辐射线摄像装置以及辐射线检测器的制作方法

技术特征：
1.一种辐射线摄像装置，具备：辐射线源，对被摄体照射辐射线；多个检测元件模块，具有半导体层和光子计数电路，其中，所述半导体层对应于所述辐射线的光子的能量来生成电荷，所述光子计数电路按每个像素对所述电荷进行计数；和准直器，配置于所述辐射线源与所述半导体层之间，具有形成供所述辐射线通过的多个通过孔的多个壁，所述辐射线摄像装置的特征在于，在所述半导体层形成多个子像素，在将由所述准直器的壁划分的1个以上的子像素分组成宏像素时，从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素的尺寸小于从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素以外的宏像素的尺寸。2.根据权利要求1所述的辐射线摄像装置，其特征在于，从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸是等差数列。3.根据权利要求2所述的辐射线摄像装置，其特征在于，在尺寸小的宏像素的数量为n且所述检测元件模块之间的间隙为w时，将所述等差数列的差δ算出为δ＝w/(n
·
(n 1))。4.根据权利要求1所述的辐射线摄像装置，其特征在于，从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸是均等的。5.根据权利要求4所述的辐射线摄像装置，其特征在于，在尺寸小的宏像素的数量为n、所述检测元件模块之间的间隙为w、且尺寸为e的宏像素以外的宏像素的尺寸为x时，将从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸e算出为e＝(x-w/2)/n。6.根据权利要求1所述的辐射线摄像装置，其特征在于，在存在所述检测元件模块的内部的间隙即内部间隙的情况下，与所述内部间隙相邻的宏像素的尺寸比其旁边的宏像素的尺寸小。7.根据权利要求1所述的辐射线摄像装置，其特征在于，构成配置于所述检测元件模块的端部的尺寸小的多个宏像素的子像素的尺寸随着往端部去而按等差数列不断变小。8.根据权利要求1所述的辐射线摄像装置，其特征在于，构成配置于所述检测元件模块的端部的尺寸小的多个宏像素的子像素的尺寸是均等的。9.一种辐射线检测器，具备：具有半导体层和光子计数电路的多个检测元件模块，其中，所述半导体层对应于从辐射线源照射到被摄体的辐射线的光子的能量来生成电荷，所述光子计数电路按每个像素对所述电荷进行计数；和准直器，配置于所述辐射线源与所述半导体层之间，具有形成供所述辐射线通过的多个通过孔的多个壁，所述辐射线检测器的特征在于，在所述半导体层形成多个子像素，
在将由所述准直器的壁划分的1个以上的子像素分组成宏像素时，从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素的尺寸比从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素以外的宏像素的尺寸小。10.根据权利要求9所述的辐射线检测器，其特征在于，从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸是等差数列。11.根据权利要求10所述的辐射线检测器，其特征在于，在尺寸小的宏像素的数量为n且所述检测元件模块之间的间隙为w时，将所述等差数列的差δ算出为δ＝w/(n
·
(n 1))。12.根据权利要求9所述的辐射线检测器，其特征在于，从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸是均等的。13.根据权利要求12所述的辐射线检测器，其特征在于，在尺寸小的宏像素的数量为n、所述检测元件模块之间的间隙为w、且尺寸为e的宏像素以外的宏像素的尺寸为x时，将从所述检测元件模块的端部起排列的宏像素的尺寸e算出为e＝(x-w/2)/n。14.根据权利要求9所述的辐射线检测器，其特征在于，在存在所述检测元件模块的内部的间隙即内部间隙的情况下，与所述内部间隙相邻的宏像素的尺寸比其旁边的宏像素的尺寸小。15.根据权利要求9所述的辐射线检测器，其特征在于，构成配置于所述检测元件模块的端部的尺寸小的多个宏像素的子像素的尺寸随着往端部去而按等差数列不断变小。16.根据权利要求9所述的辐射线检测器，其特征在于，构成配置于所述检测元件模块的端部的尺寸小的多个宏像素的子像素的尺寸是均等的。

技术总结
本发明提供辐射线摄像装置以及辐射线检测器，即使是光子入射率高的情况，也能充分减小像素间的灵敏度差异。辐射线摄像装置具备：辐射线源，对被摄体照射辐射线；具有半导体层和光子计数电路的多个检测元件模块，其中，所述半导体层对应于所述辐射线的光子的能量来生成电荷，所述光子计数电路按每个像素对所述电荷进行计数；和准直器，配置于所述辐射线源与所述半导体层之间，具有形成供所述辐射线通过的多个通过孔的多个壁，在所述半导体层形成多个子像素，在将由所述准直器的壁划分的1个以上的子像素分组成宏像素时，从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素的尺寸比从所述检测元件模块的端部起的多个宏像素以外的宏像素的尺寸小。素的尺寸小。素的尺寸小。


技术研发人员：小野内雅文 石津崇章
受保护的技术使用者：富士胶片医疗健康株式会社
技术研发日：2022.05.10
技术公布日：2023/3/10