一种图案接地屏蔽结构、电感装置及成像装置的制作方法

本申请涉及电磁屏蔽，特别是一种图案接地屏蔽结构、电感装置及成像装置。

背景技术：

1、在磁共振成像等领域中，为实现特定部位（如腹部）的成像信噪比提升，相关方案多采用有线表面线圈阵列进行信号采集，然而该类线圈使用时需紧贴或近距离环绕目标部位，射频线圈与人体组织之间由此产生较强的电容性耦合。电容性耦合会在人体内产生附加射频电场，导致介电损耗与噪声增加而使信噪比下降，同时推高特定吸收率，存在热安全风险。

技术实现思路

1、本申请提供一种图案接地屏蔽结构、电感装置及成像装置，以解决相关技术中射频线圈与人体之间存在电容性耦合及热安全的技术问题。

2、为了解决上述技术问题，本申请提供一种图案接地屏蔽结构，该图案接地屏蔽结构应用于电感装置，图案接地屏蔽结构包括：基底和至少一个屏蔽单元。

3、其中，屏蔽单元设于基底上，每一屏蔽单元包括第一屏蔽单元和第二屏蔽单元，第一屏蔽单元包括多个沿第一方向间隔设置的导电条带，第二屏蔽单元包括多个沿第二方向间隔设置的导电条带，第二方向与第一方向相交，且每一导电条带在基底的正投影为矩形。

4、在一些实施例中，屏蔽单元的数量大于等于2，至少两个屏蔽单元层叠设置。

5、在一些实施例中，每一屏蔽单元包括两个第一屏蔽单元和两个第二屏蔽单元，两个第一屏蔽单元沿第二方向间隔排布，两个第二屏蔽单元沿第一方向间隔排布，且两个第一屏蔽单元与两个第二屏蔽单元围合形成一中央开口。

6、在一些实施例中，中央开口在基底的正投影为矩形。

7、在一些实施例中，第一屏蔽单元中每一导电条带的长度相同，第二屏蔽单元中每一导电条带的长度相同。

8、在一些实施例中，第一屏蔽单元中导电条带的长度与第二屏蔽单元中导电条带的长度相同。

9、在一些实施例中，第一屏蔽单元与第二屏蔽单元间隔设置。

10、为了解决上述技术问题，本申请还提供一种电感装置，该电感装置用于成像设备，成像设备包括电感装置及检测位，电感装置包括：射频线圈和上述图案接地屏蔽结构。

11、其中，射频线圈与检测位对应设置；图案接地屏蔽结构设于射频线圈与检测位之间。

12、在一些实施例中，图案接地屏蔽结构与检测位的垂直距离为1mm；图案接地屏蔽结构与射频线圈的垂直距离为5mm。

13、在一些实施例中，图案接地屏蔽结构中导电条带的长度小于射频线圈工作频率对应波长的二分之一。

14、为了解决上述技术问题，本申请还提供一种成像装置，成像装置包括上述电感装置及检测位。

15、区别于现有技术的情况，本申请的有益效果是：本申请提供的图案接地屏蔽结构包括间隔设置的导电条带，一方面，可以在不影响磁共振信号接收的前提下，削弱电容性耦合，实现接收链路信噪比的有效提升；另一方面，可以降低单位质量组织的射频功率吸收率，在确保图像质量的同时降低热安全风险；又一方面，可以有效抑制涡流路径的形成，避免屏蔽结构自身引入的额外损耗及其对主磁场的干扰。

1.一种图案接地屏蔽结构，应用于电感装置，其特征在于，所述图案接地屏蔽结构包括：

2.根据权利要求1所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，所述屏蔽单元的数量大于等于2，至少两个所述屏蔽单元层叠设置。

3.根据权利要求1所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，每一所述屏蔽单元包括两个所述第一屏蔽单元和两个所述第二屏蔽单元，两个所述第一屏蔽单元沿所述第二方向间隔排布，两个所述第二屏蔽单元沿所述第一方向间隔排布，且两个所述第一屏蔽单元与两个所述第二屏蔽单元围合形成一中央开口。

4.根据权利要求3所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，所述中央开口在所述基底的正投影为矩形。

5.根据权利要求1-4任一项所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，所述第一屏蔽单元中每一所述导电条带的长度相同，所述第二屏蔽单元中每一所述导电条带的长度相同。

6.根据权利要求5所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，所述第一屏蔽单元中所述导电条带的长度与所述第二屏蔽单元中所述导电条带的长度相同。

7.根据权利要求1-4任一项所述的图案接地屏蔽结构，其特征在于，所述第一屏蔽单元与所述第二屏蔽单元间隔设置。

8.一种电感装置，其特征在于，用于成像设备，所述成像设备包括所述电感装置及检测位，所述电感装置包括：

9.根据权利要求8所述的电感装置，其特征在于，所述图案接地屏蔽结构与所述检测位的垂直距离为1mm；

10.根据权利要求8所述的电感装置，其特征在于，所述图案接地屏蔽结构中导电条带的长度小于所述射频线圈工作频率对应波长的二分之一。

11.一种成像装置，其特征在于，包括权利要求8-10任一项所述的电感装置及检测位。