显示面板蚀刻装置的制作方法

本技术涉及显示面板生产，尤其涉及一种显示面板蚀刻装置。

背景技术：

1、蚀刻为显示面板制造过程中的一道重要工序，其主要利用蚀刻设备向显示面板喷淋蚀刻药液，以去除显示面板上未被光刻胶覆盖的铜膜层，进而形成图形线路。如图1所示，现有的显示面板蚀刻装置包括蚀刻腔室1′，蚀刻腔室1′的底部通过第一连接管2′与缓冲室3′连接，缓冲室3′通过第二连接管4′与蚀刻腔室1′连接，第二连接管4′上设置有泵体5′，泵体5′驱动，能够通过第二连接管4′将蚀刻腔室1′流动至缓冲室3′内的蚀刻药液回送至蚀刻腔室1′继续使用。

2、现有技术存在以下不足：随着蚀刻过程的进行，溶铜量不断增加，蚀刻药液中铜离子含量逐渐增大，蚀刻速度逐渐下降，影响显示面板的蚀刻效率；以及当蚀刻药液中铜离子接近其最大容量时，蚀刻药液已不能满足蚀刻工序要求，此时蚀刻液成为废液而被排放，造成资源浪费，且污染环境。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提出一种显示面板蚀刻装置，其电解组件能够有效降低蚀刻药液中铜离子含量，保证蚀刻药液回收利用的蚀刻效率。

2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

3、提供的一种显示面板蚀刻装置，包括蚀刻腔室、电解组件、第一连接管、第二连接管和泵体，所述电解组件包括反应壳体、阳极件、阴极件、电源和盐桥，所述反应壳体内间隔设置有阳极室和阴极室，所述蚀刻腔室通过所述第一连接管与所述阴极室连通，所述阴极室通过所述第二连接管与所述蚀刻腔室连通，所述第二连接管上设置有所述泵体，所述阳极件设置于所述阳极室内，所述阳极室内设置有原料液，所述阴极件设置于所述阴极室内，所述阳极件与所述电源的正极连接，所述阴极件与所述电源的负极连接，所述盐桥的一端与所述原料液接触，所述盐桥的另一端与所述阴极室内的蚀刻药液接触，所述电源通电能够使所述阴极室内的所述蚀刻药液析出铜结晶至所述阴极件上。

4、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述电解组件还包括第一驱动件和刮刀，所述第一驱动件设置于所述阴极室，所述第一驱动件与所述刮刀传动连接，使所述刮刀能够剐蹭所述阴极件上的所述铜结晶。

5、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述反应壳体包括沿第一方向排列设置的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体内设置有所述阳极室，所述第二壳体内设置有所述阴极室，所述第二壳体和所述阴极件均为圆管状结构，所述第二壳体的长度沿第二方向延伸，所述阴极件嵌设于所述第二壳体的内侧壁上，所述第一驱动件包括电机和旋转轴，所述电机位于所述第二壳体的外部并设置于所述第二壳体沿所述第二方向的一侧，所述旋转轴与所述第二壳体转动连接（旋转轴与第二壳体需保证连接处密封，减少漏液），且所述旋转轴的转动轴线沿所述第二方向延伸，部分所述旋转轴延伸至所述阴极室内，所述旋转轴位于所述阴极室的部分间隔设置有多个所述刮刀，所述刮刀的长度沿所述第二方向延伸，所述电机与所述旋转轴传动连接，以带动所述刮刀能够剐蹭所述阴极件的内侧壁，所述第一方向与所述第二方向垂直设置。

6、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述反应壳体还包括封盖，所述第一壳体的顶部开设有与所述阳极室相通的安装口，所述封盖用于封堵所述安装口，所述封盖与所述安装口可拆卸连接，所述阳极件可拆卸设置于所述封盖朝向所述阳极室的一侧。

7、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述电解组件还包括排污管、第一支管、第二支管和第一三通阀，所述第一支管连接于所述第一壳体的底部并与所述阳极室连通，所述第二支管连接于所述第二壳体的底部并与所述阴极室相通，所述排污管通过所述第一三通阀分别与所述第一支管远离所述第一壳体的一端、所述第二支管远离所述第二壳体的一端连接。

8、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述第二壳体的长度与所述阴极件的长度一致，所述阴极件的内侧壁凹陷设置有避让槽，且所述避让槽位于所述阴极件沿竖直方向的底部，所述避让槽的长度沿所述第二方向延伸，所述避让槽的槽底开设有与所述第二支管相通的连通口，所述竖直方向分别与所述第一方向、所述第二方向垂直设置。

9、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述避让槽的槽底至少部分倾斜设置，所述避让槽的倾斜槽底由远离所述连通口的一端朝向邻近所述连通口的一端且向下倾斜设置；和/或，

10、所述阳极室的底部腔壁至少部分倾斜设置，所述阳极室的倾斜底部腔壁由远离所述第一支管的一端朝向邻近所述第一支管的一端且向下倾斜设置。

11、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述显示面板蚀刻装置还包括第一回收罐、第三连接管和第一阀体，所述第一回收罐设置于所述蚀刻腔室与所述反应壳体之间，所述蚀刻腔室通过所述第一连接管与所述第一回收罐连通，所述第一回收罐通过所述第三连接管与所述阴极室连通，所述第三连接管上设置有所述第一阀体。

12、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述显示面板蚀刻装置还包括第二回收罐、第四连接管和第二阀体，所述第二回收罐设置于所述反应壳体与所述蚀刻腔室之间，所述阴极室通过所述第四连接管与所述第二回收罐连通，所述第四连接管上设置有所述第二阀体，所述第二回收罐通过所述第二连接管与所述蚀刻腔室连通。

13、作为显示面板蚀刻装置的一种优选方案，所述显示面板蚀刻装置还包括检测件，所述第一回收罐内设置有所述检测件，所述检测件用于检测所述第一回收罐内所述蚀刻药液的铜离子浓度；和/或，

14、所述第二回收罐内设置有所述检测件，所述检测件用于检测所述第二回收罐内所述蚀刻药液的铜离子浓度。

15、本实用新型相比于现有技术的有益效果：

16、本实用新型的显示面板蚀刻装置，通过电解组件的设置，使阴极室内蚀刻药液中的铜离子能够获得电子以在阴极件上析出铜结晶，有效回收金属，同时有效降低蚀刻药液中的铜离子含量，使酸性的蚀刻药液得以再生循环使用，保持较高的蚀刻速度，减少因铜离子浓度过高导致蚀刻药液的蚀刻速度下降的情况，以及能够减少废液的排放，具有良好的生产效益、经济效益和环保效益。

1.一种显示面板蚀刻装置，其特征在于，包括蚀刻腔室、电解组件、第一连接管、第二连接管和泵体，所述电解组件包括反应壳体、阳极件、阴极件、电源和盐桥，所述反应壳体内间隔设置有阳极室和阴极室，所述蚀刻腔室通过所述第一连接管与所述阴极室连通，所述阴极室通过所述第二连接管与所述蚀刻腔室连通，所述第二连接管上设置有所述泵体，所述阳极件设置于所述阳极室内，所述阳极室内设置有原料液，所述阴极件设置于所述阴极室内，所述阳极件与所述电源的正极连接，所述阴极件与所述电源的负极连接，所述盐桥的一端与所述原料液接触，所述盐桥的另一端与所述阴极室内的蚀刻药液接触，所述电源通电能够使所述阴极室内的所述蚀刻药液析出铜结晶至所述阴极件上。

2.根据权利要求1所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述电解组件还包括第一驱动件和刮刀，所述第一驱动件设置于所述阴极室，所述第一驱动件与所述刮刀传动连接，使所述刮刀能够剐蹭所述阴极件上的所述铜结晶。

3.根据权利要求2所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述反应壳体包括沿第一方向排列设置的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体内设置有所述阳极室，所述第二壳体内设置有所述阴极室，所述第二壳体和所述阴极件均为圆管状结构，所述第二壳体的长度沿第二方向延伸，所述阴极件嵌设于所述第二壳体的内侧壁上，所述第一驱动件包括电机和旋转轴，所述电机位于所述第二壳体的外部并设置于所述第二壳体沿所述第二方向的一侧，所述旋转轴与所述第二壳体转动连接，且所述旋转轴的转动轴线沿所述第二方向延伸，部分所述旋转轴延伸至所述阴极室内，所述旋转轴位于所述阴极室的部分间隔设置有多个所述刮刀，所述刮刀的长度沿所述第二方向延伸，所述电机与所述旋转轴传动连接，以带动所述刮刀能够剐蹭所述阴极件的内侧壁，所述第一方向与所述第二方向垂直设置。

4.根据权利要求3所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述反应壳体还包括封盖，所述第一壳体的顶部开设有与所述阳极室相通的安装口，所述封盖用于封堵所述安装口，所述封盖与所述安装口可拆卸连接，所述阳极件可拆卸设置于所述封盖朝向所述阳极室的一侧。

5.根据权利要求3所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述电解组件还包括排污管、第一支管、第二支管和第一三通阀，所述第一支管连接于所述第一壳体的底部并与所述阳极室连通，所述第二支管连接于所述第二壳体的底部并与所述阴极室相通，所述排污管通过所述第一三通阀分别与所述第一支管远离所述第一壳体的一端、所述第二支管远离所述第二壳体的一端连接。

6.根据权利要求5所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述第二壳体的长度与所述阴极件的长度一致，所述阴极件的内侧壁凹陷设置有避让槽，且所述避让槽位于所述阴极件沿竖直方向的底部，所述避让槽的长度沿所述第二方向延伸，所述避让槽的槽底开设有与所述第二支管相通的连通口，所述竖直方向分别与所述第一方向、所述第二方向垂直设置。

7.根据权利要求6所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，所述避让槽的槽底至少部分倾斜设置，所述避让槽的倾斜槽底由远离所述连通口的一端朝向邻近所述连通口的一端且向下倾斜设置；和/或，

8.根据权利要求1至5任一项所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，还包括第一回收罐、第三连接管和第一阀体，所述第一回收罐设置于所述蚀刻腔室与所述反应壳体之间，所述蚀刻腔室通过所述第一连接管与所述第一回收罐连通，所述第一回收罐通过所述第三连接管与所述阴极室连通，所述第三连接管上设置有所述第一阀体。

9.根据权利要求8所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，还包括第二回收罐、第四连接管和第二阀体，所述第二回收罐设置于所述反应壳体与所述蚀刻腔室之间，所述阴极室通过所述第四连接管与所述第二回收罐连通，所述第四连接管上设置有所述第二阀体，所述第二回收罐通过所述第二连接管与所述蚀刻腔室连通。

10.根据权利要求9所述的显示面板蚀刻装置，其特征在于，还包括检测件，所述第一回收罐内设置有所述检测件，所述检测件用于检测所述第一回收罐内所述蚀刻药液的铜离子浓度；和/或，