清洁系统的制作方法

本技术涉及清洁产品，具体涉及一种清洁系统。

背景技术：

1、现有的基站普遍存在设备兼容性单一的问题。也即，现有的基站一般专用于匹配一个或者同一类型的多个清洁设备使用。具体当基站配置为可对清洁设备的清洁件执行自清洁操作时，会存在例如下述的诸多弊端：

2、其一，当基站仅服务于单一的清洁设备时，其硬件资源(如清洁液存储、过滤系统、能源供给等)无法被其他清洁设备所共享，这会导致整体使用效率降低。尤其当家庭配置有多清洁设备协同的场景中，这种独占模式会造成资源浪费。

3、其二，基站对清洁设备的清洁件所执行的每次自清洁功能，都会导致基站的内部组件(如滤网、刷头、消毒模块等)产生一定的消耗。尤其当家庭配置有多清洁设备协同的场景中，用户需要频繁更换不同基站的内部组件，既为用户的使用带来不便，又会导致基站的维修或更换成本显著提高。

4、其三，当用户需要更换新型号的清洁设备时，原基站可能无法适配，导致用户被迫更换整套系统。原有的基站即沦为闲置资产，造成硬件资源重复投入。

5、其四，多设备家庭需为不同清洁功能配置多个基站，不仅占用空间，还需分别管理不同基站的维护流程，操作复杂度显著提升。

技术实现思路

1、本实用新型的主要目的是提出一种清洁系统，旨在解决现有的基站专用于一类清洁设备，导致用户的维护成本增加且操作复杂的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提出的一种清洁系统，包括基站以及与所述基站配套使用的至少两个清洁设备，各所述清洁设备所应用的功能场景不同；

3、每一所述清洁设备包括清洁件，所述清洁件用以在运行时对待清洁表面进行清洁；

4、所述基站包括清洗模组，所述清洗模组包括清洗仓和清洗机构，同一所述清洗模组的所述清洗仓和/或所述清洗机构可与任意的所述清洁件配接，以供所述清洗机构适配清洗对应的所述清洁件。

5、可选地，所述清洗模组的至少部分构件可活动设置，以在其活动过程中，对不同的所述清洁件进行适配清洗。

6、可选地，至少一所述清洁设备的所述清洁件可活动设置，以在其活动过程中适配所述清洗模组，并被所述清洗模组所清洗。

7、可选地，所述清洗机构相对所述清洗仓可活动设置；

8、任意的所述清洁件被带动进入所述清洗仓内后，所述清洗机构可活动至与所述清洁件关联的预设位置处，并对所述清洁件进行清洗。

9、可选地，所述清洗仓设有对接结构；

10、每一所述清洁件设有连接结构，所述连接结构和所述对接结构中的至少一个相对另一个可活动设置，以在活动过程中，所述对接结构可与任意的所述连接结构进行适配连接。

11、可选地，所述清洗仓设有对接结构；

12、每一所述清洁件设有连接结构，且各所述连接结构和所述对接结构的至少局部结构保持相同，以使得各所述清洁件和所述清洗模组可在所述相同结构处进行适配连接。

13、可选地，每一所述清洁件包括至少两个清洁单体，每一所述清洁单体绕自身轴线可旋转设置，各所述清洁单体的旋转轴线平行或者接近平行，各所述清洁单体在其旋转轴线处设有连接结构，两个所述连接结构之间形成第一中心距；

14、各所述清洁件的所述第一中心距保持相同或者接近相同。

15、可选地，所述清洗仓内一一对应各所述连接结构处设有至少两个对接结构，两个所述对接结构之间形成第二中心距；

16、其中，所述第二中心距与所述第一中心距保持相同或者接近相同。

17、可选地，所述连接结构和所述对接结构其中之一为插接凹部，其中另一为插接凸起，在任意的所述清洁件被带动进入所述清洗仓后，联动所述插接凸起与所述插接凹部插接到位；

18、所述清洁单体和/或所述清洗机构相对所述清洗仓可活动设置，以在所述清洁单体和所述清洗机构之间产生相对运动，且在所述相对运动过程中，所述清洗机构可对所述清洁单体进行清洗。

19、可选地，各所述清洁设备与所述基站之间进行通信连接；

20、各所述清洁设备之间两两进行通信连接。

21、可选地，各所述清洁设备包括擦窗机和扫地机。

22、本实用新型提供的技术方案中，同一基站可以和至少两种不同的清洁设备进行配套使用，构成整体清洁系统。这使得整个清洁系统在丰富更多种清洁功能的同时，尽量减少整个系统的空间占用。

23、基站只需设置同一清洗模组，便可实现对于各清洁设备中各清洁件的适配清洗。这有助于减少清洗模组的重复配置，降低硬件成本。还有助于促成各清洁设备中清洁件的标准化清洗流程，既无需依赖人工干预，又能够保证清洁效果的高质和统一。同一清洗模组所产生的污物会得到集中处理，有助于简化用户的维护操作，且提升用户的维护便捷性。

24、此外，基站主要在清洗模组处灵活适配不同的清洁设备。因此，各清洁设备仍然可以独立运行自身不同的清洁功能，基本不存在相互干扰。且基站对任意的清洁设备所执行的例如充电、排污等其他功能，仍然可以根据实需要来进行专用性设计。有助于从整体上提升整个清洁系统的使用可靠性。

1.一种清洁系统，其特征在于，包括基站以及与所述基站配套使用的至少两个清洁设备，各所述清洁设备所应用的功能场景不同；

2.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗模组的至少部分构件可活动设置，以在其活动过程中，对不同的所述清洁件进行适配清洗。

3.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，至少一所述清洁设备的所述清洁件可活动设置，以在其活动过程中适配所述清洗模组，并被所述清洗模组所清洗。

4.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗机构相对所述清洗仓可活动设置；

5.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗仓设有对接结构；

6.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗仓设有对接结构；

7.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，每一所述清洁件包括至少两个清洁单体，每一所述清洁单体绕自身轴线可旋转设置，各所述清洁单体的旋转轴线平行或者接近平行，各所述清洁单体在其旋转轴线处设有连接结构，两个所述连接结构之间形成第一中心距；

8.如权利要求7所述的清洁系统，其特征在于，所述清洗仓内一一对应各所述连接结构处设有至少两个对接结构，两个所述对接结构之间形成第二中心距；

9.如权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，所述连接结构和所述对接结构其中之一为插接凹部，其中另一为插接凸起，在任意的所述清洁件被带动进入所述清洗仓后，联动所述插接凸起与所述插接凹部插接到位；

10.如权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，各所述清洁设备与所述基站之间进行通信连接；

11.如权利要求1至10任一项所述的清洁系统，其特征在于，各所述清洁设备包括擦窗机和扫地机。