等离子体处理装置的制作方法

技术特征：
1.一种等离子体处理装置，其具有：真空容器；处理室，其配置于所述真空容器的内部；以及气体供给单元，其具备向所述处理室内供给低蒸气压气体的配管，以便在所述处理室内形成等离子体，其中，通过向所述配管的周围供给温度比常温高的空气，从而将在所述配管中通过的低蒸气压气体维持在气体状态。2.一种等离子体处理装置，其具有：真空容器；处理室，其配置于所述真空容器的内部；以及气体供给单元，其具备向所述处理室内供给处理用气体的处理用气体管线，以便在所述处理室内形成等离子体，其中，所述处理单元具有使多种气体各自按照种类流通的多个配管以及包围所述配管的箱体，向所述箱体供给已温度调节到规定的范围的空气。3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述处理单元具有：流量调节器，其对在所述配管的内部流动的气体的流量进行调节；以及汇合部，其通过多个所述配管以在所述流量调节器的下游侧的部位汇合的方式连接而成，所述箱体包围所述配管、所述流量调节器以及所述汇合部。4.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述箱体在沿排列方向夹着并列的多个所述配管的两侧的壁中的一方的壁具备将所述已温度调节的空气导入的导入口，在另一方的壁具备将所述箱体内的空气排出的排出口。5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中，所述导入口与所述排出口配置于所述箱体的对角位置。6.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体处理装置具有：第一箱体，其收容有包括使低蒸气压气体流通的配管在内的多个配管；以及第二箱体，其收容有使低蒸气压气体以外的气体流通的配管，在所述等离子体处理装置中，向所述第一箱体供给已温度调节的空气。7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，进入到所述第一箱体的多个所述配管汇合而与第一配管相连，进入到所述第二箱体的多个所述配管汇合而与第二配管相连，所述第一配管与所述第二配管进一步汇合并经由第三配管而与所述处理室相连。8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，从所述第一箱体到与所述第二配管的汇合部为止的所述第一配管的长度和从所述第二箱体到与所述第一配管的汇合部为止的所述第二配管的长度相等。9.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述等离子体处理装置具有：顶板，其构成所述真空容器的上盖；空洞容器，其形成为与所述顶板相接；以及加热器，其将从外部向所述空洞容器内供给的空气加热，通过所述空洞容器后的空气向所述箱体供给。10.根据权利要求9所述的等离子体处理装置，其中，
利用在所述处理室形成的等离子体加热所述顶板，由所述加热器进行的加热在所述等离子体的生成中断时进行。

技术总结
提供抑制运行成本并且安全性高的等离子体处理装置。等离子体处理装置具有：真空容器；处理室，其配置于所述真空容器的内部；以及气体供给单元，其具备向所述处理室内供给处理用气体的处理用气体管线，以便在所述处理室内形成等离子体，所述处理单元具有使多种气体各自按照种类流通的多个配管以及包围所述配管的箱体，向所述箱体供给已温度调节到规定的范围的空气。的空气。的空气。


技术研发人员：高尾祐介 矶村僚一 佐藤浩平
受保护的技术使用者：株式会社日立高新技术
技术研发日：2021.06.21
技术公布日：2023/2/23