双能量成像设备和方法与流程

技术特征：
1.一种设备(100)，包括：检测器(101)，所述检测器(101)包括多个像素(201)，其中所述多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第一像素子集(202)和被配置为检测第二能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第二像素子集(203)，其中所述第二能量范围是所述第一能量范围的子范围；和处理单元(102)，所述处理单元(102)耦接至所述检测器(101)并且被配置为：从所述多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的所述信号获得所述多个像素中的每个像素的辐射强度值(404、501)；和使用所述第二像素子集中的至少一个像素的所获得的辐射强度值(404)和所述第一像素子集中的至少两个像素的所获得的辐射强度值(501)计算所述第二像素子集中的所述至少一个像素在所述第一能量范围内的辐射强度估算值(406)。2.根据权利要求1所述的设备(100)，其中所述处理单元(102)还被配置为通过执行以下操作来计算所述辐射强度估算值：计算所述多个像素中的多个像素对中的每个像素对(301)的衰减因子(401)，其中所述多个像素对中的每个像素对包括所述第一像素子集中的一个像素和所述第二像素子集中的一个像素；使用空间滤波器(402)和所述多个像素对的所述衰减因子(401)计算经滤波的衰减因子(403)；和使用所述第二像素子集中的所述至少一个像素的所获得的辐射强度值(404)和所述经滤波的衰减因子(403)计算在所述第一能量范围内的所述辐射强度估算值(406)。3.根据权利要求2所述的设备(100)，其中所述空间滤波器(402)包括空间低通滤波器、移动平均滤波器、移动中值滤波器、加权中值滤波器或高斯滤波器。4.根据任何前述权利要求所述的设备(100)，其中所述处理单元(102)还被配置为使用所述第一像素子集中的至少一个像素的所获得的辐射强度值(501)和所述第二像素子集中的至少两个像素的所获得的辐射强度值计算所述第一像素子集(202)中的至少一个像素在所述第二能量范围内的辐射强度估算值(502)。5.根据任何前述权利要求所述的设备(100)，其中所述检测器(101)还包括滤波器(205)，所述滤波器(205)被布置为阻止所述第二能量范围外的入射x-射线或γ射线辐射的至少一部分进入所述第二多个像素(203)。6.根据权利要求5所述的设备(100)，其中所述滤波器(205)还包括多个孔口，所述多个孔口被布置为允许所述入射x-射线或γ射线辐射进入所述第一多个像素(202)。7.根据任何前述权利要求所述的设备(100)，其中所述第一像素子集和所述第二像素子集在空间上排列成交替图案。8.一种双能量x-射线或γ射线成像装置，包括根据任何前述权利要求所述的设备(100)。9.一种使用包括多个像素的检测器进行成像的方法(1200)，其中所述多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第二像素子集，其中所述第二能量范围是所
述第一能量范围的子范围，所述方法包括：从所述多个像素中的每个像素获得(1201)信号；基于每个像素的所述信号获得(1202)所述多个像素中的每个像素的辐射强度值；使用所述第二像素子集中的至少一个像素的所获得的辐射强度值和所述第一像素子集中的至少两个像素的所获得的辐射强度值计算(1203)所述第二像素子集中的所述至少一个像素在所述第一能量范围内的辐射强度估算值。10.根据权利要求9所述的方法(1200)，其中所述计算(1203)所述辐射强度估算值包括：计算所述多个像素中的多个像素对中的每个像素对的衰减因子，其中所述多个像素对中的每个像素对包括所述第一像素子集中的一个像素和所述第二像素子集中的一个像素；使用空间滤波器和所述多个像素对的所述衰减因子计算经滤波的衰减因子；使用所述第二像素子集中的所述至少一个像素的所获得的辐射强度值和所述经滤波的衰减因子计算在所述第一能量范围内的所述辐射强度估算值。11.根据权利要求10所述的方法(1200)，其中所述空间滤波器包括空间低通滤波器、移动平均滤波器、移动中值滤波器、加权中值滤波器或高斯滤波器。12.根据权利要求9-11中任一项所述的方法(1200)，还包括使用所述第一像素子集中的所述至少一个像素的所计算的强度值和所述第二像素子集中的至少两个像素的所获得的辐射强度值计算所述第一像素子集中的至少一个像素在所述第二能量范围内的辐射强度估算值。13.一种计算机程序产品，包括被配置为当在计算机上执行所述计算机程序产品时执行根据权利要求9-12中任一项所述的方法的程序代码。

技术总结
目的是提供一种用于x-射线和/或γ射线检测的设备和方法。根据实施例，设备包括：检测器，该检测器包括多个像素，其中该多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射x-射线或γ射线辐射的第二像素子集；处理单元，该处理单元被配置为：从多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的信号获得多个像素中的每个像素的辐射强度值；计算第二像素子集中的至少一个像素在第一能量范围内的辐射强度估算值。提供了一种设备和方法。备和方法。备和方法。


技术研发人员：米科
受保护的技术使用者：芬兰探测技术股份有限公司
技术研发日：2021.09.28
技术公布日：2023/6/14