干涉曝光装置的制作方法

摘要: 本技术涉及干涉曝光,特别涉及一种干涉曝光装置。背景技术:1、干涉曝光是一种通过两束或多束相干光在工作平面(如光刻胶表面)上相互叠加形成周期性明暗条纹,从而实现微...
干涉曝光装置的制作方法

本技术涉及干涉曝光,特别涉及一种干涉曝光装置。

背景技术:

1、干涉曝光是一种通过两束或多束相干光在工作平面(如光刻胶表面)上相互叠加形成周期性明暗条纹,从而实现微纳米周期结构制备的关键技术。

2、现有技术中采用固定光学几何(如固定支架或光学台)以保证稳定性,但这导致干涉夹角不可调或调节范围有限,使得同一平台难以满足多种周期结构的制备需求。夹角可调性受限还会影响工艺的通用性和灵活性,增加了为不同周期需求而更换光学平台或重新对准的工作量。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提出一种干涉曝光装置,以提升干涉曝光的灵活性。

2、为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提出一种干涉曝光装置,包括:

3、光束发生单元,用于发射光束;

4、分光单元,设置于所述光束的路径上,以将所述光束分为第一光束和第二光束;

5、工作平面,用于放置待刻蚀材料;

6、反射单元,对应所述第一光束和所述第二光束分别设置有一组,所述反射单元用于分别将所述第一光束和所述第二光束反射至所述工作平面以形成干涉图形;

7、其中,所述反射单元包括反射镜和调节单元,所述调节单元用于调节所述反射镜的位置以调节所述第一光束和所述第二光束在所述工作平面上的入射角度。

8、本实用新型的一可选实施例中,还包括直线驱动机构,所述直线驱动机构用于驱动所述工作平面沿第一方向移动,所述第一方向为所述第一光束和所述第二光束夹角的角平分线方向。

9、本实用新型的一可选实施例中,所述反射镜包括第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜用于接收所述分光单元处传出的光束,所述第二反射镜用于接收所述第一反射镜反射的光束。

10、本实用新型的一可选实施例中,所述调节单元被装配为能够驱动所述第一反射镜和所述第二反射镜分别绕第二方向自转,所述调节单元被装配为能够驱动所述第二反射镜沿第三方向平移,所述第二方向垂直于所述第一光束和所述第二光束的方向,所述第三方向垂直于所述第二方向。

11、本实用新型的一可选实施例中,所述第一光束对应的一组所述反射单元与所述第二光束对应的一组所述反射单元镜像对称布置。

12、本实用新型的一可选实施例中,所述光束发生单元包括沿光束方向依次布置的光束发生器、第三反射镜、第四反射镜、扩束镜、λ/2波片。

13、本实用新型的一可选实施例中,所述光束进入所述第三反射镜和所述第四反射镜的入射角为45°。

14、本实用新型的一可选实施例中,所述光束发生器发射的光束波长为400-500纳米。

15、本实用新型的一可选实施例中,所述分光单元与所述反射单元之间设置有λ/4波片。

16、本实用新型的一可选实施例中,所述分光单元为偏振分光棱镜。

17、本实用新型的技术效果在于:通过在反射单元中设置可调节的反射镜及调节单元,实现对第一光束和第二光束入射角度的精确可控,从而使干涉夹角可调节,从而直接调节干涉条纹周期,实现同一装置上对不同周期微纳结构的快速切换,显著提高了工艺通用性和制备灵活性;反射式光路减少了色差对波前的影响,便于保持波前连续性和干涉稳定性,降低了对复杂光程补偿的需求;通过精密调节单元可实现高精度对准与重复定位,缩短调试时间并提高曝光重现性。

1.一种干涉曝光装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的干涉曝光装置,其特征在于,还包括直线驱动机构,所述直线驱动机构用于驱动所述工作平面沿第一方向移动,所述第一方向为所述第一光束和所述第二光束夹角的角平分线方向。

3.根据权利要求1所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述反射镜包括第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜用于接收所述分光单元处传出的光束,所述第二反射镜用于接收所述第一反射镜反射的光束。

4.根据权利要求3所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述调节单元被装配为能够驱动所述第一反射镜和所述第二反射镜分别绕第二方向自转,所述调节单元被装配为能够驱动所述第二反射镜沿第三方向平移,所述第二方向垂直于所述第一光束和所述第二光束的方向,所述第三方向垂直于所述第二方向。

5.根据权利要求4所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述第一光束对应的一组所述反射单元与所述第二光束对应的一组所述反射单元镜像对称布置。

6.根据权利要求1所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述光束发生单元包括沿光束方向依次布置的光束发生器、第三反射镜、第四反射镜、扩束镜、λ/2波片。

7.根据权利要求6所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述光束进入所述第三反射镜和所述第四反射镜的入射角为45°。

8.根据权利要求6所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述光束发生器发射的光束波长为400-500纳米。

9.根据权利要求1所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述分光单元与所述反射单元之间设置有λ/4波片。

10.根据权利要求1所述的干涉曝光装置,其特征在于,所述分光单元为偏振分光棱镜。