一种装片取片装置的制作方法

摘要: 本技术涉及半导体,特别是涉及一种装片取片装置。背景技术:1、磷化铟衬底在制造高频高功率器件、光纤通信、无线传输、射电天文学等射频器件领域存在应用市场。使用磷化铟...
一种装片取片装置的制作方法

本技术涉及半导体,特别是涉及一种装片取片装置。

背景技术:

1、磷化铟衬底在制造高频高功率器件、光纤通信、无线传输、射电天文学等射频器件领域存在应用市场。使用磷化铟衬底制造的射频器件已在卫星、雷达等应用场景中表现出优异的性能。

2、磷化铟衬底的生产制造过程中,磷化铟衬底需要在不同工序的多个设备中进行转移,以便于各个生产工序和检测工序的正常工作,但是目前用于抓取磷化铟衬底在不同工序设备间转移的装置大多为普通的吸盘结构,其难以稳定而可靠的吸取固定磷化铟衬底,这使得磷化铟衬底在不同工序之间的流转效率较慢,严重影响了磷化铟衬底的生产效率。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是:如何提高对磷化铟衬底的吸取稳定性进而提高磷化铟的转移效率,为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种装片取片装置,包括冶具、吸气组件以及进气组件;

2、所述冶具设置有容置槽,所述容置槽用于容置待抓取的磷化铟衬底;

3、所述吸气组件包括吸盘主体,所述吸盘主体设置于所述冶具的上方,所述吸盘主体与所述冶具之间形成有真空腔,以用于在磷化铟衬底上端面的上部形成真空负压环境;

4、所述进气组件包括导气板,所述导气板设置于所述吸盘主体与所述冶具之间,所述导气板沿垂直于其板面的方向贯穿设置有吸气孔;所述导气板内部设置有进气通道,所述进气通道包括进气端和多个出气端,所述进气端用于通入吹扫气体;所述出气端设置于所述导气板靠近所述冶具的一侧并位于所述容置槽内,所述导气板在所述出气端处设置有进气缺口,所述进气缺口朝向所述冶具中心的一侧设置有开口,所述进气缺口远离所述冶具中心的侧壁倾斜设置。

5、优选地,所述导气板的两侧分别设置有第一凹槽和第二凹槽,所述吸盘主体设置于所述第一凹槽内,所述第二凹槽的侧壁设置于所述容置槽内,所述第一凹槽的侧壁设置于所述容置槽外,所述进气端设置于所述第一凹槽侧壁的外侧,所述出气端设置于所述第二凹槽侧壁的内侧;所述第一凹槽侧壁设置有进气管,所述进气管与所述进气端连通设置。

6、优选地,所述进气通道包括依次连通第一进气通道、第二进气通道以及第三进气通道;

7、所述第一进气通道沿所述导气板的径向延伸设置,所述第一进气通道的一端贯穿所述导气板第一凹槽的侧壁,并与所述进气管连通;

8、所述第二进气通道绕所述导气板的中轴线环形设置于所述第一凹槽侧壁的顶部;

9、所述第三进气通道沿垂直于所述导气板板面的方向延伸设置,所述第三进气通道远离所述第二进气通道一端与所述进气缺口连通;

10、其中,所述出气端绕所述导气板的中轴线圆周均布有多个,所述进气缺口及所述第三进气通道对应于所述出气端设置有多个。

11、优选地,所述容置槽底面的边缘对应于所述进气缺口设置有引导面,所述引导面远离所述冶具中心的一侧向远离所述导气板的一侧倾斜设置。

12、优选地,所述引导面绕所述冶具的中轴线环形设置,所述引导面相对于所述容置槽底面的倾斜角度为45度。

13、优选地,所述吸气孔包括第一吸气孔和第二吸气孔,所述第一吸气孔设置于所述导气板的中部,所述第二吸气孔设置于所述导气板的靠近边缘位置的一侧。

14、优选地,所述第一吸气孔及所述第二吸气孔设置有多个,多个所述第一吸气孔绕所述导气板的中轴线圆周设置,多个所述第二吸气孔绕所述导气板的中轴线圆周设置。

15、优选地,所述导气板远离冶具的一端设置有依次设置有密封板和上盖,所述密封板设置于所述上盖与所述导气板之间,所述密封板用于密封所述第二进气通道。

16、优选地,所述吸盘主体远离冶具一端设置有真空吸管接头,所述真空吸管接头用于外接抽真空设备。

17、优选地,所述吸盘主体设置有手柄,所述手柄设置有螺纹接口,所述螺纹接口用于外接位移设备。

18、本实用新型实施例中所提供的一种装片取片装置相比于现有技术而言,其有益效果在于:

19、在本实用新型当中,同时采用了吸气组件和进气组件,其中吸气组件能够在衬底的上端面形成真空负压环境,从而吸取衬底,同时通过进气通道向位于容置槽内侧的进气缺口处充入气体,其中进气缺口处侧壁的倾斜设置能够对充入容置槽内的气体进行导向,使气体能够更为快速而稳定的被充入衬底的下方,更为全面的破坏衬底底面与冶具容置槽内底面之间的状态,更快的将衬底从容置槽内吹起,从而加快吸盘主体对衬底的吸取效率,并提高衬底吸取状态的稳定性,从而提高衬底抓取及转移的效率,进而提高磷化铟衬底的生产测试效率。

1.一种装片取片装置,用于抓取衬底,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的装片取片装置,其特征在于,所述导气板的两侧分别设置有第一凹槽和第二凹槽,所述吸盘主体设置于所述第一凹槽内,所述第二凹槽的侧壁设置于所述容置槽内,所述第一凹槽的侧壁设置于所述容置槽外,所述进气端设置于所述第一凹槽侧壁的外侧,所述出气端设置于所述第二凹槽侧壁的内侧;所述第一凹槽侧壁设置有进气管,所述进气管与所述进气端连通设置。

3.根据权利要求2所述的装片取片装置,其特征在于,所述进气通道包括依次连通第一进气通道、第二进气通道以及第三进气通道;

4.根据权利要求1所述的装片取片装置,其特征在于,所述容置槽底面的边缘对应于所述进气缺口设置有引导面,所述引导面远离所述冶具中心的一侧向远离所述导气板的一侧倾斜设置。

5.根据权利要求4所述的装片取片装置,其特征在于,所述引导面绕所述冶具的中轴线环形设置,所述引导面相对于所述容置槽底面的倾斜角度为45度。

6.根据权利要求1所述的装片取片装置,其特征在于,所述吸气孔包括第一吸气孔和第二吸气孔,所述第一吸气孔设置于所述导气板的中部,所述第二吸气孔设置于所述导气板的靠近边缘位置的一侧。

7.根据权利要求6所述的装片取片装置,其特征在于,所述第一吸气孔及所述第二吸气孔设置有多个,多个所述第一吸气孔绕所述导气板的中轴线圆周设置,多个所述第二吸气孔绕所述导气板的中轴线圆周设置。

8.根据权利要求3所述的装片取片装置,其特征在于,所述导气板远离冶具的一端设置有依次设置有密封板和上盖,所述密封板设置于所述上盖与所述导气板之间,所述密封板用于密封所述第二进气通道。

9.根据权利要求1所述的装片取片装置,其特征在于,所述吸盘主体远离冶具一端设置有真空吸管接头,所述真空吸管接头用于外接抽真空设备。

10.根据权利要求1所述的装片取片装置,其特征在于,所述吸盘主体设置有手柄,所述手柄设置有螺纹接口,所述螺纹接口用于外接位移设备。