用于改善的前级管道清洁的部件、系统及方法与流程

背景技术：

1、领域

2、本公开案的实施方式大致上涉及半导体腔室部件的改善的前级管道清洁，并且更具体地，涉及半导体处理腔室的前级管道导管上的涂层以改善前级管道清洁。

3、相关技术描述

4、在半导体制造中，集成电路（ic）是通过在处理腔室内进行各种制造步骤（包括蚀刻、沉积、离子注入及退火）而在半导体基板上形成的。在某些制造步骤期间，处理气体及处理副产物会通过腔室前级管道从处理腔室中抽出并进入排气系统。腔室前级管道及其他下游设备中可能会形成非所欲的沉积物。这些非所欲的沉积物可能会导致排气系统性能下降及/或排气部件损坏。

5、为了降低前级管道内非所欲的沉积物的积聚，需要进行清洁循环，以溶解或分解前级管道及下游设备内的沉积物。传统上，清洁循环包括在前级管道内使用激发态清洁气体。然而，在前级管道内维持清洁气体的激发态十分困难。随着清洁气体的激发态的降低，清洁循环的有效性也会降低，导致前级管道及下游设备内沉积物的移除效率低下。

6、因此，需要改善前级管道的清洁。

技术实现思路

1、此处公开用于改善的前级管道及部件清洁的部件、系统及方法。在一个范例中，一种处理腔室部件包括具有圆形横截面形状及内表面的前级管道。前级管道由不锈钢制成。前级管道还包括第一部分，具有配置成耦合至处理腔室的第一端，第二部分，具有配置成耦合至阀门的第二端，以及涂层，设置在前级管道的内表面上。第一端包括第一凸缘。第二端包括第二凸缘。第一部分及第二部分耦合在一起。涂层具有约150纳米至约525纳米的厚度。

2、在另一个范例中，一种处理系统包括处理腔室、具有圆形横截面及内表面的前级管道以及阀门。前级管道由不锈钢制成。前级管道还包括第一部分，具有配置成耦合至处理腔室的第一端，第二部分，具有配置成耦合至阀门的第二端，以及涂层，设置在前级管道内表面上。第一端包括第一凸缘。第二端包括第二凸缘。第一部分及第二部分耦合在一起。涂层具有约150纳米至约525纳米的厚度。阀门直接耦合至第二凸缘。

3、在另一个范例中，一种清洁处理系统的方法包括：将含碳气体从处理腔室泵送出且至前级管道；从清洁气体产生自由基，并将自由基流至前级管道；以及当自由基流过前级管道时蚀刻沉积物。前级管道具有涂层，涂层包含氧化铝且具有约150纳米至525纳米的涂层厚度。

4、附图简要说明

5、为了更详细地理解本公开案的上述特征，可以参考实施方式对本公开案进行更详细的描述（已在上文简要概述），其中一些实施方式已在附图中示出。然而，需要注意的是，附图仅示出了范例性的实施方式，因此不应被视为对其范围的限制，并且允许其他均等效果的实施方式。

6、图1根据本公开案的某些方面，为范例性等离子体处理腔室的横截面示意图。

7、图2根据本公开案的某些方面，为耦合到节流阀的前级管道的横截面示意图。

8、图3根据本公开案的某些方面，为前级管道的示意侧视图。

9、图4根据本公开案的某些方面，为清洁处理系统的方法。

10、为了便于理解，尽可能使用相同的附图标记来表示图中相同的元件。可以设想，一个实施方式中的元件及特征可以有益地结合到其他实施方式中，而无需进一步详述。

11、图中所示的许多细节、尺寸、角度及其他特征仅用于说明特定实施方式。因此，其他实施方式可以具有其他细节、部件、尺寸、角度及特征，而不会悖离本公开案的精神或范围。此外，本公开案的其他实施方式可以在没有下文所述的数个细节的情况下实施。

1.一种处理腔室部件，所述处理腔室部件包含：

2.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述涂层包含铝或氧化铝。

3.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述涂层包含介于约200纳米及约475纳米之间的厚度。

4.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述前级管道包含不锈钢。

5.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述第一部分及所述第二部分在弯头处流体耦合在一起。

6.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述前级管道包含介于约0.045英寸至约0.94英寸之间的壁厚度。

7.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述第一凸缘具有设置在所述第一凸缘的周围四周的多个切口，所述多个切口的各者具有直接横跨所述第一凸缘的另一切口。

8.如权利要求1所述的处理腔室部件，其中所述第一部分的长度至少为所述第二部分的两倍，所述第一及第二部分通过弯头耦合。

9.一种处理系统，所述处理系统包含：

10.如权利要求9所述的处理系统，其中所述涂层包含铝或氧化铝。

11.如权利要求9所述的处理系统，其中所述涂层包含介于约200纳米及约475纳米之间的厚度。

12.如权利要求9所述的处理系统，其中所述前级管道包含不锈钢。

13.如权利要求9所述的处理系统，其中所述第一凸缘具有设置在所述第一凸缘的周围四周的多个切口，所述多个切口的各者具有直接横跨所述第一凸缘的另一切口。

14.如权利要求9所述的处理系统，其中所述阀门为蝶型阀门。

15.如权利要求9所述的处理系统，所述处理系统进一步包含加热器套，所述加热器套至少部分围绕所述前级管道。

16.一种清洁处理系统的方法，所述方法包含：

17.如权利要求16所述的方法，其中所述清洁气体含有氧。

18.如权利要求16所述的方法，其中所述前级管道包含不锈钢。

19.如权利要求16所述的方法，所述方法进一步包含：在将所述含碳气体泵送至所述前级管道中之后，从所述处理系统移除基板。

20.如权利要求16所述的方法，其中所述涂层包含铝或氧化铝，且所述涂层的厚度为介于约200纳米及约475纳米之间。