一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

垫圈的制作方法

2021-12-17 18:14:00 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种垫圈,包括:一垫圈本体,具有:一外侧面;一内斜面;一物侧面,朝向一物侧,且连接该外侧面及该内斜面;以及一像侧面,朝向一像侧,且连接该外侧面及该内斜面,其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间,该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘,该内缘形成一通光孔,且该垫圈本体的材质为金属;以及一光穿透膜与一吸光膜,设置在该内斜面上,其中,该垫圈本体的所有朝向该光轴的表面皆相对于该光轴倾斜,且该垫圈符合do/tmax≦55.000,其中do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径,且tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。2.一种垫圈,包括:一垫圈本体,具有:一外侧面;一内斜面;一物侧面,朝向一物侧,且连接该外侧面及该内斜面;以及一像侧面,朝向一像侧,且连接该外侧面及该内斜面,其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间,该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘,该内缘形成一通光孔,该内斜面具有微结构,且该内斜面的面粗糙度大于该物侧面的面粗糙度,且该内斜面的面粗糙度大于该像侧面的面粗糙度,且该垫圈本体的材质为金属;以及一光穿透膜与一吸光膜,设置在该内斜面上,其中,该垫圈符合do/tmax≦55.000,其中do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径,且tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。3.一种垫圈,包括:一垫圈本体,具有:一外侧面;一内斜面;一物侧面,朝向一物侧,且连接该外侧面及该内斜面;以及一像侧面,朝向一像侧,且连接该外侧面及该内斜面,其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间,该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘,该内缘形成一通光孔,该内斜面具有微结构,且该内斜面的面粗糙度大于该物侧面的面粗糙度,且大于该像侧面的面粗糙度,该内斜面的面粗糙度大于等于0.200微米,且小于等于7.000微米;以及一光穿透膜与一吸光膜,设置在该内斜面上,其中,该垫圈符合do/tmax≦55.000,其中do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径,且tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。4.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该吸光膜配置于该光穿透膜与该垫圈本体之间。5.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该光穿透膜为抗反射多层膜。6.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该光穿透膜包括至少一第一层以及至少一第二
层,该至少一第二层的折射率低于该至少一第一层的折射率,该至少一第一层与该至少一第二层交替堆栈。7.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该内斜面在400~870纳米波长光线范围内之反射率小于等于0.600%。8.如权利要求2或3所述垫圈,其中该微结构呈不规则分布。9.如权利要求2或3所述垫圈,其中该微结构包括多个从该内缘往该外缘延伸的凸条。10.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该垫圈符合do/lbmax≦40.000,其中lbmax为该内斜面从该内缘至该外缘的长度。11.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该垫圈符合do/|dio-dii|≦33.000,其中dio为该物侧面的内径,且dii为该像侧面的内径。12.如权利要求1-3任一所述垫圈,其中该内斜面相对于该光轴的倾斜角大于等于5.000度,且小于等于70.000度。

技术总结
本发明公开了一种垫圈,包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜,垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧,且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧,且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间,内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘,且内缘形成一通光孔。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上,其中垫圈本体的所有朝向光轴的表面皆相对于光轴倾斜。垫圈符合Do/Tmax≦55.000,其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径,且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。所述垫圈能够有利于配合镜筒与透镜的应力传递增加结构强度以进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。


技术研发人员:徐子文 陈君礁 詹海斌
受保护的技术使用者:玉晶光电(厦门)有限公司
技术研发日:2020.06.11
技术公布日:2021/12/16
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本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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