基板处理装置及基板的制造方法与流程

技术特征：
1.一种基板处理装置，具备：基板支承部，支承基板；旋转部，使上述基板旋转；处理液供给部，向上述基板的表面供给处理液；以及控制部，上述控制部进行控制，使得在一个基板处理工序中、针对由上述旋转部旋转的上述基板持续地从上述处理液供给部连续地供给上述处理液、并一边将上述处理液从上述基板排出一边连续地进行基板处理的期间，以预先设定的规定的定时，定期地进行使上述处理液从上述基板排出的排液速度提高的排液处理，并且上述基板处理的最后以上述排液处理结束。2.如权利要求1所述的基板处理装置，上述控制部具备作为上述排液处理而在上述预先设定的规定的定时提高上述基板的旋转速度的旋转速度调整部。3.如权利要求1所述的基板处理装置，上述控制部具备作为上述排液处理而使向上述基板供给的上述处理液的流量在上述预先设定的规定的定时增加的液量调整部。4.如权利要求1所述的基板处理装置，上述排液处理的每1次的时间比上述基板处理中的通常处理的每1次的时间短。5.如权利要求1所述的基板处理装置，上述排液处理在上述基板处理中被进行多次。6.如权利要求5所述的基板处理装置，多次的上述排液处理中，每1次的时间是一定的相同时间。7.如权利要求1所述的基板处理装置，上述基板处理包括通常处理和上述排液处理；在将上述基板处理的处理计划时间(a)用以上述通常处理和上述排液处理为1组的时间(t)除而发生余数的情况下，不改变进行上述排液处理的时间而调整上述通常处理的时间。8.一种基板的制造方法，包括：使基板旋转；向上述基板的表面供给处理液；在一个基板处理工序中、针对旋转的上述基板连续地供给上述处理液、并一边将上述处理液从上述基板排出一边连续地进行基板处理的期间，以预先设定的规定的定时，定期地进行排液处理，该排液处理通过提高上述旋转的旋转速度、增加上述处理液的供给量的任一种以上的排液处理来使供给至上述基板的上述处理液从上述基板上移动的排液速度提高，上述基板处理的最后以上述排液处理结束。

技术总结
基板处理装置及基板的制造方法。上述基板处理装置具备：基板支承部，支承基板；旋转部，使上述基板旋转；处理液供给部，向上述基板的表面供给处理液；以及控制部，上述控制部进行控制，使得在一个基板处理工序中、针对由上述旋转部旋转的上述基板持续地从上述处理液供给部连续地供给上述处理液、并一边将上述处理液从上述基板排出一边连续地进行基板处理的期间，以预先设定的规定的定时，定期地进行使上述处理液从上述基板排出的排液速度提高的排液处理，并且上述基板处理的最后以上述排液处理结束。处理结束。处理结束。


技术研发人员：滨田晃一 小林信雄
受保护的技术使用者：芝浦机械电子株式会社
技术研发日：2017.02.24
技术公布日：2021/11/4