用于缺陷检验的动态傅里叶滤波器的制作方法

本公开内容涉及缺陷检验，并且具体地涉及用于缺陷检验的动态傅里叶滤波器。

背景技术：

1、通过使用制造装备执行一个或多个制造工艺来生产产品。检验这些产品以检查在制造工艺期间出现的任何缺陷。例如，可在基板制造工艺期间检验基板以检查可能影响基板性能的任何缺陷。

技术实现思路

1、以下是本公开内容的简化概述，以便提供对本公开内容的一些方面的基本理解。本 技术实现要素： 不是本公开内容的广泛概述。它既不意图标识本公开内容的关键或重要元素，也不意图描绘本公开内容的特定实现方式的任何范围或权利要求的任何范围。它唯一目的是以简化形式呈现本公开内容的一些概念，作为稍后呈现的更详细的描述的序言。

2、在本公开内容的一方面，一种方法包括识别与经由基板处理系统处理的第一基板表面相关联的第一图案数据。该方法进一步包括基于第一图案数据来致使定位于光学系统的光瞳平面处的光学调制器的各种部分的第一子集处于第一配置。第一配置将从第一基板表面反射的光的第一部分提供到图像检测器。该方法还包括基于第一图案数据来致使光学调制器的各种部分的第二子集处于第二配置。第二配置防止从第一基板表面反射的光的第二部分接触图像检测器。该方法进一步包括基于光的通过第一子集提供的第一部分来执行与基板处理系统相关联的校正动作。

3、在本公开内容的另一方面，一种存储指令的非暂态机器可读存储介质，这些指令在被执行时致使处理装置执行操作，这些操作包括识别与经由基板处理系统处理的第一基板表面相关联的第一图案数据。这些操作进一步包括基于第一图案数据来致使定位于光学系统的光瞳平面处的光学调制器的各种部分的第一子集处于第一配置。第一配置将从第一基板表面反射的光的第一部分提供到图像检测器。这些操作还包括基于第一图案数据来致使光学调制器的各种部分的第二子集处于第二配置。第二配置防止从第一基板表面反射的光的第二部分接触图像检测器。这些操作进一步包括基于光的通过第一子集提供的第一部分来执行与基板处理系统相关联的校正动作。

4、在本公开内容的另一方面，一种系统包括：存储器；以及处理装置，该处理装置耦接到存储器。该处理装置用于识别与经由基板处理系统处理的第一基板表面相关联的第一图案数据。该处理装置进一步用于基于第一图案数据来致使定位在光学系统的光瞳平面处的光学调制器的各种部分的第一子集处于第一配置。第一配置将从第一基板表面反射的光的第一部分提供到图像检测器。该处理装置进一步用于基于第一图案数据来致使光学调制器的各种部分的第二子集处于第二配置。第二配置防止从第一基板表面反射的光的第二部分接触图像检测器。该处理装置进一步用于基于光的通过第一子集提供的第一部分来执行与基板处理系统相关联的校正动作。

1.一种方法，包括：

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

3.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

4.如权利要求3所述的方法，其中在所述第一子集处于所述第一配置并且所述第二子集处于所述第二配置的约0.5毫秒(ms)至约100ms内，所述第三子集处于所述第一配置并且所述第四子集处于所述第二配置。

5.如权利要求1所述的方法，其中：

6.如权利要求1所述的方法，其中：

7.如权利要求1所述的方法，其中对所述第一图案数据的所述识别包括：

8.如权利要求7所述的方法，其中光的所述第一部分对应于所述第一基板表面的缺陷，并且光的所述第二部分对应于所述第一基板表面的实质上无缺陷部分。

9.如权利要求1所述的方法，进一步包括：

10.如权利要求1所述的方法，其中对所述第一图案数据的所述识别包括：

11.一种存储指令的非暂态机器可读存储介质，所述指令在被执行时致使处理装置执行操作，所述操作包括：

12.如权利要求11所述的非暂态机器可读存储介质，所述操作进一步包括：

13.如权利要求11所述的非暂态机器可读存储介质，所述操作进一步包括：

14.如权利要求11所述的非暂态机器可读存储介质，其中：

15.如权利要求11所述的非暂态机器可读存储介质，其中：

16.一种系统，包括：

17.如权利要求16所述的系统，其中所述处理装置进一步用于：

18.如权利要求16所述的系统，其中所述处理装置进一步用于：

19.如权利要求16所述的系统，其中：

20.如权利要求16所述的系统，其中：