对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法、设备及存储介质与流程

本发明属于半导体的，特别是涉及一种对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法、设备及存储介质。

背景技术：

1、干法刻蚀是半导体和显示面板制造中的图形转移工艺，其精度影响器件性能和产品良率。随着显示面板向g8.5及以上高世代、4k/8k高分辨率和柔性化方向发展，刻蚀特征尺寸减小至亚微米级，对工艺提出了更高的要求。

2、为缩短工艺开发周期，行业先后发展了基于物理模型和纯数据驱动等仿真技术，纯数据驱动仿真是指依据工艺参数与刻蚀效果构建神经网络，基于神经网络进行干法刻蚀的仿真。

3、但是，干法刻蚀是一个涉及超过上百个影响因素的复杂过程，其中小部分工艺参数可被精确测量和控制，其余大部分以上为不可直接测量的隐性因素，这些因素导致相同工艺参数下刻蚀效果差异明显，导致神经网络的泛化能力较差，仿真度较低。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明提供了一种对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法、设备及存储介质，用以提高仿真干法刻蚀的泛化性，从而提高干法刻蚀的仿真度。

2、本发明的第一方面提供了一种对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法，包括：

3、确定真实刻蚀案例与仿真刻蚀用例；所述真实刻蚀案例包括使用自动光学检测设备对干法刻蚀后的目标薄膜材料检测的第一目标全局图像数据与对目标薄膜材料进行干法刻蚀的原始工艺参数，所述仿真刻蚀用例包括描述对所述目标薄膜材料形貌改变的目标文本信息；

4、依据所述目标文本信息将所述原始工艺参数衍生为多组仿真工艺参数；

5、将所述第一目标全局图像数据与所述目标文本信息输入预置的第一生成对抗网络中重构为第二目标全局图像数据；

6、在所述第二目标全局图像数据中截取多个区域，得到目标局部图像数据；

7、将所述目标局部图像数据输入预置的第二生成对抗网络中进行放大，得到目标微观图像数据；

8、针对每组所述仿真工艺参数，依据所述仿真工艺参数、所述第二目标全局图像数据与所述目标微观图像数据生成置信度；

9、依据所述置信度选择所述仿真工艺参数、所述第二目标全局图像数据与所述目标微观图像数据生成所述目标薄膜材料的仿真刻蚀结果。

10、本发明的第二方面提供了一种对薄膜材料仿真干法刻蚀的装置，包括：

11、刻蚀数据确定模块，用于确定真实刻蚀案例与仿真刻蚀用例；所述真实刻蚀案例包括使用自动光学检测设备对干法刻蚀后的目标薄膜材料检测的第一目标全局图像数据与对目标薄膜材料进行干法刻蚀的原始工艺参数，所述仿真刻蚀用例包括描述对所述目标薄膜材料形貌改变的目标文本信息；

12、仿真工艺参数衍生模块，用于依据所述目标文本信息将所述原始工艺参数衍生为多组仿真工艺参数；

13、目标全局图像数据重构模块，用于将所述第一目标全局图像数据与所述目标文本信息输入预置的第一生成对抗网络中重构为第二目标全局图像数据；

14、目标局部图像数据截取模块，用于在所述第二目标全局图像数据中截取多个区域，得到目标局部图像数据；

15、目标微观图像数据放大模块，用于将所述目标局部图像数据输入预置的第二生成对抗网络中进行放大，得到目标微观图像数据；

16、置信度生成模块，用于针对每组所述仿真工艺参数，依据所述仿真工艺参数、所述第二目标全局图像数据与所述目标微观图像数据生成置信度；

17、仿真刻蚀结果生成模块，用于依据所述置信度选择所述仿真工艺参数、所述第二目标全局图像数据与所述目标微观图像数据生成所述目标薄膜材料的仿真刻蚀结果。

18、本发明的第三方面提供了一种电子设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如上述第一方面所述的对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法。

19、本发明的第四方面提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如上述第一方面所述的对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法。

20、本发明的第五方面提供了一种计算机程序产品，当所述计算机程序产品在计算机上运行时，使得所述计算机执行如上述第一方面所述的对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法。

21、与背景技术相比，本发明实施例具有以下有益效果：

22、在本实施例中，确定真实刻蚀案例与仿真刻蚀用例；真实刻蚀案例包括使用自动光学检测设备对干法刻蚀后的目标薄膜材料检测的第一目标全局图像数据与对目标薄膜材料进行干法刻蚀的原始工艺参数，仿真刻蚀用例包括描述对目标薄膜材料形貌改变的目标文本信息；依据目标文本信息将原始工艺参数衍生为多组仿真工艺参数；将第一目标全局图像数据与目标文本信息输入预置的第一生成对抗网络中重构为第二目标全局图像数据；在第二目标全局图像数据中截取多个区域，得到目标局部图像数据；将目标局部图像数据输入预置的第二生成对抗网络中进行放大，得到目标微观图像数据；针对每组仿真工艺参数，依据仿真工艺参数、第二目标全局图像数据与目标微观图像数据生成置信度；依据置信度选择仿真工艺参数、第二目标全局图像数据与目标微观图像数据生成目标薄膜材料的仿真刻蚀结果。本实施例在真实开发刻蚀的案例基础上演化薄膜材料在宏观、微观的形貌变化，依赖薄膜材料在宏观、微观的形貌变化与显性的工艺参数、隐性因素之间的关系评估可行性，有效提高仿真干法刻蚀的泛化性，从而提高干法刻蚀的仿真度，为解决干法刻蚀工艺的复杂建模和优化问题提供了新的途径。

1.一种对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述依据所述目标文本信息将所述原始工艺参数衍生为多组仿真工艺参数，包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第二目标全局图像数据中截取多个区域，得到目标局部图像数据，包括：

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述依据所述仿真工艺参数、所述第二目标全局图像数据与所述目标微观图像数据生成置信度，包括：

5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，在预置的训练集中包括使用自动光学检测设备对干法刻蚀后的样本薄膜材料检测的样本全局图像数据与对所述样本薄膜材料进行干法刻蚀的样本工艺参数，所述方法还包括：

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述依据所述样本文本信息、所述样本工艺参数、所述重组全局图像数据与所述标准全局图像数据计算在刻蚀速率上的第一约束损失值，包括：

7.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其特征在于，在预置的训练集中包括使用自动光学检测设备对干法刻蚀后的样本薄膜材料检测的样本全局图像数据，对所述样本薄膜材料进行干法刻蚀的样本工艺参数，以及，从所述样本全局图像数据中截取区域得到的样本局部图像数据，使用电子扫描电镜对所述样本全局图像数据中相同区域检测的样本微观图像数据；所述方法还包括：

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述依据所述样本局部图像数据、所述仿真微观图像数据与所述样本工艺参数计算在侧壁倾斜角上的第四约束损失值，包括：

9.一种电子设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1-8任一项所述的对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法。

10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1-8任一项所述的对薄膜材料仿真干法刻蚀的方法。