一种生产胶囊片剂用的胶体磨的制作方法

1.本发明涉及胶体磨技术领域，尤其涉及一种生产胶囊片剂用的胶体磨。


背景技术：

2.胶体磨由不锈钢、半不锈钢胶体磨组成，胶体磨产品除电机及部分零部件外，凡与物料相接触的零部件全部采用高强度不锈钢制成，尤其，关键的动、静磨盘进行强化处理因此，具有良好的耐腐性和耐磨性，使所加工的物料无污染卫生纯洁，胶体磨的工作原理是胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，其中一个高速旋转，另一个静止，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动、高速旋涡等物理作用，使物料被有效地乳化、分散、均质和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
3.现有的胶囊片剂用的胶体磨粉碎后的物料大都大小不一，容易出现粉碎不完全的现象，而且研磨、粉碎过程中会物料会由于温度急剧上升而开始结块或粘附在胶体磨的内壁上，从而会导致胶体磨的粉碎效果逐渐变差，因此需要对此做出改进。


技术实现要素：

4.本发明的目的是为了解决现有技术中胶体磨设计不合理的问题，而提出的一种生产胶囊片剂用的胶体磨。
5.为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：一种生产胶囊片剂用的胶体磨，包括磨体，所述磨体的底端均匀固定安装有多个支撑腿，所述磨体的顶端固定安装有顶板，所述顶板的顶壁上固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端固定安装与转轴，且转轴的底端贯穿顶板并延伸至顶板的下侧，所述转轴的底端固定安装有研磨块，且研磨块位于磨体内，所述磨体内设有与研磨块相互配合的研磨槽，且研磨槽的底端延伸至磨体的下侧，所述研磨块底端的外侧壁和研磨槽底端的内侧壁均倾斜设置，且研磨块与研磨槽之间的间隙从上往下逐渐减小，所述磨体的底端放置有接料箱，且接料箱位于研磨槽的下侧，所述磨体的顶壁上对称固定安装有两个液压机，两个所述液压机的输出端均固定安装有活塞杆，且活塞杆的顶端均固定安装在顶板的底壁上，所述磨体的顶壁上活动插设有多个活动杆，且活动杆的顶端均固定安装在顶板的底壁上，所述磨体顶端的外侧壁上均匀螺纹连接有多个与活动杆相互配合的锁紧螺栓，所述磨体内设有冷却装置装置，所述冷却装置包括开设在磨体内的环形冷却槽，所述磨体内对称插设有进水管和排水管，所述进水管和排水管上共同连接有循环水冷却装置，所述研磨块内设有辅助冷却装置。
6.优选地，所述研磨块顶端的外侧壁均为斜面。
7.优选地，所述研磨块的顶壁上固定安装有环形连接板，且环形连接板的顶端插设在顶板的底壁上，所述环形连接板的外侧壁上固定安装有环形限位板，所述顶板上开设有
与环形限位板相互配合的环形限位槽。
8.优选地，所述磨体的顶壁上固定安装有环形挡板，且环形挡板位于研磨槽的外侧。
9.优选地，每个所述活动杆的外侧壁上均设有刻度线。
10.优选地，所述环形冷却槽的内侧壁上均匀固定安装有多个加强筋。
11.优选地，所述辅助冷却装置包括固定安装在研磨块内的环形换热管，所述研磨块的底端固定安装有与环形换热管相互连通的环形连接管，所述环形连接管的底壁上固定安装有连接管，且连接管的底端延伸至研磨块的下侧，所述连接管的底端连接有连接头，且连接管上转动连接在连接头上，所述连接头上固定安装有固定管，所述固定管上连接有固定座，且固定座固定在磨体的底端，所述固定管上连接有冷水泵。
12.与现有技术相比，本发明有如下有益效果：1、研磨块与研磨槽之间的间隙从上往下逐渐减小，因此只有研磨、粉碎完全的物料才能经研磨槽的底端流出，能避免出现粉碎不完全的现象，从而改善了胶体磨的研磨效果，设计合理，实用效果好；2、磨体和研磨块内分别设有冷却装置和辅助冷却装置，能防止研磨粉碎过程中物料由于温度急剧上升而开始结块或粘附在胶体磨的内壁上，从而改善了胶体磨的使用效果；3、可以方便的上下调节顶板和研磨块的安装高度，从而可以根据加工需要方便的调节研磨块与研磨槽之间的间隙，适用范围广，使用效果好。
附图说明
13.图1为本发明提出的一种生产胶囊片剂用的胶体磨的第一正面结构剖视图；图2为本发明提出的一种生产胶囊片剂用的胶体磨的第二正面结构剖视图；图3为本发明提出的一种生产胶囊片剂用的胶体磨的正面结构示意图；图4为本发明提出的一种生产胶囊片剂用的胶体磨的a部分结构的放大图。
14.图中：1磨体、2支撑腿、3顶板、4驱动电机、5转轴、6研磨块、7研磨槽、8环形连接板、9环形限位板、10接料箱、11环形挡板、12液压机、13活塞杆、14活动杆、15锁紧螺栓、16刻度线、17环形冷却槽、18进水管、19排水管、20加强筋、21环形换热管、22环形连接管、23连接管、24连接头、25固定管、26固定座。
具体实施方式
15.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
16.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
17.参照图1
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4，一种生产胶囊片剂用的胶体磨，包括磨体1，磨体1的底端均匀固定安装有多个支撑腿2，磨体1的顶端固定安装有顶板3，顶板3的顶壁上固定安装有驱动电机4，驱动电机4的输出端固定安装与转轴5，且转轴5的底端贯穿顶板3并延伸至顶板3的下侧，转
轴5的底端固定安装有研磨块6，且研磨块6位于磨体1内，磨体1内设有与研磨块6相互配合的研磨槽7，且研磨槽7的底端延伸至磨体1的下侧，研磨块6底端的外侧壁和研磨槽7底端的内侧壁均倾斜设置，且研磨块6与研磨槽7之间的间隙从上往下逐渐减小，研磨块6顶端的外侧壁均为斜面，可以防止物料堆积在研磨块6的顶端。
18.研磨块6的顶壁上固定安装有环形连接板8，且环形连接板8的顶端插设在顶板3的底壁上，环形连接板8的外侧壁上固定安装有环形限位板9，顶板3上开设有与环形限位板9相互配合的环形限位槽，提升了研磨块6安装和转动的稳定性。
19.磨体1的底端放置有接料箱10，且接料箱10位于研磨槽7的下侧，磨体1的顶壁上固定安装有环形挡板11，且环形挡板11位于研磨槽7的外侧，可以防止研磨槽7内的物料向外流出。
20.磨体1的顶壁上对称固定安装有两个液压机12，两个液压机12的输出端均固定安装有活塞杆13，且活塞杆13的顶端均固定安装在顶板3的底壁上，磨体1的顶壁上活动插设有多个活动杆14，且活动杆14的顶端均固定安装在顶板3的底壁上，启动液压机12可以驱动活塞杆13带动顶板3、驱动电机4、转轴5和研磨块6上下移动，可以方便的调节研磨块6的安装高度，从而可以根据加工需要方便的调节研磨块6与研磨槽7之间的间隙。
21.磨体1顶端的外侧壁上均匀螺纹连接有多个与活动杆14相互配合的锁紧螺栓15，转动锁紧螺栓15可以将活动杆14固定，从而提升了活动杆14和顶板3固定的稳定性，每个活动杆14的外侧壁上均设有刻度线16，便于直观的观察出活动杆14上下移动的距离。
22.磨体1内设有冷却装置装置，冷却装置包括开设在磨体1内的环形冷却槽17，环形冷却槽17的内侧壁上均匀固定安装有多个加强筋20，可以防止环形冷却槽17的内侧壁变形，磨体1内对称插设有进水管18和排水管19，进水管18和排水管19上共同连接有循环水冷却装置，研磨块6内设有辅助冷却装置，辅助冷却装置包括固定安装在研磨块6内的环形换热管21，研磨块6的底端固定安装有与环形换热管21相互连通的环形连接管22，环形连接管22的底壁上固定安装有连接管23，且连接管23的底端延伸至研磨块6的下侧，连接管23的底端连接有连接头24，且连接管23上转动连接在连接头24上，连接头24上固定安装有固定管25，固定管25上连接有固定座26，且固定座26固定在磨体1的底端，固定管25上连接有冷水泵，将冷却水注入环形冷却槽17和环形换热管21内就可以对研磨槽7内的物料进行冷却，从而能防止研磨粉碎过程中物料由于温度急剧上升而开始结块或粘附在研磨槽7的内壁上，从而改善了胶体磨的使用效果。
23.本发明中，启动驱动电机4可以驱动转轴5带动研磨块6自由转动，研磨块6转动就可以对研磨槽7内的物料进行研磨粉碎，研磨块6与研磨槽7之间的间隙从上往下逐渐减小，因此只有研磨、粉碎完全的物料才能经研磨槽7的底端流出，从而能避免出现粉碎不完全的现象，将冷却水注入环形冷却槽17和环形换热管21内就可以对研磨槽7内的物料进行冷却，从而能防止研磨粉碎过程中物料由于温度急剧上升而开始结块或粘附在研磨槽7的内壁上；启动液压机12可以驱动活塞杆13带动顶板3、驱动电机4、转轴5和研磨块6上下移动，可以方便的调节研磨块6的安装高度，从而可以根据加工需要方便的调节研磨块6与研磨槽7之间的间隙。
24.进一步说明，上述固定连接，除非另有明确的规定和限定，否则应做广义理解，例如，可以是焊接，也可以是胶合，或者一体成型设置等本领域技术人员熟知的惯用手段。
25.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
26.以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。