不粘层、锅具及其制备方法、烹饪器具与流程

摘要: 本发明涉及烹饪锅具,特别涉及一种不粘层、锅具及其制备方法、烹饪器具。背景技术:1、目前市面上的不粘锅具是基于涂层的微观结构和聚合物的低表面能来实现不粘功能,主要...
不粘层、锅具及其制备方法、烹饪器具与流程

本发明涉及烹饪锅具,特别涉及一种不粘层、锅具及其制备方法、烹饪器具。

背景技术:

1、目前市面上的不粘锅具是基于涂层的微观结构和聚合物的低表面能来实现不粘功能,主要通过含氟聚合物和硅烷类物质来实现,然而,含氟涂层易造成环境污染,硅烷类低表面能物质在使用过程中易发生水解导致不粘性能下降较快,从而严重影响用户的使用体验。

技术实现思路

1、本发明的主要目的是开发一种不粘层在锅具基体的附着性和不粘层的疏水性能的持久性更好的锅具。

2、为实现上述目的,本发明提出了一种不粘层,所述不粘层包括ceo2颗粒和粘接相,所述ceo2颗粒分散于所述粘接相中;所述粘接相的熔点低于所述ceo2颗粒,且所述粘接相的含量不超过所述ceo2颗粒的含量;其中,所述粘接相包括第一粘接材料,所述第一粘接材料和所述ceo2颗粒的熔点之差为600℃~800℃;所述不粘层中的ceo2颗粒的含量不超过80wt%。

3、在一实施方式中,所述粘接相还包括第二粘接材料,所述第二粘接材料的熔点介于所述第一粘接材料和所述ceo2颗粒之间;其中,所述第二粘接材料的熔点和所述第一粘接材料的熔点之差为150℃~250℃。

4、在一实施方式中,所述ceo2颗粒的表面连接有所述第一粘接材料和所述第二粘接材料。

5、在一实施方式中,分散于所述不粘层表面的ceo2颗粒凸出于所述不粘层表面;且所述不粘层表面的ceo2颗粒凸出的表面积之和高于所述粘接相露出的面积。

6、在一实施方式中,所述ceo2颗粒凸出的表面积之和占所述不粘层表面积的60%~80%。

7、在一实施方式中,所述不粘层中,靠近所述不粘层表面一侧的粘接相的含量高于远离所述不粘层表面的一侧的粘接相的含量。

8、在一实施方式中,所述第一粘接材料包括金属单质,所述第二粘接材料包括所述金属单质同源的金属氧化物;且所述金属单质的质量分数低于所述金属氧化物的质量分数。

9、在一实施方式中,所述金属单质和所述金属氧化物的质量分数之差为1wt%~15wt%。

10、在一实施方式中,所述不粘层包括质量分数为3wt%~30wt%的所述金属单质和10wt%~30wt%的所述金属氧化物,以及余量的所述ceo2颗粒。

11、在一实施方式中,所述金属氧化物为氧化钛,所述金属单质为钛。

12、在一实施方式中,所述不粘层的表面粗糙度sa为4μm~10μm。

13、在一实施方式中,所述不粘层的厚度为30μm~200μm。

14、在一实施方式中,所述不粘层的孔隙率为2%~10%。

15、本发明还提出了一种锅具,所述锅具包括锅具基体和所述不粘层;所述锅具基体的内表面设有凹凸结构,所述不粘层设于所述凹凸结构的表面;所述凹凸结构中的凸起的总投影面积占所述锅具基体的内表面积的比值为0.1~0.3。

16、在一实施方式中,所述凹凸结构中的相邻凸起的间距不超过0.4mm。

17、在一实施方式中,所述凹凸结构中的凸起的高度为10μm~40μm。

18、在一实施方式中,所述凹凸结构中的凸起的直径不超过150μm。

19、在一实施方式中,所述锅具基体的材质选自铁、不锈钢、铝、碳钢、铜和钛的至少一种。

20、在一实施方式中,所述锅具基体为单一材质的层状材料,或者,所述锅具基体为不同材质的层状材料复合得到的层状材料。

21、本发明还提出了所述锅具的制备方法包括以下步骤:

22、s1、将金属基材进行冲压得到锅具基体,并在所述锅具基体的内表面形成凹凸结构;

23、s2、将用于制备不粘层的原料进行制粉处理,制得粉料;将所述粉料喷涂至所述锅具基体的内表面,退火,形成不粘层,完成所述锅具的制备。

24、在一实施方式中,所述步骤s2中,所述喷涂的方法为等离子喷涂,所述等离子喷涂的功率为30kw~50kw,主气流量为30l/min~60l/min,辅助气流量为5l/min~30l/min,送粉量为15g/min~20g/min。

25、本发明还提出了一种烹饪器具,包括所述锅具,所述烹饪器具选自炒锅、煎锅、炖锅、奶锅、电饭煲、高压锅中的至少一种。

26、本发明中的技术方案通过采用特定稀土氧化物和特定金属和对应的金属氧化物复配制得的不粘层并将其涂覆于具有特定凹凸结构的锅体内表面,一方面锅具与不粘层具有较高的附着力,且凹凸结构对不粘层具有一定的保护作用,在日常使用过程中不粘层不易受损脱落;另一方面稀土材料制得的不粘层具有高致密性和耐磨性,结合精细的表面粗糙度控制使其具有更持久的防粘性能。

1.一种不粘层,其特征在于,所述不粘层包括ceo2颗粒和粘接相,所述ceo2颗粒分散于所述粘接相中;

2.如权利要求1所述的不粘层,其特征在于,所述粘接相还包括第二粘接材料,所述第二粘接材料的熔点介于所述第一粘接材料和所述ceo2颗粒之间;

3.如权利要求2所述的不粘层,其特征在于,所述ceo2颗粒的表面连接有所述第一粘接材料和所述第二粘接材料。

4.如权利要求1所述的不粘层,其特征在于,分散于所述不粘层表面的ceo2颗粒凸出于所述不粘层表面;

5.如权利要求4所述的不粘层,其特征在于,所述ceo2颗粒凸出的表面积之和占所述不粘层表面积的60%~80%。

6.如权利要求1所述的不粘层,其特征在于,所述不粘层中,靠近所述不粘层表面一侧的粘接相的含量高于远离所述不粘层表面的一侧的粘接相的含量。

7.如权利要求2所述的不粘层,其特征在于,所述第一粘接材料包括金属单质,所述第二粘接材料包括所述金属单质同源的金属氧化物;

8.如权利要求7所述的不粘层,其特征在于,所述不粘层中,所述金属单质和所述金属氧化物的质量分数之差为1wt%~15wt%。

9.如权利要求7所述的不粘层,其特征在于,所述不粘层包括质量分数为3wt%~30wt%的所述金属单质和10wt%~30wt%的所述金属氧化物,以及余量的所述ceo2颗粒。

10.如权利要求7所述的不粘层,其特征在于,所述金属氧化物为氧化钛,所述金属单质为钛。

11.如权利要求1所述的不粘层,其特征在于,所述不粘层的表面粗糙度sa为4μm~10μm。

12.如权利要求1所述的不粘层,其特征在于,所述不粘层的厚度为30μm~200μm;

13.一种锅具,其特征在于,所述锅具包括锅具基体和权利要求1至12中任一项所述的不粘层;

14.如权利要求13所述的锅具,其特征在于,所述凹凸结构中的相邻凸起的间距不超过0.4mm。

15.如权利要求13所述的锅具,其特征在于,所述凹凸结构中的凸起的高度为10μm~40μm。

16.如权利要求13所述的锅具,其特征在于,所述凹凸结构中的凸起的直径不超过150μm。

17.如权利要求13所述的锅具,其特征在于,所述锅具基体的材质选自铁、不锈钢、铝、碳钢、铜和钛的至少一种;

18.一种权利要求13至17中任一项所述的锅具的制备方法,其特征在于,所述锅具的制备方法包括以下步骤:

19.如权利要求18所述的锅具的制备方法,其特征在于,所述步骤s2中,所述喷涂的方法为等离子喷涂,所述等离子喷涂的功率为30kw~50kw,主气流量为30l/min~60l/min,辅助气流量为5l/min~30l/min,送粉量为15g/min~20g/min。

20.一种烹饪器具,其特征在于,包括:权利要求14至17任一项所述的锅具,所述烹饪器具选自炒锅、煎锅、炖锅、奶锅、电饭煲、高压锅中的至少一种。