技术特征：
1.一种用于从有机溶剂移除杂质的方法，包括：使所述有机溶剂通过包含吸附剂的至少一个塔，以移除所述有机溶剂中的水，使所述有机溶剂通过第一过滤器单元，其中所述第一过滤器单元包含第一壳体及所述第一壳体中的至少一个第一过滤器，且所述至少一个第一过滤器包含过滤介质；以及在蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂以获得经纯化有机溶剂；其中，所述第一过滤器单元在所述蒸馏塔与所述包含吸附剂的至少一个塔之间。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包含醇。3.如权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包含异丙醇。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述吸附剂包含分子筛、硅胶、活性氧化铝、活性炭或离子交换树脂。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质包含聚烯烃、聚酰胺、氟聚合物或其共聚物。6.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质包含高密度聚乙烯或聚四氟乙烯。7.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质具有约0.1μm至0.25μm的平均孔径。8.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一过滤器单元包含两个至五个所述第一过滤器。9.如权利要求8所述的方法，其中，所述第一过滤器并联连接。10.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器为粒子移除过滤器。11.如权利要求1所述的方法，还包括在所述蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂之前使所述有机溶剂再循环。12.如权利要求11所述的方法，其中，所述再循环包括将离开所述第一过滤器单元的所述有机溶剂移动至所述包含吸附剂的至少一个塔，且随后使所述有机溶剂通过所述包含吸附剂的至少一个塔及所述第一过滤器单元。13.如权利要求1所述的方法，还包括使所述有机溶剂通过所述蒸馏塔下游的第二过滤器单元，其中所述第二过滤器单元包含第二壳体及所述第二壳体中的至少一个第二过滤器，且所述至少一个第二过滤器包含过滤介质。14.如权利要求1所述的方法，还包括将所述经纯化溶剂移动至封装台。15.如权利要求1所述的方法，其中，所述经纯化有机溶剂具有至少约99.99％的纯度。16.如权利要求1所述的方法，其中，所述经纯化有机溶剂具有至多约100ppm的水分含量。17.一种系统，包含：包含吸附剂的至少一个塔，第一过滤器单元，其在所述包含吸附剂的至少一个塔下游且与所述包含吸附剂的至少一个塔成流体连通，其中所述第一过滤器单元包含第一壳体及所述第一壳体中的至少一个第一过滤器，且所述第一过滤器包含过滤介质；以及蒸馏塔，其在所述第一过滤器单元下游且与所述第一过滤器单元成流体连通。
技术总结
本公开涉及纯化溶剂的方法及系统。经纯化溶剂可用于在多步骤半导体制造过程中清洁半导体基板。导体基板。导体基板。
技术研发人员：爱德华多
受保护的技术使用者：富士胶片电子材料美国有限公司
技术研发日：2021.03.26
技术公布日：2023/2/13
再多了解一些
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