一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构的制作方法

摘要: 本技术涉及用于涂胶显影机旋转单元的背面冲洗用的喷嘴结构,具体涉及一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构。背景技术:1、在半导体制造领域,涂布机的背面冲洗单元通过喷嘴...
一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构的制作方法

本技术涉及用于涂胶显影机旋转单元的背面冲洗用的喷嘴结构,具体涉及一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构。

背景技术:

1、在半导体制造领域,涂布机的背面冲洗单元通过喷嘴向晶圆边缘喷射清洗液,以去除光刻胶残留和污染物。随着制程节点不断推进,对清洗均匀性和缺陷控制的要求愈发严苛,传统喷嘴的流体稳定性不足已成为制约良率提升的关键瓶颈。

2、1. 现有技术问题分析

3、(1)湍流与气泡问题

4、传统背洗喷嘴多采用单一渐缩或直筒流道设计,在高速流动(3-5 m/s)时,导致湍流引发的流量波动幅度达±12%-15%。在半导体涂布中,传统喷嘴因流道设计缺陷,气泡密度高达110-130个/cm³,尤其在低粘度光刻胶涂布中更为显著。

5、(2)表面滞留效应

6、喷嘴内壁粗糙度(ra>1.6um)和材料亲水性(接触角<90°)导致清洗液残留,尤其在低流量(<50ml/min)工况下,液膜积聚引发流量滞后。

7、(3)被动整流技术缺陷

8、现有改进方案通过在流道内增设固定导流片或金属筛网,虽能部分抑制湍流,但导致压损增加20%以上,且无法适配不同粘度清洗液。此外,常规疏水涂层(如ptfe)在强酸(ph<2)或强碱(ph>12)环境中易剥落,寿命不足500小时,需频繁维护。

技术实现思路

1、本实用新型提供了一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,通过渐缩段平缓加速和渐扩段动能耗散,使流动状态从湍流过渡至层流,流量稳定性显著提升,有效抑制因流速突变引发的压力波动,确保晶圆表面清洗均匀性。

2、本实用新型所采用的技术方案是:一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,包括用于与与外部清洗液管路连接的入口连接部(101)以及与入口连接部(101)固定连接的三级渐缩-渐扩流道,其中,

3、三级渐缩-渐扩流道包括与依次连接的第一级渐缩段(102)、第二级等径段(104)、第三级渐扩段(106),第三级渐扩段(106)为双曲线轮廓。

4、在上述方案的基础上,作为优选,入口连接部(101)为外螺纹接口,材质为316l不锈钢。

5、在上述方案的基础上,作为优选,三级渐缩-渐扩流道的内壁具有超疏水涂层(105)。

6、在上述方案的基础上,作为优选,三级渐缩-渐扩流道的材质为陶瓷树脂。

7、在上述方案的基础上,作为优选,第一级渐缩段(102)具有螺旋导流槽(103),槽深0.1.-0.3mm,螺距6-10mm,螺旋角40-50°,槽底宽度0.1-0.2mm,横截面为梯形。

8、在上述方案的基础上,作为优选,第一级渐缩段(102)的锥角10-15°。

9、在上述方案的基础上,作为优选,第二级等径段(104)的直径与第一渐缩段的出口直径相同。

10、在上述方案的基础上,作为优选,第三级渐扩段(106)的出口端固定安装蜂窝筛网(107)。

11、在上述方案的基础上,作为优选,蜂窝筛网(107)为氧化铝陶瓷材质,正六边形蜂窝孔,孔径φ0.4-0.6mm,壁厚0.1-0.2mm,筛网厚度1.2-1.8mm,孔隙率65-75%。

12、在上述方案的基础上,作为优选,第三级渐扩段(106)的曲率半径r=15-25mm,出口直径φ5-8mm。

13、本实用新型具有以下技术效果是:

14、通过渐缩段平缓加速和渐扩段动能耗散,使流动状态从湍流过渡至层流。流量稳定性显著提升,有效抑制因流速突变引发的压力波动,确保晶圆表面清洗均匀性。

15、螺旋导流槽强制流体产生旋向运动,利用离心力将气泡驱离流道壁面,减少气泡滞留。蜂窝筛网将大尺度涡流分解为涡旋,抑制气泡聚集和颗粒污染,提升晶圆边缘清洗质量。

16、涂层表面形成微纳分级粗糙结构,大幅降低流体附着力和滞留量,确保低流量工况下流量响应一致性。涂层具备优异的耐化学腐蚀性,长期暴露于强酸、强碱清洗液中仍保持稳定疏水性能,延长喷嘴使用寿命。

17、双曲线渐扩段通过平缓的静压恢复梯度,减少边界层分离风险,降低压损。蜂窝筛网的高孔隙率设计在实现湍流抑制的同时,最大限度减少流动阻力,综合压损显著低于传统导流片或筛网方案。

1.一种半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,包括用于与外部清洗液管路连接的入口连接部(101)以及与入口连接部(101)固定连接的三级渐缩-渐扩流道,其中,

2.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,入口连接部(101)为外螺纹接口,材质为316l不锈钢。

3.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,三级渐缩-渐扩流道的内壁具有超疏水涂层(105)。

4.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,三级渐缩-渐扩流道的材质为陶瓷树脂。

5.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,第一级渐缩段(102)具有螺旋导流槽(103),槽深0.1-0.3mm,螺距6-10mm,螺旋角40-50°,槽底宽度0.1-0.2mm,横截面为梯形。

6.如权利要求5所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,第一级渐缩段(102)的锥角10-15°。

7.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,第二级等径段(104)与第一渐缩段的出口直径相同。

8.如权利要求1所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,第三级渐扩段(106)的出口端固定安装蜂窝筛网(107)。

9.如权利要求8所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,蜂窝筛网(107)为氧化铝陶瓷材质,正六边形蜂窝孔,孔径φ0.4-0.6mm,壁厚0.1-0.2mm,筛网厚度1.2-1.8mm,孔隙率65-75%。

10.如权利要求8所述的半导体涂布设备多级导流喷嘴结构,其特征在于,第三级渐扩段(106)的曲率半径r=15-25mm,出口直径φ5-8mm。