一种用于匀胶片检验的防曝光设备的制作方法

本技术属于衍射光波导制备，具体涉及一种用于匀胶片检验的防曝光设备。

背景技术：

1、随着信息技术的发展，增强现实(augmented real ity，ar)技术日益成熟，被越来越广泛的应用于教育、医疗、娱乐、工业等行业。

2、增强现实技术可以通过很多硬件平台实现，其中最具有沉浸感的是可穿戴增强现实设备，即ar眼镜。目前，比较成熟的ar眼镜技术方案主要分为棱镜方案、birdbath方案、自由曲面方案、离轴全息透镜方案和衍射光波导方案。其中衍射光波导方案因轻薄和可量产性的特点成为ar眼镜的主流技术方案。

3、现有衍射光波导的制备方法一般是：

4、1.制备光栅母版。

5、具体的，

6、在母版基底上制备光栅掩膜：在母版基底表面旋涂一层一定厚度的光刻胶，得到设置光刻胶掩膜的母版基底(即匀胶片)；将设置光刻胶掩膜的母版基底进行曝光操作，母版基底上的光刻胶掩膜受到曝光光场周期性明暗条纹的调制，光刻胶掩膜的性质发生变化，从而在母版基底上得到性质改变的光刻胶掩膜；将母版基底上性质改变的光刻胶掩膜进行显影操作，在母版基底上得到光栅掩膜。

7、利用光栅掩膜在母版基底上制作光栅：利用离子束刻蚀机对未被光栅掩膜覆盖的母版基底区域刻蚀光栅结构(即母版光栅)，从而制备得到光栅母版。

8、2.将光栅母版的光栅结构通过纳米压印工艺转印至软膜衬底，得到具有光栅结构反结构的软膜。

9、具体是在光栅母版上均匀旋涂压印胶，将软膜衬底与光栅母版贴合，施加压力使得压印胶填充至光栅母版的光栅结构中，在压印胶上得到光栅结构的反结构，利用紫外光固化、脱模，将具有光栅结构反结构的压印胶转移到软膜衬底上，得到具有光栅结构反结构的软膜。

10、3.将软膜上光栅结构的反结构通过纳米压印工艺转印至光学晶圆上，得到具有光栅结构的光学晶圆。

11、具体是在光学晶圆上旋涂模具胶，将具有光栅结构反结构的软膜与光学晶圆上的模具胶贴合，施加压力使得模具胶填充至软膜的光栅结构反结构，在模具胶上得到光栅结构，利用紫外光固化、脱模，将具有光栅结构反结构的软膜与具有光栅结构的模具胶分离，得到具有光栅结构的光学晶圆。

12、4.将光学晶圆按照所需形态进行激光切割，然后将切割后的光学晶圆进行叠合、封边操作，得到衍射光波导成品。

13、在上述光栅母版制备过程中，需要对匀胶片进行脏污、气泡、点状缺陷、线状缺陷、色差以及胶厚等外观指标检验。现有检测设备在对匀胶片检验过程中会导致匀胶片局部发生曝光操作，导致在光栅母版制备过程中会影响后续的曝光、显影、刻蚀等操作，从而影响利用光栅母版纳米压印衍射光波导的制作流程。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种用于匀胶片检验的防曝光设备。

2、本实用新型通过如下技术方案实现：

3、本实用新型提供一种用于匀胶片检验的防曝光设备，包括投影光源、滤光部件、第一透镜组、第二透镜组以及载物台；

4、所述载物台用于放置待测匀胶片；

5、所述滤光部件吸收设定波段范围的光线；

6、所述投影光源的投射光线经过滤光部件后得到滤光光线，滤光光线通过第一透镜组作为入射光线入射到载物台的待测匀胶片，待测匀胶片的反射光线再次通过第一透镜组进入第二透镜组。

7、进一步的，所述投影光源的投射光线的波段范围与可见光的波段范围匹配。

8、进一步的，所述滤光部件采用滤光片。

9、进一步的，所述第一透镜组采用物镜。

10、进一步的，所述第二透镜组采用目镜。

11、进一步的，所述滤光部件吸收光线的波段范围为波长在600nm以内的可见光波段。

12、和现有技术比，本实用新型的技术方案具有如下有益效果：

13、本实用新型提供一种用于匀胶片检验的防曝光设备，包括投影光源、滤光部件、第一透镜组、第二透镜组以及载物台。载物台用于放置待测匀胶片，滤光部件；投影光源的投射光线经过滤光部件吸收设定波段范围光线后得到滤光光线，滤光光线通过第一透镜组作为入射光线入射到载物台的待测匀胶片，待测匀胶片的反射光线再次通过第一透镜组进入第二透镜组，在对匀胶片检验过程中不会导致匀胶片局部发生曝光操作，进而解决因匀胶片检验过程发生局部曝光而影响光栅母版制程中后续的曝光、显影、刻蚀等操作等问题，从而解决因匀胶片检验过程发生局部曝光而影响利用光栅母版对衍射光波导的转印操作的问题。

1.一种用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，包括投影光源、滤光部件、第一透镜组、第二透镜组以及载物台；

2.根据权利要求1所述的用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，所述投影光源的投射光线的波段范围与可见光的波段范围匹配。

3.根据权利要求1所述的用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，所述滤光部件采用滤光片。

4.根据权利要求1所述的用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，所述第一透镜组采用物镜。

5.根据权利要求1所述的用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，所述第二透镜组采用目镜。

6.根据权利要求1所述的用于匀胶片检验的防曝光设备，其特征在于，所述滤光部件吸收光线的波段范围为波长在600nm以内的可见光波段。