一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

洁净室中的保护性供气系统及提供保护性气流的方法与流程

2023-03-03 09:59:11 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种用于控制洁净室中供气气流的保护性供气系统,其中所述洁净室包括易遭污染的洁净区(1),所述保护性供气系统包括:第一供气扩散器(2)和第二供气扩散器(3),所述第一供气扩散器(2)和所述第二供气扩散器(3)布置于所述洁净区(1)的相对侧的所述洁净室的天花板(4)内,并与所述洁净室的侧壁间隔开,其中每个所述供气扩散器被配置为扩散:第一气流(5),所述第一气流(5)具有第一气流体积al/s,沿着所述洁净室的天花板(4)被导向所述洁净区(1),并且第二气流(6),所述第二气流(6)具有第二气流体积bl/s,沿着所述洁净室的天花板(4)被导向所述洁净室的周围,控制器(7),所述控制器(7)连接到所述供气扩散器,其中,所述控制器(7)被配置为调节所述第一气流体积a和所述第二气流体积b以及所述第一气流体积a和所述第二气流体积b的比例。2.根据权利要求1所述的保护性供气系统,其特征在于,组合气流体积a b可在70l/s至200l/s之间调节。3.根据权利要求1或2所述的保护性供气系统,其特征在于,所述控制器(7)被配置为在100:0至0:100之间调节所述第一气流体积a与所述第二气流体积b的比例。4.根据前述权利要求中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,所述控制器(7)被配置为在隔离模式和正常患者模式之间切换。5.根据权利要求4所述的保护性供气系统,其特征在于,在所述正常患者模式下,所述第二气流体积b是0l/s并且所述第一气流体积a大于0l/s。6.根据权利要求4或5所述的保护性供气系统,其特征在于,在所述隔离模式下,所述第一气流体积a与所述第二气流体积b的比例为1:1。7.根据权利要求4或5所述的保护性供气系统,其特征在于,在所述隔离模式下,所述第一气流体积a与所述正常患者模式下的所述第一气流体积a相同,而所述第二气流体积b增加。8.根据权利要求4至7中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,在正常患者模式下,组合气流体积为70l/s。9.根据权利要求4至8中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,在隔离模式下,组合气流体积为200l/s。10.根据前述权利要求中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,每个所述供气扩散器上设有多个喷嘴(8)。11.根据前述权利要求中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,至少一些所述喷嘴(8)是可关闭的。12.根据前述权利要求中任意一项所述的保护性供气系统,其特征在于,所述供气扩散器(2、3)包括用于将被扩散为第一气流(5)的空气和将被扩散为第二气流(6)的空气的分开的腔室。13.一种用于在洁净室中提供保护性气流的方法,其特征在于,所述洁净室包括易遭污染的洁净区(1),所述方法包括以下步骤:具有正常患者模式,其中
从第一供气扩散器(2)和第二供气扩散器(3)扩散第一气流(5),所述第一供气扩散器(2)和第二供气扩散器(3)布置于所述洁净区(1)的相对侧的所述洁净室的天花板(4)内,每个所述第一气流沿着所述天花板(4)并朝向彼此地被导向所述洁净区(1),使得所述第一气流(5)和第二气流(6)被布置成在所述洁净区(1)内碰撞,使得组合气流(11)被导向所述洁净区(1)的地板并且所述洁净区被所述组合气流(11)冲洗;启动隔离模式,其中,除了所述正常患者模式之外,从所述第一供气扩散器(2)和所述第二供气扩散器(3)扩散第二气流(6),每个所述第二气流(6)被导向所述洁净室的周围并且与来自同一供气扩散器(2、3)的所述第一气流方向相反。14.根据权利要求13所述的用于在所述洁净室中提供保护性气流的方法,其特征在于,在正常患者模式下提供70l/s的供气气流体积a b。15.根据权利要求14所述的用于在所述洁净室中提供保护性气流的方法,其特征在于,当隔离模式启动时,将供气气流体积a b增加到200l/s。16.根据权利要求13至15所述的用于在所述洁净室中提供保护性气流的方法,其特征在于,在100:0至0:100之间调整第一气流体积a与第二气流体积b的比例。

技术总结
一种用于控制洁净室中供气气流的保护性供气系统,其中所述洁净室包括易遭污染的洁净区(1),所述保护性供气系统包括第一供气扩散器(2)和第二供气扩散器(3),所述第一供气扩散器(2)和所述第二供气扩散器(3)布置于洁净区(1)的相对侧的所述洁净室的天花板(4)内,并与所述洁净室的侧壁间隔开,其中每个所述供气扩散器上设有多个喷嘴(8),喷嘴(8)被配置为扩散第一气流(5)和第二气流(6),所述第一气流(5)具有第一气流体积A l/s,沿着所述洁净室的天花板(4)被导向所述洁净区(1),所述第二气流(6)具有第二气流体积B l/s,沿着所述洁净室的天花板(4)被导向所述洁净室的周围,控制器(7),所述控制器(7)连接到所述供气扩散器,其中,所述控制器(7)被配置为调节所述第一气流体积A和所述第二气流体积B以及所述第一气流体积A和所述第二气流体积B的比例。体积A和所述第二气流体积B的比例。体积A和所述第二气流体积B的比例。


技术研发人员:K
受保护的技术使用者:霍尔顿公司
技术研发日:2021.06.14
技术公布日:2023/2/24
再多了解一些

本文用于创业者技术爱好者查询,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献