用于清洁气体的离心分离器的制作方法

技术特征：
1.一种用于清洁包含污染物的气体的离心分离器(1)，其包括静止壳(2)，所述静止壳(2)包围分离空间(3)，气流允许通过所述分离空间(3)，气体入口(20)，所述气体入口(20)延伸通过所述静止壳(2)且允许供应待清洁的所述气体，旋转部件(7)，所述旋转部件(7)包括布置在所述分离空间(3)中的多个分离部件(9)且布置成围绕旋转轴线(x)旋转，气体出口(28)，所述气体出口(28)构造成允许排出清洁的气体且包括通过所述静止壳(2)的壁的出口开口，排放出口(29)，所述排放出口(29)布置在所述静止壳(2)的下部部分(26)中且构造成允许排出从待清洁的所述气体中分离的液体污染物，驱动部件(22)，所述驱动部件(22)用于旋转所述旋转部件(7)；且其中所述离心分离器还包括延伸到所述分离空间(3)中的静止轴向表面(40)，且所述旋转部件(7)包括布置在所述静止轴向表面(40)的径向外侧的可旋转轴向表面(41)；且其中，所述可旋转轴向表面(41)布置在所述气体入口(20)处，使得存在于待清洁的所述气体中的液体污染物在操作(40)期间压靠所述可旋转轴向表面，且进一步其中所述旋转部件(7)包括边缘部分(44)，所述边缘部分(44)从所述可旋转轴向表面(41)径向向内延伸，使得所述可旋转轴向表面(41)布置在比所述边缘部分(44)的最内部部分更大的半径处，所述边缘部分(44)在所述旋转部件(7)和所述静止轴向表面(40)之间形成环状密封间隙(42)。2.根据权利要求1所述的离心分离器，其中，所述静止轴向表面(40)形成所述气体入口(20)的径向外表面。3.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述静止轴向表面(40)是圆柱形表面，且其中，所述可旋转轴向表面(41)与所述静止轴向表面(40)同心且从所述静止轴向表面(40)径向向外布置。4.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述旋转部件(7)包括中心空间(15)，待清洁的所述气体从所述入口(20)引导到所述中心空间(15)中，且其中，所述环状密封间隙(42)构造成用于使所述中心空间(15)从在所述旋转部件(7)径向外侧的空间密封。5.根据权利要求4所述的离心分离器，其中，所述可旋转轴向表面(41)是所述中心空间(15)的内表面。6.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述分离部件(9)是截头锥形分离盘的堆叠。7.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述分离部件(9)是布置在顶部盘(10)之下的分离盘的堆叠，且其中，所述可旋转轴向表面(41)是从所述顶部盘(10)的内部部分轴向延伸的边沿。8.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，从所述可旋转轴向表面径向向内延伸的所述边缘部分(44)布置在所述可旋转轴向表面(41)的轴向上部部分处。9.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述旋转部件还包括最上部的径向边缘(43)，且从所述可旋转轴向表面(41)径向向内延伸的所述边缘部分(44)布置为所述
最上部的径向边缘(43)的径向延伸部。10.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述边缘部分(44)从所述可旋转轴向表面(41)径向向内延伸一径向距离(d)，所述径向距离(d)小于5mm，诸如小于1mm。11.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述气体出口(28)布置在所述静止壳(2)的上部部分(27)中。12.根据权利要求11所述的离心分离器，其中，所述气体出口(28)布置在所述静止壳(2)的周围侧壁(4)的上部部分(27)中。13.根据任一前述权利要求所述的离心分离器，其中，所述气体入口(20)布置在所述静止壳(2)的上部部分(27)中。

技术总结
本发明提供用于清洁包含污染物的气体的离心分离器(1)。分离器包括：静止壳(2)，其包围分离空间(3)，气流允许通过该分离空间；气体入口(20)，其延伸通过静止壳(2)且允许供应待清洁的气体；旋转部件(7)，其包括布置在所述分离空间(3)中的多个分离部件(9)且布置成围绕旋转轴线(X)旋转；气体出口(28)，其构造成允许排出清洁的气体且包括通过静止壳(2)的壁的出口开口；排放出口(29)，其布置在静止壳(2)的下部部分(26)中且构造成允许排出从待清洁的气体中分离的液体污染物；驱动部件(22)，其用于使旋转部件(7)旋转。离心分离器还包括延伸到所述分离空间(3)中的静止轴向表面(40)，且所述旋转部件(7)包括布置在所述静止轴向表面(40)的径向外侧的可旋转轴向表面(41)；且其中，所述可旋转轴向表面(41)布置在气体入口(20)处，使得存在于待清洁的气体中的液体污染物在操作(40)期间压靠可旋转轴向表面，且进一步其中，所述旋转部件(7)包括边缘部分(44)，该边缘部分从所述可旋转轴向表面(41)径向向内延伸且在旋转部件(7)和静止轴向表面(40)之间形成环状密封间隙(42)。环状密封间隙(42)。环状密封间隙(42)。


技术研发人员：M-O
受保护的技术使用者：阿尔夫德珂斯股份公司
技术研发日：2021.11.02
技术公布日：2023/9/7