位置检测装置的制作方法

技术特征：
1.一种位置检测装置，其具备：光学反射元件，其设置为能够以旋转轴为中心旋转；位置检测用磁体，其设置在所述光学反射元件上，磁化方向与所述旋转轴的轴向平行；以及磁传感器，其被固定配置，能够对在所述光学反射元件旋转时进行相对移动的所述位置检测用磁体所施加的磁场进行检测，所述位置检测用磁体能够因所述光学反射元件的旋转而通过基准位置，该基准位置为从所述轴向观察下所述旋转轴、所述磁传感器的中心、所述位置检测用磁体的中心排列于一直线上时的位置，所述磁传感器配置于包含穿过位于所述基准位置的所述位置检测用磁体的中心的所述磁化方向、以及所述轴向的平面内。2.根据权利要求1所述的位置检测装置，其中，所述磁传感器具有构成电桥电路的多个磁阻效应元件。3.根据权利要求1或2所述的位置检测装置，其中，在从所述轴向观察下，将所述磁传感器的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l1，将所述位置检测用磁体的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l2，将所述位置检测用磁体的从所述基准位置起绕所述旋转轴的旋转角设为θ的情况下，满足－0.032
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θ 0.96≦l1/l2≦－0.022
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θ 1.0的关系。4.根据权利要求1或2所述的位置检测装置，其中，在从所述轴向观察下，将所述磁传感器的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l1，将所述位置检测用磁体的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l2，将所述位置检测用磁体的从所述基准位置起绕所述旋转轴的旋转角设为θ的情况下，满足－0.048
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θ 0.96≦l1/l2≦－0.032
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θ 0.96的关系。5.根据权利要求1或2所述的位置检测装置，其中，在从所述轴向观察下，将所述磁传感器的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l1，将所述位置检测用磁体的中心与所述旋转轴之间的最短距离设为l2，将所述位置检测用磁体的从所述基准位置起绕所述旋转轴的旋转角设为θ的情况下，满足0≦l1/l2≦－0.048
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θ 0.96的关系。

技术总结
磁传感器(7)能够对在光学反射元件旋转时进行相对移动的位置检测用磁体(6)所施加的磁场进行检测。位置检测用磁体(6)能够因光学反射元件的旋转而通过基准位置(B)，该基准位置(B)为从旋转轴(C)的轴向观察下旋转轴(C)、磁传感器(7)的中心(7c)、位置检测用磁体(6)的中心(6c)排列于直线上时的位置。磁传感器(7)配置于包含穿过位于基准位置(B)的位置检测用磁体(6)的中心(6c)的磁化方向(M)、以及旋转轴(C)的轴向的XZ平面内。(C)的轴向的XZ平面内。(C)的轴向的XZ平面内。


技术研发人员：杉本拓也 中村大佐 伊藤吉博
受保护的技术使用者：株式会社村田制作所
技术研发日：2021.05.31
技术公布日：2023/3/3