一种家具设计制造用测量装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种测量装置，尤其涉及一种家具设计制造用测量装置。


背景技术：

2.目前家具的测量装置只能进行二维测量，在一些大型家具中，家具的结构和曲面都十分复杂，且家具上还有许多凹槽、通孔等，这样去测量家具某个位置相对于基准的准确位置是十分困难的。


技术实现要素：

3.为了克服现有技术存在的缺点，本实用新型提供一种家具设计制造用测量装置，能够对家具待测量位置进行三维测量，不受家具复杂结构的制约。
4.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
5.本实用新型提供了一种家具设计制造用测量装置，包括：
6.支撑架；
7.横杆，所述支撑架上对称设置有所述横杆；
8.纵杆，所述支撑架上对称设置有所述纵杆，所述纵杆设置在所述横杆下侧，且，所述纵杆和所述横杆围成一个四边形的框架，待测量家具位于所述框架下方；
9.刻度，所述横杆中的一根上侧表面设置有所述刻度，所述纵杆中的一根上侧表面设置有所述刻度；
10.x轴滑杆，两侧的所述纵杆之间滑动式设置有所述x轴滑杆，沿所述x轴滑杆长轴线上开设有第一移动槽，所述第一移动槽为通槽；
11.y轴滑杆，两侧的所述横杆之间滑动式设置有所述y轴滑杆，沿所述y轴滑杆长轴线上开设有第二移动槽，所述第二移动槽为通槽，所述x轴滑杆和所述y轴滑杆为互相垂直设置；
12.测距机构，所述测距机构从上往下依次穿过所述第一移动槽和所述第二移动槽，所述测距机构与所述第一移动槽和所述第二移动槽均为滑动配合，所述测距机构能测得位于其下方家具待测点到所述测距机构的垂直高度。
13.作为上述技术方案的进一步改进，还包括有第一光线发射头和第二光线发射头，所述纵杆靠近所述框架内的一侧为其内侧，所述纵杆内侧上均开设有第二滑槽和第二避让槽，所述第二避让槽的下侧均为其靠近的所述第二滑槽的上侧，所述x轴滑杆的两端滑动配合在其两侧的所述第二滑槽内，所述x轴滑杆的一端上侧设置有所述光线发射头，所述第一光线发射头位于有所述刻度的所述纵杆内；
14.所述横杆靠近所述框架内的一侧为其内侧，所述横杆内侧上均开设有第一滑槽和第一避让槽，所述第一避让槽的下侧均为其靠近的所述第一滑槽的上侧，所述横杆两端滑动配合在其两侧的所述第一滑槽内，所述横杆一端上侧设置有所述第二光线发射头，所述第二光线发射头位于有所述刻度的所述横杆内；
15.位于所述第二避让槽上方的所述纵杆部分为透明材质制成，位于所述纵杆上的所述刻度位于其透明部分上，位于所述第一避让槽上方的所述横杆部分为透明材质制成，位于所述横杆上的所述刻度位于其透明部分上。
16.作为上述技术方案的进一步改进，所述x轴滑杆包括中部的x轴中部杆和两端的x轴滑杆，两端的所述x轴滑杆分别滑动配合在其两侧的所述第二滑槽内，所述x轴中部杆位于其两侧的所述第二滑槽之间，所述y轴滑杆包括中部的y轴中部杆和两端的y轴滑杆，两端的所述y轴滑杆分别滑动配合在其两侧的所述第一滑槽内，所述y轴中部杆位于其两侧的所述第一滑槽之间，所述x轴中部杆下侧与所述y轴中部杆的上侧相抵。
17.作为上述技术方案的进一步改进，所述测距机构包括滑块、限位块和测距探头，所述滑块从上往下依次穿过所述第一移动槽和所述第二移动槽，所述滑块与所述第一移动槽和所述第二移动槽均为滑动配合，所述限位块设置在所述滑块上端，所述限位块的宽度大于所述第一移动槽的槽宽，所述测距探头设置在所述滑块下端，所述测距探头能测得位于其下方家具待测点到所述测距探头的垂直高度。
18.作为上述技术方案的进一步改进，所述测距探头为激光测距探头。
19.作为上述技术方案的进一步改进，所述第一光线发射头和所述第二光线发射头均为集束光发射头。
20.作为上述技术方案的进一步改进，所述横杆和所述纵杆的透明部分均为玻璃材质制成。
21.本实用新型的有益效果为：1、将x轴滑杆和y轴滑杆移动，使得测距机构发出的光线对准待测点，测距机构测得待测点的高度，即为z轴位置，从x轴滑杆一侧刻度读出待测点x轴位置，从y轴滑杆一侧的刻度读出待测点y轴位置，从而确定了待测点的x、y和z坐标，通过计算从而得出待测点相对于基准点的位置，这样的测量方式不受家具结构复杂的制约。
22.2、从x轴滑杆一侧刻度读出待测点或基准点x轴位置和从y轴滑杆一侧的刻度读出待测点或基准点y轴位置时，为了能准确读出刻度，第一光线发射头和第二光线发射头发出的光线射在刻度上，可以直观准确的读取出刻度，避免了由于视角不正对而产生的读取刻度的误差。
附图说明
23.图1为本实施例测量装置的示意图。
24.图2为本实施例x轴滑杆与纵杆的配合示意图。
25.图3为本实施例y轴滑杆与横杆的配合示意图。
26.图4为本实施例x轴滑杆和y轴滑杆的爆炸图。
27.其中，上述附图包括以下附图标记：1、支撑架，2、横杆，21、第一滑槽，22、第一避让槽，3、纵杆，31、第二滑槽，32、第二避让槽，4、刻度，5、x轴滑杆，51、x轴中部杆，5101、第一移动槽，52、x轴端部杆，6、y轴滑杆，61、y轴中部杆，6101、第二移动槽，62、y轴端部杆，7、测距机构，71、滑块，72、限位块，73、测距探头，8、第一光线发射头，9、第二光线发射头。
具体实施方式
28.现在将参照附图在下文中更全面地描述本实用新型，在附图中示出了本实用新型
当前优选的实施方式。然而，本实用新型可以以许多不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文所阐述的实施方式；而是为了透彻性和完整性而提供这些实施方式，并且这些实施方式将本实用新型的范围充分地传达给技术人员。
29.如图1
‑
4所示，一种家具设计制造用测量装置，包括支撑架1、横杆2、纵杆3、刻度4、x轴滑杆、y轴滑杆和测距机构7，支撑架1上对称设置有横杆2；支撑架1上对称设置有纵杆3，纵杆3设置在横杆2下侧，且，纵杆3和横杆2围成一个四边形的框架，待测量家具位于框架下方；横杆2中的一根上侧表面设置有刻度4，纵杆3中的一根上侧表面设置有刻度4；两侧的纵杆3之间滑动式设置有x轴滑杆，沿x轴滑杆长轴线上开设有第一移动槽5101，第一移动槽5101为通槽；两侧的横杆2之间滑动式设置有y轴滑杆，沿y轴滑杆长轴线上开设有第二移动槽6101，第二移动槽6101为通槽，x轴滑杆和y轴滑杆为互相垂直设置；测距机构7从上往下依次穿过第一移动槽5101和第二移动槽6101，测距机构7与第一移动槽5101和第二移动槽6101均为滑动配合，测距机构7能测得位于其下方家具待测点到测距机构7的垂直高度。
30.将待测量家具放置在框架下方，在测量家具某个待测量点的位置时，首先确定一个基准点，移动x轴滑杆和y轴滑杆，使得测距机构7发出的光线对准基准点，测距机构7测得基准点的高度，即为z轴位置，从x轴滑杆一侧刻度4读出基准点x轴位置，从y轴滑杆一侧的刻度4读出基准点y轴位置，从而确定了基准点的x、y和z坐标，将x轴滑杆和y轴滑杆移动，使得测距机构7发出的光线对准待测点，测距机构7测得待测点的高度，即为z轴位置，从x轴滑杆一侧刻度4读出待测点x轴位置，从y轴滑杆一侧的刻度4读出待测点y轴位置，从而确定了待测点的x、y和z坐标，通过计算从而得出待测点相对于基准点的位置，这样的测量方式不受家具结构复杂的制约。
31.进一步地，还包括有第一光线发射头8和第二光线发射头9，纵杆3靠近框架内的一侧为其内侧，纵杆3内侧上均开设有第二滑槽31和第二避让槽32，第二避让槽32的下侧均为其靠近的第二滑槽31的上侧，x轴滑杆的两端滑动配合在其两侧的第二滑槽31内，x轴滑杆的一端上侧设置有光线发射头，第一光线发射头8位于有刻度4的纵杆3内；横杆2靠近框架内的一侧为其内侧，横杆2内侧上均开设有第一滑槽21和第一避让槽22，第一避让槽22的下侧均为其靠近的第一滑槽21的上侧，横杆2两端滑动配合在其两侧的第一滑槽21内，横杆2一端上侧设置有第二光线发射头9，第二光线发射头9位于有刻度4的横杆2内；位于第二避让槽32上方的纵杆3部分为透明材质制成，位于纵杆3上的刻度4位于其透明部分上，位于第一避让槽22上方的横杆2部分为透明材质制成，位于横杆2上的刻度4位于其透明部分上。
32.在本实施例中，从x轴滑杆一侧刻度4读出待测点或基准点x轴位置和从y轴滑杆一侧的刻度4读出待测点或基准点y轴位置时，为了能准确读出刻度4，第一光线发射头8和第二光线发射头9发出的光线射在刻度4上，可以直观准确的读取出刻度4，避免了由于视角不正对而产生的读取刻度4的误差。
33.进一步地，x轴滑杆包括中部的x轴中部杆和两端的x轴端部杆52，两端的x轴端部杆52分别滑动配合在其两侧的第二滑槽31内，x轴中部杆位于其两侧的第二滑槽31之间，y轴滑杆包括中部的y轴中部杆和两端的y轴端部杆62，两端的y轴端部杆62分别滑动配合在其两侧的第一滑槽21内，y轴中部杆位于其两侧的第一滑槽21之间，x轴中部杆下侧与y轴中部杆的上侧相抵，有利于y轴滑杆和x轴滑杆移动的稳定性。
34.进一步地，测距机构7包括滑块71、限位块72和测距探头73，滑块71从上往下依次
穿过第一移动槽5101和第二移动槽6101，滑块71与第一移动槽5101和第二移动槽6101均为滑动配合，限位块72设置在滑块71上端，限位块72的宽度大于第一移动槽5101的槽宽，测距探头73设置在滑块71下端，测距探头73能测得位于其下方家具待测点到测距探头73的垂直高度，利用滑块71在x轴滑杆和y轴滑杆的移动槽内移动，测距探头73装在滑块71上，有利于测距探头73移动的准确性。
35.进一步地，测距探头73为激光测距探头73。
36.进一步地，第一光线发射头8和第二光线发射头9均为集束光发射头，利于人眼识别。
37.进一步地，横杆2和纵杆3的透明部分均为玻璃材质制成。
38.以上所述实施例仅表达了本实用新型的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。