一种光漫射及红外滤光组合镀膜半导体的制作方法

技术特征：
1.一种光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，用于制作光学元件，其特征在于，包括：基材；红外滤光膜层，形成于所述基材上方，所述红外滤光膜层中具有若干间隙；环氧树脂膜层，形成于所述基材底部，所述环氧树脂膜层与所述红外滤光膜层中的间隙相应位置具有若干间隙；其中，所述光学元件由沿所述间隙切割所述红外滤光膜层、基材和环氧树脂膜层形成。2.根据权利要求1所述的光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，其特征在于，所述基材由玻璃制成。3.根据权利要求1所述的光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，其特征在于，所述红外滤光膜层由光刻胶制成。4.根据权利要求1所述的光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，其特征在于，所述红外滤光膜层由丝印胶制成。5.根据权利要求1所述的光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，其特征在于，所述光漫射及红外滤光组合镀膜半导体用于制作传感器或摄像器镜头。

技术总结
一种光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，用于制作光学元件，包括：基材；红外滤光膜层，形成于所述基材上方，所述红外滤光膜层中具有若干间隙；环氧树脂膜层，形成于所述基材底部，所述环氧树脂膜层与所述红外滤光膜层中的间隙相应位置具有若干间隙；其中，所述光学元件由沿所述间隙切割所述红外滤光膜层、基材和环氧树脂膜层形成。本实用新型具有如下有益效果：本实用新型光漫射及红外滤光组合镀膜半导体，通过在同一块玻璃或其它光学基材上产生红外滤光和散光图案，由此在切割时可以避免光学元件产生边缘缺损；还可以减少光学元件的总体厚度并降低所采用的相应器件生产成本。度并降低所采用的相应器件生产成本。度并降低所采用的相应器件生产成本。


技术研发人员：王吉 徐群 曹培红
受保护的技术使用者：王吉
技术研发日：2021.06.09
技术公布日：2021/11/21