氢分子足浴桶的制作方法

技术特征：
1.氢分子足浴桶，其特征在于，包括：足浴桶本体，所述足浴桶本体底部为双层结构，且两层结构之间具有一定容纳空腔；所述足浴桶本体底部上层设有镂空槽体；加氢部，其设置于所述镂空槽体处，包括：氢气发生器，其设置于所述镂空槽体处，且所述氢气发生器的工作部和电路部用隔板隔开，但所述氢气发生器的工作部和电路部的连接点通过所述隔板仍连接；所述隔板刚好填充所述镂空槽体，并与所述镂空槽体密封，使得所述氢气发生器的工作部与电路部分别置于所述隔板的上方和下方；上保护壳体，其套设在所述氢气发生器的工作部上，且所述上保护壳体上设有多个进水槽。2.如权利要求1所述的氢分子足浴桶，其特征在于，还包括下保护壳体，其套设在所述氢气发生器的电路部上，且下保护壳体上设有线路进出槽。3.如权利要求2所述的氢分子足浴桶，其特征在于，还包括：按摩部、加热部、风控部以及冲浪部；所述按摩部位于所述足浴桶本体的内腔中，包括4～8个按摩器；所述加热部包括循环进水管、循环出水管、连接管体以及加热器，所述循环进水管的一端和循环出水管的一端通过连接管体连接，所述循环进水管的另一端和循环出水管的另一端均通向所述足浴桶本体的内腔中；所述连接管体置于所述容纳空腔内，且所述连接管体内的水通过加热器加热；所述冲浪部位于所述足浴桶本体的内腔中，利用水管直接连接到水泵的进出口，所述水管都与所述足浴桶本体内腔连通。4.如权利要求3所述的氢分子足浴桶，其特征在于，所述连接管体与所述足浴桶本体的出水口通过管体连接。5.如权利要求4所述的氢分子足浴桶，其特征在于，所述足浴桶本体上设有盖体，所述盖体覆盖所述足浴桶本体敞口处1/5～2/3。6.如权利要求5所述的氢分子足浴桶，其特征在于，所述足浴桶本体左右侧壁上部均设有向足浴桶本体内腔延伸的支撑板，所述氢分子足浴桶足浴桶本体前后侧壁上设有烘干口，所述烘干口的高度略高于所述支撑板。7.基于权利要求3～6任一项所述氢分子足浴桶的控制系统，其特征在于，包括加氢部控制电路，所述加氢部控制电路连接到u1a主控单片机芯片的第10脚，从u1a主控单片机芯片的第10脚连接到电阻r4后，再连接到三极管q1，三极管q1再连接到场效应管d8，最终控制氢气发生器的制氢/断开。8.如权利要求7所述的控制系统，其特征在于，还包括：电源，所述电源包括12v电源、5v电源、3.3v电源；所述12v电源由外部变压器的17v输入连接到h1第1脚第3脚再输出连接到d7的第1脚稳压成为dc12v后，从d7第3脚连接到dc12v电源供给风扇和各个继电器；所述5v电源由外部变压器交流ac 8v输出连接到h1的第4脚及第5脚后分别连接到d3、d4的第1脚进行整流；进入负载后再从d1、d2的第2脚流出变成交流转直流回路，整流后连接到d6的第1脚，输入直流电进行稳压为dc5v，再从d6的第3脚输出dc 5v电源供给负载；所述3.3v电源由dc 5v电源连接到u2第3脚输入，再从u2的第2脚和第4脚连接到 3.3v电源供电。9.如权利要求8所述的控制系统，其特征在于，还包括：按摩部控制电路、冲浪部控制电路、加热部控制电路以及风控部控制电路；所述按摩部控制电路连接到u1a主控单片机芯片
的第21脚，再连接到光耦o2，所述光耦o2再连接到三极管q4，所述三极管连接到继电器k2，所述继电器k2控制按摩马达形成按摩滚轮循环振动；所述冲浪部控制电路连接到u1a主控单片机芯片的第22脚，再连接到光耦o1，所述光耦o1再连接到三极管q3，所述三极管q3连接到继电器k1，所述继电器k1控制冲浪马达形成循环水流动；所述加热部控制电路连接到u1a主控单片机芯片的第20脚，再连接到光耦o3，所述光耦o3再连接到三极管q5，所述三极管q5再连接到继电器k3，所述继电器k3控制热电偶的通电加热与断电变化来改变水温，所述热电偶由外部热电耦传感器输出阻抗变化值进入hw插座第2脚后，再连接到u1a主控单片机芯片第12脚；所述风控部控制电路由 12v电源连接到xh
‑
fx的第1脚连接到电源正，xh
‑
fx的第2脚连接到电源负的端子插座后再接于12v风扇。10.如权利要求9所述的控制系统，其特征在于，还包括手环控制电路，所述手环控制电路连接到u1a主控单片机芯片的第39脚。

技术总结
本实用新型公开了一种氢分子足浴桶，包括：足浴桶本体，足浴桶本体底部为双层结构，且两层结构之间具有一定容纳空腔；足浴桶本体底部上层设有镂空槽体；加氢部，其设置于镂空槽体处，包括：氢气发生器，其设置于所述镂空槽体处，且氢气发生器的工作部和电路部用隔板隔开，但氢气发生器的工作部和电路部的连接点仍通过所述隔板连接；隔板刚好填充所述镂空槽体，并与镂空槽体密封，使得氢气发生器的工作部与电路部分别置于隔板的上方和下方；上保护壳体，其套设在氢气发生器的工作部上，且所述上保护壳体上设有多个进水槽。本实用新型能够改善人们的酸性体质，逼出体内毒素，通过脚底穴位打通全身经络，打通体内微循环，净化细胞内外环境。内外环境。内外环境。


技术研发人员：董玉峰
受保护的技术使用者：董玉峰
技术研发日：2020.12.07
技术公布日：2021/11/2