掩模版图对称性的评价方法、装置、计算机设备、可读存储介质和程序产品与流程

本技术涉及半导体，特别是涉及一种掩模版图对称性的评价方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。

背景技术：

1、随着半导体工艺的进步，对掩模版的对称性要求也越来越高。在光刻过程中，掩模版的对称性可以减少由于光学效应引起的不均匀放大或缩小。同时，确保掩模版的对称性有助于控制制造公差，减少由于掩模版缺陷导致的图形偏差。此外，对称性要求还可以帮助光学系统更好地补偿光学畸变，如像差和不均匀照明。对称的图形能更均匀地被光学系统处理，减少成像误差。因此，掩模版的对称性要求有助于掩模版在光刻过程中保持图形的一致性，避免由于不对称造成的图形失真或不均匀性，从而提高了半导体器件的质量和性能。

2、同时，掩模版的制造中，通常首先形成掩模版的版图。然后，通过光学邻近效应修正（optical proximity correction，opc）等修正技术对掩模版的版图进行修正，以校正光刻图形的失真。然后基于修正后的掩模版图，进行掩模版的制造。

3、因此，对于修正后的掩模版图的对称性的评价在半导体制造中至关重要。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够准确有效评价修正后的掩模版图的对称性的评价方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品。

2、一种掩模版图对称性的评价方法，包括：

3、获取修正版图，所述修正版图由对初始版图进行修正得到，所述初始版图包括目标图形，所述目标图形具有对称性，所述修正版图包括主图形以及亚分辨率辅助图形；

4、由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域，所述对称参考区域中框选有主图形与亚分辨率辅助图形；

5、将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图；

6、对比所述检测版图与所述修正版图，以确定所述修正版图的对称性。

7、在其中一个实施例中，对比所述检测版图与所述修正版图，以确定所述修正版图的对称性，包括：

8、将所述检测版图中的图形与所述修正版图中的图形进行布尔异或操作，以得到结果图；

9、计算所述结果图中的图形的面积，以确定所述修正版图的对称性。

10、在其中一个实施例中，所述获取修正版图之前，还包括：

11、获取所述初始版图；

12、对所述初始版图中的所述目标图形的对称性进行检测。

13、在其中一个实施例中，所述目标图形具有轴对称性，且关于第一对称轴对称，

14、所述将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图，包括：

15、将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形沿所述第一对称轴进行翻转，以形成检测版图。

16、在其中一个实施例中，所述第一对称轴为以所述目标图形的中心为原点的第一方向坐标轴和/或第二方向坐标轴，所述第一方向垂直于所述第二方向。

17、在其中一个实施例中，所述目标图形具有轴对称性，且关于第二对称轴对称，所述第二对称轴与第一方向坐标轴之间的角度为预设角度，所述第一方向坐标轴以所述目标图形的中心为原点，

18、所述将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图，包括：

19、将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，沿第一时针方向进行预设角度的旋转，以使得旋转后的所述第二对称轴与所述第一方向坐标轴重合；

20、将被所述对称参考区域框选的旋转后的图形，沿所述第一方向坐标轴进行翻转；

21、将被所述对称参考区域框选的翻转后的图形，沿第二时针方向进行预设角度的旋转，以形成检测版图，所述第一时针方向与所述第二时针方向中的其中一者为顺时针方向，另一者为逆时针方向。

22、在其中一个实施例中，所述目标图形具有中心对称性，所述修正版图包括至少两列所述主图形，且至少两列所述主图形包括交替排布的第一主图形列与第二主图形列，所述第一主图形列与所述第二主图形列的相邻主图形之间具有共用亚分辨率辅助图形；

23、所述由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域之前，还包括：

24、基于所述修正版图的所述第一主图形列以及亚分辨率辅助图形，形成所述修正版图的第一提取图。

25、在其中一个实施例中，所述初始版图包括第一目标图形列以及第二目标图形列，所述第一目标图形列与所述第一主图形列对应，所述第二目标图形列与所述第二主图形列对应，

26、所述基于所述修正版图的所述第一主图形列以及亚分辨率辅助图形，形成所述修正版图的第一提取图，包括：

27、基于初始版图中的第二目标图形列，构建第一辅助版图；

28、将所述修正版图中，与所述第一辅助版图中的图形有相互作用的图形选中并且删除，以形成所述第一提取图。

29、在其中一个实施例中，所述对称参考区域包括第一参考区域，

30、所述由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域，包括：

31、基于所述第一提取图，构建所述第一参考区域。

32、在其中一个实施例中，所述检测版图包括第一子图，

33、所述将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图，包括：

34、将第一提取图中的被所述第一参考区域框选的图形，进行180度旋转，以形成所述第一子图。

35、在其中一个实施例中，所述对比所述检测版图与所述修正版图，以确定所述修正版图的对称性，包括：

36、对比所述第一子图与所述第一提取图，以确定所述第一提取图的对称性。

37、在其中一个实施例中，所述由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域之前，还包括：

38、基于所述修正版图的所述第二主图形列以及亚分辨率辅助图形，形成所述修正版图的第二提取图；

39、所述由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域，还包括：

40、将所述第一参考区域移动至所述第二主图形列的去除区域，以形成第二参考区域，其中，所述第一参考区域在第一方向和第二方向的偏移量分别为所述初始版图中的目标图形在第一方向和第二方向的周期尺寸。

41、在其中一个实施例中，所述检测版图包括第二子图，将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图，包括：

42、将第二提取图中的被所述第二参考区域框选的图形，进行180度旋转，以形成所述第二子图。

43、在其中一个实施例中，所述对比所述检测版图与所述修正版图，以确定所述修正版图的对称性，包括：

44、对比所述第二子图与所述第二提取图，以确定所述第二提取图的对称性。

45、一种掩模版图对称性的评价装置，所述装置包括：

46、获取模块，用于获取修正版图，所述修正版图由对初始版图进行修正得到，所述初始版图包括目标图形，所述目标图形具有对称性，所述修正版图包括主图形以及亚分辨率辅助图形；

47、区域构建模块，用于由所述目标图形的中心出发，基于所述修正版图，构建对称参考区域，所述对称参考区域中框选有主图形与亚分辨率辅助图形；

48、对称性检测模块，用于将修正版图中的被所述对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图；

49、评价模块，用于对比所述检测版图与所述修正版图，以确定所述修正版图的对称性。

50、一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述的方法的步骤。

51、一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述的方法的步骤。

52、一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述的方法的步骤。

53、上述掩模版图对称性的评价方法、装置、计算机设备、计算机可读存储介质和计算机程序产品，在初始版图的目标图形具有对称性的情况下，由目标图形的中心出发，基于修正版图，构建对称参考区域，从而可以对称参考区域作为最小对称性检测单元。然后，将修正版图中的被对称参考区域框选的图形，进行对称性地翻转或旋转，以形成检测版图，并对比检测版图与修正版图。因此，可以基于检测版图与修正版图的对比结果，对每个最小对称性检测单元，均进行有效的对称性检测。

54、本技术从目标图形自身对称性出发，建立修正版图的对称性评价方法，从最小对称性检测单元出发，构建用于对称性评价的检测版图，从而可以准确有效地对修正后的掩膜版图的对称性进行检测。并且，在生成检测版图的过程中，构建对称参考区域，一方面可以确定最小检测单元，另一方面便于基于对称参考区域的中心，快速实现翻转或旋转等几何操作，从而可以有效提高检测效率。