纤维结构构成的弯折层，能够增加该镭射膜的耐弯折性，且增加该镭射膜的韧性，通过增透膜设置在第一镭射层和第二镭射层的上方，能够减弱第一镭射层和第二镭射层反射的光，减少镭射光对眼睛的伤害，通过抗静电层的设置，能够减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，并能够减少灰尘对第一镭射层和第二镭射层上图案的阻挡。
8.优选的，所述第一保护层和第二保护层的规格均相同。
9.通过采用上述技术方案，能够对该镭射膜进行保护。
10.优选的，所述弯折层为水平网状纤维结构构成。
11.通过采用上述技术方案，能够增加该镭射膜的耐弯折性，且增加该镭射膜的韧性。
12.优选的，所述第一保护层和第二保护层的材质均为pvc冷裱膜。
13.通过采用上述技术方案，能够对该镭射膜起到防水、防刮花的作用。
14.优选的，所述抗静电层的材质为抗静电薄膜。
15.通过采用上述技术方案，能够减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，并能够减少灰尘对第一镭射层和第二镭射层上图案的阻挡。
16.综上所述，本申请包括以下有益技术效果：
17.1.通过材质为pvc冷裱膜的第一保护层和第二保护层的设置，能对该镭射膜起到防水、防刮花的作用；水平网状纤维结构构成的弯折层，能够增加该镭射膜的耐弯折性和韧性；通过增透膜的设置，能减弱第一镭射层和第二镭射层反射的光，减少镭射光对眼睛的伤害，通过抗静电层的设置，能够减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，并能够减少灰尘对第一镭射层和第二镭射层上图案的阻挡。
附图说明
18.图1是本申请实施例中双压双镀定位转移镭射膜的整体剖面结构示意图；
19.图2是本申请实施例中抗静电层的结构示意图。
20.附图标记说明：1、第一保护层；2、弯折层；3、第一基质层；4、第一镭射层；5、第二基质层；6、第二镭射层；7、增透膜；8、第二保护层；9、抗静电层。
具体实施方式
21.以下结合附图1
‑
2对本申请作进一步详细说明。
22.本申请实施例公开一种双压双镀定位转移镭射膜。参照图1
‑
2，一种双压双镀定位转移镭射膜，包括第一镭射层4和第二镭射层6，第一镭射层4的下端设有第一基质层3，且第一基质层3的下端设有弯折层2，且弯折层2的下端设有第一保护层1，第一镭射层4的上端设有第二基质层5，且第二基质层5的上端设有第二镭射层6，第二镭射层6的上端设有增透膜7，且增透膜7 的上端设有第二保护层8，第二保护层8的上端设有抗静电层9。
23.参照图1，第一保护层1和第二保护层8的规格均相同，能够对该镭射膜进行保护。
24.参照图1，第一保护层1和第二保护层8的材质均为pvc冷裱膜，能够对该镭射膜起到防水、防刮花的作用。
25.参照图1，抗静电层9的材质为抗静电薄膜，能够减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，并能够减少灰尘对第一镭射层4和第二镭射层6上图案的阻挡。
26.参照图2，弯折层2为水平网状纤维结构构成，能够增加该镭射膜的耐弯折性，且增加该镭射膜的韧性。
27.本申请实施例一种双压双镀定位转移镭射膜的实施原理为：通过材质为 pvc冷裱膜的第一保护层1和第二保护层8的设置，第一保护层1和第二保护层8可对第一镭射层4和第二镭射层6进行保护，对该镭射膜起到防水、防刮花的作用，通过第一基质层3和第二基质层5的设置，能便于第一镭射层4 和第二镭射层6的图案定位转移，通过水平网状纤维结构构成的弯折层2，能够增加该镭射膜的耐弯折性和韧性，通过增透膜7设置在第一镭射层4和第二镭射层6的上方，能够减弱第一镭射层4和第二镭射层6反射的光，减少镭射光对眼睛的伤害，通过抗静电层9的设置，能够减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，
并能够减少灰尘对第一镭射层4和第二镭射层6上图案的阻挡。
28.以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。
技术特征：
1.一种双压双镀定位转移镭射膜，包括第一镭射层(4)和第二镭射层(6)，其特征在于：所述第一镭射层(4)的下端设有第一基质层(3)，且第一基质层(3)的下端设有弯折层(2)，且弯折层(2)的下端设有第一保护层(1)，所述第一镭射层(4)的上端设有第二基质层(5)，且第二基质层(5)的上端设有第二镭射层(6)，所述第二镭射层(6)的上端设有增透膜(7)，且增透膜(7)的上端设有第二保护层(8)，所述第二保护层(8)的上端设有抗静电层(9)。2.根据权利要求1所述的一种双压双镀定位转移镭射膜，其特征在于：所述第一保护层(1)和第二保护层(8)的规格均相同。3.根据权利要求1所述的一种双压双镀定位转移镭射膜，其特征在于：所述弯折层(2)为水平网状纤维结构构成。4.根据权利要求1所述的一种双压双镀定位转移镭射膜，其特征在于：所述第一保护层(1)和第二保护层(8)的材质均为pvc冷裱膜。5.根据权利要求1所述的一种双压双镀定位转移镭射膜，其特征在于：所述抗静电层(9)的材质为抗静电薄膜。
技术总结
本申请涉及一种双压双镀定位转移镭射膜，包括第一镭射层和第二镭射层，所述第一镭射层的下端设有第一基质层，且第一基质层的下端设有弯折层，且弯折层的下端设有第一保护层，所述第一镭射层的上端设有第二基质层，且第二基质层的上端设有第二镭射层，通过第一保护层和第二保护层的设置，能对该镭射膜起到防水、防刮花的作用；弯折层能增加该镭射膜的耐弯折性和韧性；通过增透膜的设置，能减弱第一镭射层和第二镭射层反射的光，减少镭射光对眼睛的伤害，通过抗静电层的设置，能减少该镭射膜上方附着的灰尘，增加该镭射膜的洁净度，并能够减少灰尘对第一镭射层和第二镭射层上图案的阻挡。挡。挡。
技术研发人员：陆玉 黄彩朋
受保护的技术使用者：安徽久顺光电科技有限公司
技术研发日：2021.07.13
技术公布日：2021/12/17
再多了解一些
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