镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种镀膜设备。


背景技术：

2.随着电子产品的日益普及，消费者对电子产品的品质要求也越来越高。在追求高性能的基础上，消费者希望电子产品的盖板能够表现出丰富多样的色彩和纹理等效果。目前，通过镀膜可以在盖板表面形成特定样式的色彩和纹理等效果，因此，镀膜加工的方式得到了广泛的推广。但是，在传统的镀膜过程中，由于镀膜设备的局限，在进行镀膜加工之后，膜层的均匀性较差。


技术实现要素：

3.基于此，有必要提供一种能够有效提高膜层均匀性的镀膜设备。
4.为了解决以上技术问题，本实用新型的技术方案在于：
5.一种镀膜设备，包括箱体、导轨、镀膜盘、滚轮、连接架以及驱动机构；
6.所述导轨为闭环结构且固定连接于所述箱体的内部；所述连接架具有驱动端和远离所述驱动端的功能端，所述驱动机构连接于所述连接架的驱动端以用于驱动所述连接架转动，所述滚轮可自转连接于所述连接架的功能端，且所述滚轮与所述导轨相配合以沿所述导轨滚动；所述镀膜盘固定连接于所述滚轮以随所述滚轮同步转动。
7.在其中一个实施例中，所述镀膜盘从其边缘到中部逐渐凸起以形成相对设置的凸出面和内凹面，且所述凸出面较所述内凹面更加靠近所述滚轮。
8.在其中一个实施例中，所述镀膜盘的径向内截面为圆形。
9.在其中一个实施例中，所述镀膜盘的径向外截面的最大直径为1130mm～1200mm。
10.在其中一个实施例中，所述镀膜盘的内凹面凸出于其边缘的最大高度为200mm～230mm。
11.在其中一个实施例中，所述镀膜盘有多个，所述滚轮有多个，多个所述镀膜盘与多个所述滚轮一一对应。
12.在其中一个实施例中，多个所述滚轮均匀分布在所述导轨上，且相邻两个所述镀膜盘的边缘之间的距离不小于3cm。
13.在其中一个实施例中，所述导轨为圆形。
14.在其中一个实施例中，所述连接架的驱动端形成有旋转盘，所述旋转盘的轴线与所述导轨的轴线位于同一直线上，所述功能端自所述旋转盘朝向所述导轨伸出。
15.在其中一个实施例中，所述镀膜设备还包括冷却介质通道，所述冷却介质通道设于所述箱体的外部以用于通过冷却介质对所述箱体降温。
16.上述镀膜设备包括箱体、导轨、镀膜盘、滚轮、连接架以及驱动机构。导轨为闭环结构且固定连接于箱体的内部。连接架具有驱动端和远离驱动端的功能端，驱动机构连接于连接架的驱动端以用于驱动连接架转动，滚轮可自转连接于连接架的功能端，且滚轮与导
轨相配合以沿导轨滚动。镀膜盘固定连接于滚轮以随滚轮同步转动。采用上述镀膜设备对盖板进行镀膜加工时，将盖板安装在镀膜盘上，通过驱动机构的作用使连接架转动，进而带动滚轮沿导轨滚动。在滚轮的带动下，镀膜盘可以获得与连接架相同方向的转动。同时，在滚轮沿导轨滚动过程中，由于滚轮与导轨之间的相互作用，可以使滚轮自转，这样可以使镀膜盘随滚轮同步转动，即可以使镀膜盘进行自转运动。此时，镀膜盘上的盖板可以获取与连接架相同方向的转动，同时还能够获取与滚轮相同方向的转动，这样可以对盖板进行多方向、多角度的镀膜，有利于提高盖板上膜层的均匀性。
附图说明
17.图1为本实用新型一实施例中镀膜设备的结构示意图；
18.图2为图1对应的镀膜设备中连接架、滚轮以及镀膜盘等的结构示意图；
19.图3为图1对应的镀膜设备中连接架和滚轮等的结构示意图；
20.图4为图3对应结构的主视图；
21.图5为图3对应结构的左视图；
22.图6为图5在a
‑
a方向上、b处的局部放大剖视图；
23.图7为图1对应的镀膜设备中镀膜盘的主视图；
24.图8为图1对应的镀膜设备中镀膜盘的左视图；
25.图9为采用图1对应的镀膜设备对盖板镀膜之后盖板上膜层的颜色均匀性曲线。
26.图中标记说明：
27.100、镀膜设备；101、箱体；102、导轨；103、镀膜盘；1031、镀膜盘主体；1032、框架；104、滚轮；105、连接架；1051、旋转盘；1052、功能端；106、驱动机构；107、旋转轴；108、轴承；109、缓冲件；110、导轨安装件；111、冷却介质通道；112、固定杆；113、锁紧件；114、箱门；115、基座；116、加热器；117、离子源安装位；118、抽气装置；119、电子束蒸发源安装位；120、阻蒸蒸发源安装位。
具体实施方式
28.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
29.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
30.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
31.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
32.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
33.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
34.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
35.请参阅图1～图8，本实用新型一实施例提供了一种镀膜设备100。该镀膜设备100包括箱体101、导轨102、镀膜盘103、滚轮104、连接架105以及驱动机构106。导轨102为闭环结构且固定连接于箱体101的内部；连接架105具有驱动端和远离驱动端的功能端1052，驱动机构106连接于连接架105的驱动端以用于驱动连接架105转动，滚轮104可自转连接于连接架105的功能端1052，且滚轮104与导轨102相配合以沿导轨102滚动；镀膜盘103固定连接于滚轮104以随滚轮104同步转动。
36.采用本实施例中的镀膜设备100对盖板进行镀膜加工时，将盖板安装在镀膜盘103上，比如，盖板可以通过磁铁吸引或胶带粘贴等方式安装在镀膜盘103上。通过驱动机构106的作用使连接架105转动，进而带动滚轮104沿导轨102滚动。在滚轮104的带动下，镀膜盘103可以获得与连接架105相同方向的转动。同时，在滚轮104沿导轨102滚动过程中，由于滚轮104与导轨102之间的相互作用，可以使滚轮104自转，这样可以使镀膜盘103随滚轮104同步转动，即可以使镀膜盘103进行自转运动。此时，镀膜盘103上的盖板可以获取与连接架105相同方向的转动，同时还能够获取与滚轮104相同方向的转动，这样可以对盖板进行多方向、多角度的镀膜，有利于提高盖板上膜层的均匀性。
37.可以理解的是，盖板可以是但不限定为手机盖板。盖板的材质可以是但不限定为玻璃、陶瓷、塑料、金属、pmma、pet等。
38.在一个优选的方案中，镀膜盘103从其边缘到中部逐渐凸起以形成相对设置的凸出面和内凹面，且凸出面较内凹面更加靠近滚轮104。此时，在镀膜过程中，将盖板安装在内
凹面，内凹面的设置提高了镀膜盘103的工作面积，可以将更多的盖板安装在镀膜盘103上，提高镀膜设备100的加工效率。另外，镀膜盘103从其边缘到中部逐渐凸起以形成相对设置的凸出面和内凹面，这样可以对镀膜离子起到一定的聚集作用，进一步提高对盖板的镀膜效果。
39.进一步地，镀膜盘103的径向内截面为圆形，和/或镀膜盘103的径向外截面为圆形。可以理解的是，径向指的是垂直于轴向的方向。更具体地，在镀膜过程中，镀膜盘103沿其轴线自转，径向指的是垂直于轴线的方向。
40.更进一步地，镀膜盘103的径向外截面的最大直径为1130mm～1200mm。比如，镀膜盘103的径向外截面的最大直径可以是但不限定为1130mm、1140mm、1150mm、1160mm、1170mm、1180mm、1190mm或1200mm等。在实际设计中，可以根据箱体101的大小、盖板大小以及盖板数量等设置相应尺寸的镀膜盘103，以保证高效的加工效率。
41.在一个具体的示例中，镀膜盘103的内凹面凸出于其边缘的最大高度为200mm～230mm。比如，镀膜盘103的内凹面凸出于其边缘的最大高度为200mm、205mm、210mm、215mm、220mm、225mm、230mm等。镀膜盘103的内凹面凸出于其边缘的最大高度表现为镀膜盘103的深度，深度太小对镀膜效率的提升效果不明显，深度太大则会使箱体101的体积大幅增大，提高了镀膜设备100的制造成本和安装空间。
42.在另一个具体的示例中，镀膜盘103有多个，滚轮104有多个，多个镀膜盘103与多个滚轮104一一对应。多个镀膜盘103的设置可以加工更多的盖板，提高镀膜效率。进一步地，多个滚轮104均匀分布在导轨102上，且相邻两个镀膜盘103的边缘之间的距离不小于3cm。这样可以有效保证镀膜盘103之间不发生碰撞、摩擦等相互干涉的现象。
43.在本实施例的镀膜设备100中，镀膜盘103有4个，滚轮104有4个，相邻两个镀膜盘103的边缘之间的距离为3cm～4cm。
44.在一个优选的方案中，导轨102为圆形。此时，滚轮104可以在导轨102上更加顺畅的运动，可以有效提高滚轮104、镀膜盘103、连接架105之间的整体性，使镀膜加工更高效，镀膜品质更好。
45.请再次参阅图2～图5，连接架105的驱动端形成有旋转盘1051，旋转盘1051的轴线与导轨102的轴线位于同一直线上，功能端1052自旋转盘1051朝向导轨102伸出。此时，连接架105可以沿旋转盘1051的轴线自转，进而带动滚轮104沿导轨102运动。具体地，功能端1052的数量有4个，4个功能端1052分别对应连接滚轮104。更具体地，功能端1052自旋转盘1051的边缘朝向导轨102伸出。
46.优选地，功能端1052与旋转盘1051之间形成的夹角为100
°
～180
°
。对应到图4中，即功能端1052与旋转盘1051之间形成的夹角α为100
°
～180
°
。作为一些具体示例，功能端1052与旋转盘1051之间形成的夹角可以是但不限定为100
°
、110
°
、120
°
、130
°
、140
°
、150
°
、160
°
、170
°
或180
°
。
47.请再次参阅图6，镀膜设备100还包括旋转轴107和轴承108，旋转轴107的两端分别固定连接于镀膜盘103和滚轮104，轴承108设于功能端1052，且轴承108套设于旋转轴107的外缘。通过旋转轴107和轴承108的设置，可以使镀膜盘103在滚轮104的带动下更加稳定的自转，提高镀膜加工的稳定性。
48.进一步地，镀膜设备100还包括缓冲件109，缓冲件109设于镀膜盘103和旋转轴107
之间以用于稳定镀膜盘103和旋转轴107之间的连接，使镀膜盘103和旋转轴107的连接更加稳定。镀膜设备100还包括固定杆112和锁紧件113，固定杆112与旋转轴107固定连接，并通过锁紧件113进一步锁紧，使镀膜盘103随滚轮104的运动更加稳定。可选地，锁紧件113为螺母。
49.可以理解的是，请再次参阅图2，镀膜设备100还包括导轨安装件110，导轨102通过导轨安装件110固定连接于箱体101的内部。具体地，导轨安装件110有多个，多个导轨安装件110均匀分布连接于导轨102。可选地，导轨安装件110有4个，4个导轨安装件110均匀分布在导轨102上，使导轨102更加稳定地连接于箱体101的内部。
50.请再次参阅图1，镀膜设备100还包括冷却介质通道111，冷却介质通道111设于箱体101的外部以用于通过冷却介质对箱体101降温。在镀膜过程中，箱体101内部温度较高，可能会导致箱体101整体的温度较高，通过冷却介质通道111的设置，使冷却介质通过冷却介质通道111，可以对箱体101进行有效地降温，保持箱体101温度的稳定。可选地，冷却介质为冷却水。
51.具体地，箱体101为圆柱状。更具体地，箱体101的径向截面的内径为2050mm～2100mm。比如，箱体101的径向截面的内径为2050mm、2060mm、2070mm、2080mm、2090mm或2100mm。在实际镀膜设备100中，可以根据镀膜盘103、连接架105以及导轨102等的尺寸设置相应的尺寸的箱体101。
52.请再次参阅图7和图8，镀膜盘103包括镀膜盘主体1031以及框架1032，框架1032位于凸出面上。通过框架1032与镀膜盘主体1031的设置，形成稳定结构的镀膜盘103。具体地，镀膜盘主体1031为不锈钢镀膜盘主体，镀膜盘主体1031的厚度优选为0.5mm。
53.请再次参阅图1，镀膜设备100还包括加热器116和/或离子源安装位117和/或抽气装置118和/或蒸发源安装位(蒸发源安装位包括电子束蒸发源安装位119和/或阻蒸蒸发源安装位120)。在镀膜过程中，通过抽气装置118在箱体101内部形成真空环境；通过加热器116在箱体101内部提供适宜的温度；通过在离子源安装位117上安装离子源可以通过等离子清洗的方式对盖板进行清洗；通过蒸发源安装位安装适宜的蒸发源以在盖板表面形成适宜的镀层。当需要电子束蒸发时，将蒸发源安装在电子束蒸发源安装位119上，当需要阻蒸蒸发时，将蒸发源安装在阻蒸蒸发源安装位120上。
54.进一步地，镀膜设备100还包括箱门114和基座115。箱门114的设置可以更加便捷地对箱体101内部进行操作。基座115的设置可以使镀膜设备100更加稳定地安装在预设的位置。
55.本实用新型还有一实施例提供了一种镀膜方法。该镀膜方法采用上述镀膜设备100，该镀膜方法包括如下步骤：
56.将盖板安装在镀膜盘103上，通过驱动机构106的作用带动连接架105运动，连接架105带动滚轮104沿导轨102运动，进而带动镀膜盘103运动。
57.在上述镀膜方法中，镀膜盘103能够同时分别获取与连接架105和滚轮104相同的运动方向，可以对盖板进行多方向、多角度的镀膜，有利于提高盖板上膜层的均匀性。
58.进一步地，镀膜方法还包括如下步骤：通过抽气装置118在箱体101内部形成真空环境；通过加热器116在箱体101内部形成预设的温度；通过离子源安装为117上的离子源对盖板进行等离子体清洗；通过蒸发源安装位上的蒸发源在盖板表面形成相应的镀层。在产
能方面，采用该镀膜方法的产能提升约60％。
59.请参阅图9，图9为采用上述镀膜设备100对盖板镀膜之后盖板上膜层的颜色均匀性曲线。由图9中可以看出，上下中膜层颜色波段差异均在4nm以内，说明采用上述镀膜设备100得到的膜层颜色一致性好。
60.下表示出了采用上述镀膜设备100得到的膜层的可靠性测试结果。
[0061][0062]
由上表结果可知，采用上述镀膜设备100得到的膜层具有良好的可靠性。
[0063]
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0064]
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。