一种用于掩膜片的紫外光清洗设备的制作方法

本申请涉及半导体设备，尤其是涉及一种用于掩膜片的紫外光清洗设备。

背景技术：

1、掩膜片，或者说光掩模玻璃基板，在半导体领域中有着尤为重要的作用。随着对掩膜片的材料性质和加工精度要求越来越高，其制备的工艺要求也越来越严苛，对于掩膜片的加工过程中的清洗环节要求也越来越高。若石英掩膜片表面被大量污染物如颗粒、金属、有机物、湿气分子和氧化膜等遮盖，通过缩图透镜后的电路容易出现缺陷，导致晶圆光刻缺陷，会极大得降低光刻良率。

2、若仅采用水、清洗药剂等对掩膜片进行清洗，掩膜片表面的有机物及颗粒物难以被完全去除，掩膜片使用后仍会导致光刻良率降低的问题。

技术实现思路

1、为解决上述问题，本申请提供了一种用于掩膜片的紫外光清洗设备，该紫外光清洗设备能够利用紫外光对掩膜片进一步清洗，彻底去除掩膜片表面的有机物及颗粒物。

2、为实现上述目的，本申请采用的技术方案如下：

3、本申请实施例提供了一种用于掩膜片的紫外光清洗设备，其特征在于，该紫外光清洗设备包括机体、支撑装置、清洗装置、测温装置及控制装置；

4、机体包括承载平台及侧壁，机体内形成用于清洗掩膜片的清洗空间；支撑装置包括底座及多个夹持件，多个夹持件均匀地连接至底座，多个夹持件基本等高设置，多个夹持件形成用于固定掩膜片的夹持空间；清洗装置包括第一紫外组件及第二紫外组件，第一紫外组件包括第一紫外灯，第二紫外组件包括第二紫外灯，第一紫外灯位于夹持空间的一侧，第二紫外灯位于夹持空间的另一侧；测温装置包括测温探头，测温探头位于夹持空间的一侧，测温探头与夹持空间基本等高设置；控制装置电连接至第一紫外灯、第二紫外灯及测温装置。

5、进一步地，定义垂直于承载平台的方向为预设方向，第一紫外组件还包括用于驱动第一紫外灯沿预设方向移动的第一驱动器，第一紫外组件连接至第一驱动器，第二紫外组件还包括用于驱动第二紫外灯沿预设方向移动的第二驱动器，第二紫外组件连接至第二驱动器，第一驱动器和第二驱动器均电连接至控制装置。

6、进一步地，第一紫外组件还包括至少部分套设于第一驱动器外侧的第一限位件；第二紫外组件还包括至少部分套设于第二驱动器外侧的第二限位件。

7、进一步地，第一驱动器为气缸驱动器、液压驱动器或电动推杆中的一种，

8、第二驱动器为气缸驱动器、液压驱动器或电动推杆中的一种。

9、进一步地，第一驱动器穿过承载平台设置，第一驱动器的至少部分位于清洗空间之外；

10、第二驱动器穿过承载平台设置，第二驱动器的至少部分位于清洗空间之外。

11、进一步地，紫外光清洗设备还包括通风装置，通风装置包括通风管道及抽风器，抽风器连接至通风管道，抽风器电连接至控制装置，通风管道连通至清洗空间外。

12、进一步地，通风装置还包括阀门，阀门连接在通风管道与抽风机之间。

13、进一步地，测温装置还包括支撑件，支撑件连接至承载平台，测温探头连接至支撑件的端部。

14、进一步地，测温探头于夹持空间的距离范围为大于等于7mm至13mm。

15、进一步地，机体还包括顶盖，清洗空间为一密闭空间。

16、本申请中通过设置第一紫外组件和第二紫外组件对掩膜片的双面进行清洗，既能够提升清洗效果，同时还能够提升清洗效率。此外，还通过测温装置监测清洗过程中掩膜片的温度，并对掩膜片表面温度进行动态调控，避免因温度过大导致掩膜片表面微观结构变化，提升掩膜片表面清洗效果。

1.一种用于掩膜片的紫外光清洗设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

3.根据权利要求2所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

4.根据权利要求2所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

5.根据权利要求2所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

6.根据权利要求1所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

7.根据权利要求6所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

8.根据权利要求1所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

9.根据权利要求1所述的紫外光清洗设备，其特征在于：

10.根据权利要求1所述的紫外光清洗设备，其特征在于：